The invention relates to a solid-state imaging device, a manufacturing method of a solid-state imaging device and an electronic device capable of suppressing color mixing deterioration while improving sensitivity. The solid-state imaging device comprises a substrate, a first photoelectric conversion region disposed in the substrate, a second photoelectric conversion region disposed in the substrate, a groove disposed between the first photoelectric conversion region and the second photoelectric conversion region, and a first moth-eye structure disposed on the substrate. On the light receiving side above the first photoelectric conversion region, on the light receiving side above the second photoelectric conversion region, on the second moth-eye structure, on the light receiving side above the second photoelectric conversion region, on the first flat part arranged on the substrate, the first flat part between the groove and the first moth-eye structure, and The second flat part is arranged on the substrate, and the second flat part is between the groove and the second moth eye structure.
【技术实现步骤摘要】
固态成像器件、固态成像器件的制造方法及电子装置本申请是申请日为2014年6月20日、专利技术名称为“固态成像器件、固态成像器件的制造方法及电子装置”的申请号为201480028257.6专利申请的分案申请。
本专利技术涉及固态成像器件、固态成像器件的制造方法以及电子装置,并具体地涉及能够在抑制混色恶化的同时提高灵敏度的固态成像器件、固态成像器件的制造方法以及电子装置。
技术介绍
在固态成像器件中,已经提出了所谓的蛾眼结构(moth-eyestructure)以作为用于防止入射光反射的结构,在蛾眼结构中,在形成有光电二极管的硅层的处于光接收表面侧的界面上设置微细凸凹结构(例如,参见专利文献1和2)。引用文献列表专利文献专利文献1:日本专利申请特开第2010-272612号专利文献2:日本专利申请特开第2013-33864号
技术实现思路
本专利技术要解决的问题然而,能够通过防止入射光反射来提高灵敏度的蛾眼结构还会引起更大的漫射,使得大量的光泄漏到邻近像素中,并因而使混色恶化。本专利技术是考虑到这种情况而提出的,且本专利技术的目的在于在抑制混色劣化的同时提高灵敏度。问题的解决方案根据本专利技术的第一方面的固态成像器件包括:具有蛾眼结构的防反射部,其设置在处于二维地布置的每个像素的光电转换区域的光接收表面侧的界面上;以及用于以阻挡入射光的像素间遮光部,其设置在所述防反射部的所述界面下方。根据本专利技术的第二方面的固态成像器件的制造方法包括:在处于二维地布置的每个像素的光电转换区域的光接收表面侧的界面上形成具有蛾眼结构的防反射部;以及在所述防反射部的所述界面下方形成用 ...
【技术保护点】
