成像装置和电子设备制造方法及图纸

本技术涉及一种可以减少有机材料不均匀涂布的固态成像装置、制造固态成像装置的方法和电子设备。所述固态成像装置包括：基板中的有效像素区域，有效像素配置在所述有效像素区域中；所述有效像素区域周围的配线区域，电极或配线设置在所述配线区域中；所述配线区域外侧的周边区域；和在所述基板上形成的膜。所述膜在所述有效像素区域中的截面高度小于所述膜在所述配线区域中的截面高度，并且所述膜在所述周边区域中的截面高度和所述膜在夹于所述有效像素区域和所述配线区域之间的中间区域的至少更靠近所述配线区域的部分中的截面高度处于所述膜在所述有效像素区域中的截面高度和所述膜在所述配线区域中的截面高度之间。本技术可以适用于例如背面照射型CMOS图像传感器。

【技术实现步骤摘要】
成像装置和电子设备本申请是申请日为2014年3月12日、专利技术名称为“固态成像装置、其制造方法和电子设备”的申请号为201480012222.3专利申请的分案申请。
本技术涉及固态成像装置、制造固态成像装置的方法和电子设备。更具体地，本技术涉及一种可以减少有机材料不均匀涂布的固态成像装置、制造固态成像装置的方法和电子设备。
技术介绍
近年来，已经提出了具有三维结构的背面照射型固态成像装置，其中在其上形成有驱动电路的电路基板从其上形成有包括光电转换单元的像素的半导体基板的光接收面贴附到相对面上(参见，例如，专利文献1)。这种具有三维结构的固态成像装置包括用于将半导体基板和电路基板电气连接在一起的连接电极。图1是示出常规的具有三维结构的背面照射型固态成像装置的构成例的断面图。在图1中，电路基板11和半导体基板12贴合在一起，并且通过连接电极13电气连接在一起。此外，绝缘膜14形成在半导体基板12的光接收面侧(图1中的上侧)。在图1所示的固态成像装置中，绝缘膜14形成为使得设置有多个像素的像素区域的横截面的高度(以下，称作“截面高度”)和作为设置有连接电极13的配线区域的外侧的周边区域的横截面的高度低于配线区域的横截面的高度。这样，通过减小像素区域的轮廓，感度特性或混色特性可以得到改善。此外，通过减小周边区域的轮廓，在周边区域中的电路配线或对准标记的配置方面的约束可以缓和，并且在基板上的应力可以减小。引用文献列表专利文献专利文献1：JP2011-96851A
技术实现思路
技术问题然而，当将诸如滤色片(CF)材料等有机材料涂布到图1所示的固态成像装置时，由于周边区域和配线区之间的高度差或者配线区域和像素区域之间的高度差，可能会发生有机材料的不均匀涂布。有鉴于这种情况，完成了本技术，以减少有机材料的不均匀涂布。问题的解决方案根据本技术的第一方面，提供了一种固态成像装置，包括：基板中的有效像素区域，有效像素配置在所述有效像素区域中；所述有效像素区域周围的配线区域，电极或配线设置在所述配线区域中；所述配线区域外侧的周边区域；和在所述基板上形成的膜。所述膜在所述有效像素区域中的截面高度小于所述膜在所述配线区域中的截面高度，并且所述膜在所述周边区域中的截面高度和所述膜在夹于所述有效像素区域和所述配线区域之间的中间区域的至少更靠近所述配线区域的部分中的截面高度处于所述膜在所述有效像素区域中的截面高度和所述膜在所述配线区域中的截面高度之间。所述膜在所述中间区域中的台阶部可以比所述中间区域的宽度的中心更靠近所述有效像素区域。所述膜在所述中间区域中的台阶部可以比所述中间区域的宽度的中心更靠近所述配线区域。所述膜在所述中间区域中的台阶部、在所述中间区域和所述配线区域之间的台阶部和/或在所述配线区域和所述周边区域之间的台阶部的平面形状可以具有呈圆角形状或斜面形状的至少一个角部。在所述膜上与所述配线区域邻近的邻近区域中，所述配线区域可以形成有使所述邻近区域具有与所述配线区域大致相同的截面高度的高度调整元件。所述高度调整元件可以在所述周边区域和/或所述中间区域中形成在所述邻近区域中。当所述配线区域的平面形状具有至少一个间隙时，所述高度调整元件可以被形成为连接所述间隙。所述高度调整元件可以使得所述邻近区域的截面高度与所述配线区域的截面高度大致相同或者大于或等于所述配线区域的截面高度，并且使得包括至少所述配线区域的区域的截面高度大于所述邻近区域的截面高度。所述高度调整元件的平面形状可以具有呈圆角形状或斜面形状的至少一个角部。截面高度小于所述有效像素区域的截面高度的凹部可以形成在所述膜的在所述中间区域中与所述有效像素区域具有相同截面高度的区域中。截面高度与所述有效像素区域相同的凹部可以形成在所述膜的在所述中间区域中与所述周边区域具有相同截面高度的区域中。还可以包括在所述有效像素区域中的遮光膜，所述遮光膜具有对应于所述各有效像素的光电转换单元的开口。所述膜在所述有效像素区域中的截面高度可以小于所述遮光膜的截面高度。根据本技术的第一方面，提供了一种制造固态成像装置的方法，所述固态成像装置包括基板中的有效像素区域，有效像素配置在所述有效像素区域中，所述有效像素区域周围的配线区域，电极或配线设置在所述配线区域中，所述配线区域外侧的周边区域，和在所述基板上形成的膜，所述方法包括以下步骤：使所述膜在所述有效像素区域中的截面高度小于所述膜在所述配线区域中的截面高度，并且使所述膜在所述周边区域中的截面高度和所述膜在夹于所述有效像素区域和所述配线区域之间的中间区域的至少更靠近所述配线区域的部分中的截面高度处于所述膜在所述有效像素区域中的截面高度和所述膜在所述配线区域中的截面高度之间。根据本技术的第一方面，提供了一种电子设备，包括：固态成像装置，包括基板中的有效像素区域，有效像素配置在所述有效像素区域中，所述有效像素区域周围的配线区域，电极或配线设置在所述配线区域中，所述配线区域外侧的周边区域，和在所述基板上形成的膜，其中所述膜在所述有效像素区域中的截面高度小于所述膜在所述配线区域中的截面高度，并且所述膜在所述周边区域中的截面高度和所述膜在夹于所述有效像素区域和所述配线区域之间的中间区域的至少更靠近所述配线区域的部分中的截面高度处于所述膜在所述有效像素区域中的截面高度和所述膜在所述配线区域中的截面高度之间；和处理从所述固态成像装置输出的输出信号的信号处理电路。根据本技术的第一方面，在所述基板上形成的所述膜在所述有效像素区域中的截面高度小于所述膜在所述配线区域中的截面高度，并且所述膜在所述周边区域中的截面高度和所述膜在夹于所述有效像素区域和所述配线区域之间的中间区域的至少更靠近所述配线区域的部分中的截面高度处于所述膜在所述有效像素区域中的截面高度和所述膜在所述配线区域中的截面高度之间。根据本技术的第二方面，提供了一种固态成像装置，包括：基板中的有效像素区域，有效像素配置在所述有效像素区域中；所述有效像素区域周围的配线区域，电极或配线设置在所述配线区域中；所述配线区域外侧的周边区域；和在所述基板上形成的膜。所述膜在所述有效像素区域和所述周边区域中的截面高度小于所述膜在所述配线区域中的截面高度。在所述膜上与所述配线区域邻近的邻近区域中，形成有使所述邻近区域具有与所述配线区域大致相同的截面高度的高度调整元件。所述高度调整元件可以在所述周边区域和/或所述有效像素区域中形成在所述邻近区域中。当所述配线区域的平面形状具有至少一个间隙时，所述高度调整元件可以被形成为连接所述间隙。所述高度调整元件可以使得所述邻近区域的截面高度与所述配线区域的截面高度大致相同或者大于或等于所述配线区域的截面高度，并且使得包括至少所述配线区域的区域的截面高度大于所述邻近区域的截面高度。所述高度调整元件的平面形状可以具有呈圆角形状或斜面形状的至少一个角部。截面高度小于所述有效像素区域的截面高度的凹部可以形成在所述膜的夹于所述有效像素区域和所述配线区域之间的中间区域中。还可以包括在所述有效像素区域中的遮光膜，所述遮光膜具有对应于所述各有效像素的光电转换单元的开口。所述膜在所述有效像素区域中的截面高度可以小于所述遮光膜的截面高度。根据本技术的第二方面，提供了一种制造固态成像装置的方法，所述固态本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种成像装置，其包括：基板，所述基板包括有效像素区域和光学黑区，所述有效像素区域包括多个有效像素，所述光学黑区位于所述有效像素区域外侧；以及膜，所述膜设置在所述基板上，所述膜具有在所述有效像素区域的至少一部分中的第一区域和在所述光学黑区的至少一部分中的第二区域，其中，所述膜在所述第一区域中的第一厚度比所述膜在所述第二区域中的第二厚度薄，且其中，在平面图中，所述膜的至少一个角部在所述第一区域和所述第二区域之间具有圆角形状。

