掩模装置及其操作方法、蒸镀装置制造方法及图纸

技术编号:18967984 阅读:24 留言:0更新日期:2018-09-19 01:51
一种掩模装置及其操作方法、蒸镀装置,该掩模装置包括掩模板和至少一个可转动块。掩模板在第一方向上具有彼此相对的第一侧边和第二侧边,可转动块设置在掩模板的第一侧边和第二侧边的至少一个侧边且能够与掩模板的板面相接触。可转动块可在垂直于掩模板板面的平面内旋转并与掩模板的板面产生摩擦,从而使得掩模板的边缘部分受到远离掩模板中心方向的摩擦力。

Mask device, operation method and evaporation device thereof

A mask device, its operation method and evaporation plating device comprising a mask and at least one rotatable block are provided. The mask has a first side edge and a second side edge opposite each other in the first direction, and the rotatable block is disposed at least one side edge of the first side edge and the second side edge of the mask and can be in contact with the plate surface of the mask. The rotatable block can rotate in the plane perpendicular to the mask plate surface and produce friction with the mask plate surface, so that the edge of the mask plate is subjected to friction away from the center of the mask.

【技术实现步骤摘要】
掩模装置及其操作方法、蒸镀装置
本专利技术的实施例涉及一种掩模装置及其操作方法、蒸镀装置。
技术介绍
有机发光显示装置具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点,因此成为一种重要的显示技术。有机发光显示装置可以采用喷墨打印、蒸镀等方法进行制备。蒸镀方法具有操作简单、膜厚容易控制以及易于实现掺杂等优点。在使用薄膜蒸镀制备有机发光显示装置的过程中,为了在像素区域等特定位置蒸镀特定的材料,通常需要使用蒸镀掩模板。蒸镀掩模板上通常包括多个掩模开口,在蒸镀时以蒸镀掩模板的多个掩模开口为掩模,可在蒸镀基板上形成具有相应图案的薄膜。
技术实现思路
本专利技术至少一个实施例提供一种掩模装置,该掩模装置包括掩模板和至少一个可转动块。掩模板在第一方向上具有彼此相对的第一侧边和第二侧边;可转动块设置在所述掩模板的所述第一侧边和所述第二侧边的至少一个侧边且能够与所述掩模板的板面相接触;其中,所述可转动块可在垂直于所述掩模板板面的平面内旋转并与所述掩模板的板面产生摩擦,从而使得所述掩模板的边缘部分受到远离所述掩模板中心方向的摩擦力。例如,本专利技术一实施例提供的掩模装置还包括磁吸附装置,其中,所述磁吸附装置配置为对所述可转动块施加磁力;所述可转动块在所述磁力的作用下可在垂直于所述掩模板板面的平面内旋转。例如,在本专利技术一实施例提供的掩模装置中,所述磁吸附装置与所述可转动块位于所述掩模板的不同侧。例如,在本专利技术一实施例提供的掩模装置中,所述可转动块的材料包括因瓦合金、镍铁合金。例如,在本专利技术一实施例提供的掩模装置中,所述可转动块与所述掩模板板面相接触的一面为粗糙表面。例如,在本专利技术一实施例提供的掩模装置中,所述可转动块与所述掩模板板面相接触的一面的材料的摩擦系数大于所述可转动块未与所述掩模板板面相接触的表面的材料的摩擦系数。例如,在本专利技术一实施例提供的掩模装置中,所述可转动块与所述掩模板板面相接触的一面的形状为弧形面,且所述弧形面为非对称弧形面。例如,在本专利技术一实施例提供的掩模装置中,所述可转动块的弧形面朝向所述掩模板的一侧凸出。例如,在本专利技术一实施例提供的掩模装置中,所述可转动块还包括转轴,所述可转动块可围绕所述转轴的轴线在垂直于所述掩模板板面的平面内旋转并与所述掩模板的板面产生摩擦。例如,在本专利技术一实施例提供的掩模装置中,所述转轴设置在所述可转动块的内部,且与所述可转动块同步旋转。例如,本专利技术一实施例提供的掩模装置还包括第一机械驱动机构,其中,所述第一机械驱动机构包括凸轮机构,所述凸轮机构配置为可驱动所述转轴旋转,从而使得所述可转动块可在垂直于所述掩模板板面的平面内旋转。例如,本专利技术一实施例提供的掩模装置还包括限位挡片,其中,所述限位挡片配置为限定所述转轴的旋转角度。例如,在本专利技术一实施例提供的掩模装置中,所述转轴设置在所述可转动块的通孔中,且所述可转动块可围绕所述转轴旋转。例如,本专利技术一实施例提供的掩模装置还包括第二机械驱动机构,其中,所述第二机械驱动机构配置为可驱动所述转轴在垂直于所述掩模板的方向上移动,以使所述可转动块与所述掩模板的板面相接触。例如,在本专利技术一实施例提供的掩模装置中,所述掩模板与所述可转动块相接触的侧边区域为粗糙表面。例如,在本专利技术一实施例提供的掩模装置中,所述掩模板还具有在第二方向上彼此相对的第三侧边和第四侧边,且所述可转动块设置在所述掩模板的所述第一侧边、所述第二侧边、所述第三侧边、所述第四侧边中的至少两个侧边上。例如,本专利技术一实施例提供的掩模装置还包括多条遮挡条,其中,所述可转动块为所述多条遮挡条中靠近所述掩模板边缘一侧的遮挡条。本专利技术至少一个实施例提供一种掩模装置的操作方法,该操作方法包括:控制所述可转动块的旋转以张紧所述掩模板。本专利技术至少一个实施例提供一种蒸镀装置,该蒸镀装置包括本专利技术任一实施例的掩模装置。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案,下面将对实施例的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅涉及本专利技术的一些实施例,而非对本专利技术的限制。图1为一种掩模装置的剖面结构示意图;图2A为本专利技术一实施例提供的一种掩模装置的平面结构示意图;图2B为沿图2A中的A-A’线剖取的一种掩模装置的剖面结构示意图;图2C为本专利技术一实施例的第一示例提供的一种掩模装置的剖面结构示意图;图2D为本专利技术一实施例提供的一种机械驱动机构的局部结构示意图;图2E-图2F为本专利技术一实施例提供的一种机械机构的局部结构示意图;图2G为本专利技术一实施例提供的另一种机械驱动机构的局部结构示意图;图2H为本专利技术一实施例提供的一种掩模装置的局部平面结构示意图;图3A为本专利技术一实施例的第二示例提供的一种掩模装置的剖面结构示意图;图3B为本专利技术一实施例的第三示例提供的一种掩模装置的剖面结构示意图;图4A为本专利技术另一实施例的第一示例提供的一种掩模装置的平面结构示意图;图4B为本专利技术另一实施例的第二示例提供的一种掩模装置的平面结构示意图;图5为本专利技术再一实施例提供的一种掩模装置的操作方法的框图;图6为本专利技术再一实施例提供的一种蒸镀装置的示意图。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本专利技术实施例的附图,对本专利技术实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本专利技术的实施例,本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。除非另外定义,本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本专利技术所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。同样,“一个”、“一”或者“该”等类似词语也不表示数量限制,而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而是可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系,当被描述对象的绝对位置改变后,则该相对位置关系也可能相应地改变。蒸镀方法是薄膜沉积常用的方法之一,在薄膜蒸镀过程中,通常会使用掩模装置。有机发光二极管显示面板由于具有自主发光、功耗低、显示亮度高、宽视角、响应速度快等一系列的优点,越来越受到市场的欢迎。例如,有机发光二极管显示面板中的有机发光层,例如通常可以通过蒸镀的方法形成。例如,目前一种掩模装置的剖面结构示意图如图1所示,该掩模装置10例如包括掩模板11、遮挡条12、磁吸附装置15等结构。图1中示出的仅为靠近掩模板11边缘附近的一条遮挡条12,实际上掩模装置10例如通常包括多条遮挡条12,多条遮挡条12例如通常彼此具有一定间隔地设置在掩模板11上,且遮挡条12与磁吸附装置15位于掩模板11的不同侧。当使用该掩模装置10对待要蒸镀的对象例如蒸镀基板13进行蒸镀时,将掩模板11设置在蒸镀基板13的蒸镀面一侧,蒸镀源16通过掩模装置10将待要蒸镀的材料蒸镀到蒸镀基板13的蒸镀面上。例如,通常在蒸镀基板13和磁吸附装置15之间还可以设置本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模装置,包括:掩模板,具有在第一方向上彼此相对的第一侧边和第二侧边;至少一个可转动块,能够与在所述掩模板的所述第一侧边和所述第二侧边的至少一个侧边的掩模板的板面相接触;其中,所述可转动块可在垂直于所述掩模板板面的平面内旋转并与所述掩模板的板面产生摩擦,从而使得所述掩模板的边缘部分受到远离所述掩模板中心方向的摩擦力。

