阵列基板和显示装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种阵列基板、显示装置以及阵列基板的制造方法。所述阵列基板包括：在所述介质层上的像素定义层，所述像素定义层限定所述阵列基板的多个像素区；设置在所述多个像素区中的所述介质层上的发光器件，所述发光器件包括从底部到顶部依次设置的第一电极、发光层、第二电极，其中，所述多个像素区中的至少一个像素区具有邻近所述像素定义层的非发光区域，所述非发光区域处的所述介质层具有凹槽，所述阵列基板还包括：位于所述非发光区域中并延伸到所述凹槽中的遮光部。

Array substrate and display device

The utility model relates to an array substrate, a display device and a manufacturing method for an array substrate. The array substrate includes: a pixel definition layer on the dielectric layer, which defines a plurality of pixel areas of the array substrate; a light-emitting device arranged on the dielectric layer in the plurality of pixel areas, which comprises a first electrode, a light-emitting layer, and a second arranged sequentially from the bottom to the top. An electrode, wherein at least one pixel region in the plurality of pixel regions has a non-luminous region adjacent to the pixel definition layer, the medium layer at the non-luminous region has a groove, and the array substrate also includes a light-shielding portion located in the non-luminous region and extending into the groove.

【技术实现步骤摘要】
阵列基板和显示装置
本技术涉及显示
更具体地，涉及一种阵列基板和显示装置。
技术介绍
随着显示技术的急速进步，作为显示装置核心的半导体元件技术也随之得到了飞跃性的进步。对于现有的显示装置而言，有机发光二极管(OLED)作为一种电流型发光器件，因其所具有的自发光、快速响应、宽视角和可制作在柔性衬底上等特点而越来越多地被应用于高性能显示领域当中。
技术实现思路
本技术的实施例提供了一种阵列基板、显示装置以及阵列基板的制造方法。本技术的一个目的在于提供一种阵列基板。本技术的第一方面提供了一种阵列基板。所述阵列基板包括：衬底，所述衬底具有多个像素区；设置在所述多个像素区中发光器件，其中，所述多个像素区中的至少一个像素区具有位于其周边部分的凹槽和位于所述凹槽中的遮光部，所述凹槽的底表面的沿垂直于所述衬底的表面的方向上的高度低于所述发光器件的发光层的沿垂直于所述衬底的表面的方向上的高度。在一个实施例中，所述发光器件包括从底部到顶部依次设置的第一电极、发光层和第二电极，其中，所述第二电极具有延伸到所述凹槽中的延伸部分，所述第二电极的延伸部分作为所述遮光部。在一个实施例中，所述发光层和所述第二电极共同延伸，且覆盖所述凹槽。在一个实施例中，所述凹槽的底表面与所述第一电极的底表面沿垂直于所述衬底的表面的方向上的距离D具有以下范围：其中，B为所述发光层的厚度，A为所述多个像素区之间沿平行于所述衬底的表面的方向上的间距。在一个实施例中，所述凹槽位于所述衬底中。在一个实施例中，所述阵列基板还包括位于所述发光器件和所述衬底之间的介质层，所述凹槽位于所述介质层中。在一个实施例中，所述阵列基板还包括位于邻近的像素区之间的像素定义层，所述发光层和所述第二电极还覆盖所述像素定义层。在一个实施例中，所述至少一个像素区包括白色子像素区，所述多个像素区还包括与所述白色子像素区邻近的彩色子像素区。在一个实施例中，所述第二电极为反射电极。在一个实施例中，所述发光层发射白光，其中，所述彩色子像素区还包括形成在所述衬底和所述介质层之间的色阻。本技术的另一个目的在于提供一种显示装置。本技术的第二方面提供了一种显示装置。所述显示装置包括如上所述的阵列基板。附图说明为了更清楚地说明本技术的实施例的技术方案，下面将对实施例的附图进行简要说明，应当知道，以下描述的附图仅仅涉及本技术的一些实施例，而非对本技术的限制，其中：图1(A)为根据本技术的实施例的阵列基板的示意图；图1(B)和图1(C)为1(A)的阵列基板的沿AA’面截取的截面示意图；图2为根据本技术的实施例的阵列基板的示意图；图3为根据本技术的实施例的阵列基板的示意图；图4为根据本技术的实施例的阵列基板的示意图；图5为根据本技术的实施例的阵列基板的制造方法的流程示意图；图6(A)-6(E)为根据本技术的一个实施例的形成发光器件的方法的流程示意图；图7(A)-7(G)为根据本技术的一个实施例的阵列基板的制造方法的流程示意图；图7为根据本技术的实施例的阵列基板的制造方法的流程示意图；图8为根据本技术的一个实施例的阵列基板的制造方法的流程示意图。图9为根据本技术的一个实施例的显示装置的示意图。