【技术特征摘要】
2013.03.25 JP 2013-062018;2013.10.24 JP 2013-221091.一种成像装置，其包括：基板，所述基板包括有效像素区域和光学黑区，所述有效像素区域包括多个有效像素，所述光学黑区位于所述有效像素区域外侧；以及膜，所述膜设置在所述基板上，所述膜具有在所述有效像素区域的至少一部分中的第一区域和在所述光学黑区的至少一部分中的第二区域，其中，所述膜在所述第一区域中的第一厚度比所述膜在所述第二区域中的第二厚度薄，且其中，在平面图中，所述膜的至少一个角部在所述第一区域和所述第二区域之间具有圆角形状。2.根据权利要求1所述的成像装置，其中，所述膜由有机材料形成。3.根据权利要求1所述的成像装置，其中，所述膜由氧化硅形成。4.根据权利要求1所述的成像装置，其中，所述膜在所述第一区域和所述第二区域之间存在台阶部，所述台阶部靠近所述有效像素区域。5.根据权利要求1所述的成像装置，其还包括：配线区域，所述配线区域位于所述光学黑区的外侧。6.根据权利要求5所述的成像装置，其中，所述膜在所述第一区域和所述第二区域之间存在台阶部，所述台阶部靠近所述配线区域。7.根据权利要求5所述的成像装置，其中，所述膜具有在所述配线区域中的第三区域，所述膜在所述第三区域中的第三厚度比所述第一厚度和所述第二厚度厚。8.根据权利要求7所述的成像装置，其中，在所述平面图中，所述膜的至少一个角部在所述第二区域和所述第三区域之间具有圆角形状或斜面形状。9.根据权利要求7所述的成像装置，其还包括：周边区域，所述周边区域位于所述配线区域的外侧，其中，所述膜具有在所述周边区...

【专利技术属性】
技术研发人员：桝田佳明，渡边一史，水田恭平，井上启司，内田博久，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：日本,JP