1.一种固态成像器件,其包括:基板;第一光电转换区域,其设置在所述基板中;第二光电转换区域,其设置在所述基板中;沟槽,其布置在所述第一光电转换区域和所述第二光电转换区域之间;第一蛾眼结构,其在所述基板的布置在所述第一光电转换区域上方的光接收侧上;第二蛾眼结构,其在所述基板的布置在所述第二光电转换区域上方的光接收侧上;第一平坦部,其布置在所述基板上,所述第一平坦部位于所述沟槽和所述第一蛾眼结构之间;以及第二平坦部,其布置在所述基板上,所述第二平坦部位于所述沟槽和所述第二蛾眼结构之间。
【技术特征摘要】
2013.07.03 JP 2013-139830;2014.05.20 JP 2014-104161.一种固态成像器件,其包括:基板;第一光电转换区域,其设置在所述基板中;第二光电转换区域,其设置在所述基板中;沟槽,其布置在所述第一光电转换区域和所述第二光电转换区域之间;第一蛾眼结构,其在所述基板的布置在所述第一光电转换区域上方的光接收侧上;第二蛾眼结构,其在所述基板的布置在所述第二光电转换区域上方的光接收侧上;第一平坦部,其布置在所述基板上,所述第一平坦部位于所述沟槽和所述第一蛾眼结构之间;以及第二平坦部,其布置在所述基板上,所述第二平坦部位于所述沟槽和所述第二蛾眼结构之间。2.如权利要求1所述的固态成像器件,其中,所述沟槽在剖视图中沿所述基板的深度方向延伸,且所述第一平坦部和所述第二平坦部具有与垂直于所述深度方向的方向平行的表面。3.如权利要求1所述的固态成像器件,其还包括:第一像素,其包括所述第一光电转换区域、所述第一蛾眼结构和所述第一平坦部;以及第二像素,其包括所述第二光电转换区域、所述第二蛾眼结构和所述第二平坦部,并与所述第一像素相邻。4.如权利要求3所述的固态成像器件,其中,所述第一像素包括布置在所述第一蛾眼结构上方的第一滤色器;且所述第二像素包括布置在所述第二蛾眼结构上方的第二滤色器。5.如权利要求3所述的固态成像器件,其中,所述第一蛾眼结构包括以所述第一平坦部为基准的至少两个凹部,且所述第二蛾眼结构包括以所述第二平坦部为基准的至少两个凹部。6.如权利要求4所述的固态成像器件,其中,在剖视图中,与所述第一平坦部平行的方向上的所述蛾眼结构的宽度是与所述第一平坦部平行的方向上的所述第一滤色器的宽度的80%。7.如权利要求1所述的固态成像器件,其还包括:第一绝缘膜,其布置在所述沟槽中。8.如权利要求7所述的固态成像器件,其中,所述第一绝缘膜的折射率小于所述基板的材料的折射率。9.如权利要求7所述的固态成像器件,其中,所述第一绝缘膜是氧化物。10.如权利要求7所述的固态成像器件,其中,所述第一绝缘膜包括硅。11.如权利要求7所述的固态成像器件,其中,所述第一绝缘膜是氧化硅。12.如权利要求7所述的固态成像器件,其还包括:第二绝缘膜,其布置在所述基板和所述第一绝缘膜之间。13.如权利要求1所述的固态成像器件,其还包括:第二绝缘膜,其在剖视图中接触所述沟槽的侧壁。14.如权利要求12所述的固态成像器件,其中,所述第二绝缘膜是氧化物。15.如权利要求12所述的固态成像器件,其中,所述第二绝缘膜具有负固定电荷。16.如权利要求12所述的固态成像器件,其中,所述第二绝缘膜是氧化铪。17.如权利要求12所述的固态成像器件,其中,在剖视图中,所述第二绝缘膜布置在所述第一蛾眼结构和所述第二蛾眼结构上方,且所述第二绝缘膜布置为沿着所述第一蛾眼结构和所述第二蛾眼结构。18.如权利要求12所述的固态成像器件,其中,在剖视图中,与所述第二绝缘膜相比,所述第一绝缘膜布置在所述沟槽的更内侧。19.如权利要求18所述的固态成像器件,其还包括第三绝缘膜,其在剖视图中布置在所述第一绝缘膜和所述第二绝缘膜之间。20.如权利要求19所述的固态成像器件,其中,所述第三绝缘膜是氧化物。21.如权利要求19所述的固态成像器件,其中,所述第三绝缘膜是氧化钽。22.如权利要求19所述的固态成像器件,其中,在剖视图中,所述第三绝缘膜布置在所述第一蛾眼结构和所述第二蛾眼结构上方,且所述第三绝缘膜布置为沿着所述第一蛾眼结构和所述第二蛾眼结构。23.如权利要求22所述的固态成像器件,其中,所述第二绝缘膜在剖视图中布置在所述第一蛾眼结构和所述第三绝缘膜之间以及所述第二蛾眼结构与所述第三绝缘膜之间。24.如权利要求1所...
【专利技术属性】
技术研发人员:桝田佳明,宫波勇树,阿部秀司,平野智之,山口征也,蛯子芳树,渡边一史,荻田知治,
申请(专利权)人:索尼公司,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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