具体实施方式为了使本技术的实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将接合附图，对本技术的实施例的技术方案进行清楚、完整的描述。显然，所描述的实施例是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本技术的实施例，本领域技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，也都属于本技术保护的范围。当介绍本技术的元素及其实施例时，冠词“一”、“一个”、“该”和“所述”旨在表示存在一个或者多个要素。用语“包含”、“包括”、“含有”和“具有”旨在包括性的并且表示可以存在除所列要素之外的另外的要素。出于下文表面描述的目的，如其在附图中被标定方向那样，术语“上”、“下”、“左”、“右”“垂直”、“水平”、“顶”、“底”及其派生词应涉及技术。术语“上覆”、“在……顶上”、“定位在……上”或者“定位在……顶上”意味着诸如第一结构的第一要素存在于诸如第二结构的第二要素上，其中，在第一要素和第二要素之间可存在诸如界面结构的中间要素。术语“接触”意味着连接诸如第一结构的第一要素和诸如第二结构的第二要素，而在两个要素的界面处可以有或者没有其它要素。图1(A)为根据本技术的实施例的阵列基板的示意图。图1(B)和图1(C)为1(A)的阵列基板的沿AA’面截取的截面示意图。如图1(A)和图1(B)所示，根据本技术的实施例的阵列基板包括：衬底10，其中，衬底10具有多个像素区PR；设置在多个像素区中的发光器件13。其中，多个像素区中的至少一个像素区具有位于其周边部分PR1的凹槽14和位于凹槽14中的遮光部15，该凹槽14的底表面的沿垂直于衬底10的表面的方向上的高度低于发光器件13的发光层132的沿垂直于衬底10的表面的方向上的高度。在传统的OLED像素结构中，存在相邻两个像素之间存在横向漏光的漏光问题。而本技术的实施例通过设置遮光部，可以解决该横向漏光的问题，并且对开口率影响小。需要指出，虽然图1(A)以一个像素区的两侧都设置有凹槽为示例，也可以根据实际需要设置凹槽的数目和位置。例如，可以在多个像素区处设置有凹槽。对于一个像素区，也可以仅在其一侧设置凹槽，或者如图1(C)所示，在该像素区的周围设置凹槽。如图1(A)所示，阵列基板还可以包括位于邻近的像素区之间的像素定义层12，像素定义层可限定阵列基板的多个像素区。以下将以阵列基板包括像素定义层为示例进行说明。图2为根据本技术的实施例的阵列基板的示意图。如图2所示，在一个实施例中，发光器件13可以包括从底部到顶部依次设置的第一电极131、发光层132和第二电极133。第二电极133具有延伸到凹槽14中的部分133E，该延伸部分133E作为遮光部。通过将第二电极的一部分用作遮光部，在实现横向遮光、减少像素之间的横向漏光的同时，对开口率影响小，且工艺较为简单。根据本技术的实施例，凹槽可以形成在衬底10中，如图1和2所示。然而，在一个实施例中，如图3和4所示，阵列基板还可以包括位于发光器件和衬底之间的介质层11，凹槽可以位于介质层中11。如图3所示，在一个实施例中，发光层132还可以和第二电极133共同延伸，并且覆盖凹槽14和与凹槽14邻近的像素定义层12。通过这样的设置，不会增加额外的构图步骤，降低制造成本。在该实施例中，凹槽的深度D可以具有以下范围：其中，B为发光层的厚度，A为多个像素区之间的沿平行于衬底的表面方向上的间距。如图3中对虚线部的放大图所示，将横向漏光的光线的漏光角标记为θ。横向漏光多数集中在θ为[0,60°]的方向。一方面，θ在超过约60°的角度时，漏出的光对相邻像素的影响很小，可以忽略。由于tanθ＝C/(A+B)且θ≤60°，因此，另一方面，如果确保第二电极位于凹槽中以实现横向遮光功能，则需要凹槽的深度大于发光层的厚度B。从而，可以将凹槽的深度D设置为具有以下范围：(A+B)。通过这样的凹槽深度范围设置，可以较好地实现防止漏光的效果本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，包括：衬底，所述衬底具有多个像素区；设置在所述多个像素区中发光器件，其中，所述多个像素区中的至少一个像素区具有位于其周边部分的凹槽和位于所述凹槽中的遮光部，所述凹槽的底表面的沿垂直于所述衬底的表面的方向上的高度低于所述发光器件的发光层的沿垂直于所述衬底的表面的方向上的高度。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括：衬底，所述衬底具有多个像素区；设置在所述多个像素区中发光器件，其中，所述多个像素区中的至少一个像素区具有位于其周边部分的凹槽和位于所述凹槽中的遮光部，所述凹槽的底表面的沿垂直于所述衬底的表面的方向上的高度低于所述发光器件的发光层的沿垂直于所述衬底的表面的方向上的高度。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述发光器件包括从底部到顶部依次设置的第一电极、发光层和第二电极，其中，所述第二电极具有延伸到所述凹槽中的延伸部分，所述第二电极的延伸部分作为所述遮光部。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其中，所述发光层和所述第二电极共同延伸，且覆盖所述凹槽。4.根据权利要求3所述的阵列基板，其中，所述凹槽的底表面与所述第一电极的底表面沿垂直于所述衬底的表面的方向上的距离D具有以下范围：其中，B为所述发光层的厚度，A为所述多个像素区之间沿平行于所述衬底的...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡友元，王欣竹，吴新风，栾梦雨，李菲，李慧慧，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34