【技术特征摘要】
1.一种掩模装置,包括:掩模板,具有在第一方向上彼此相对的第一侧边和第二侧边;至少一个可转动块,能够与在所述掩模板的所述第一侧边和所述第二侧边的至少一个侧边的掩模板的板面相接触;其中,所述可转动块可在垂直于所述掩模板板面的平面内旋转并与所述掩模板的板面产生摩擦,从而使得所述掩模板的边缘部分受到远离所述掩模板中心方向的摩擦力。2.如权利要求1所述的掩模装置,还包括磁吸附装置,其中,所述磁吸附装置配置为对所述可转动块施加磁力;所述可转动块在所述磁力的作用下可在垂直于所述掩模板板面的平面内旋转。3.如权利要求2所述的掩模装置,其中,所述磁吸附装置位于所述掩模板背离所述可转动块的一侧。4.如权利要求2所述的掩模装置,其中,所述可转动块的材料包括因瓦合金、镍铁合金。5.如权利要求1所述的掩模装置,其中,所述可转动块与所述掩模板板面相接触的一面为粗糙表面。6.如权利要求5所述的掩模装置,其中,所述可转动块与所述掩模板板面相接触的一面的材料的摩擦系数大于所述可转动块未与所述掩模板板面相接触的表面的材料的摩擦系数。7.如权利要求1所述的掩模装置,其中,所述可转动块与所述掩模板板面相接触的一面的形状为弧形面,且所述弧形面为非对称弧形面。8.如权利要求7所述的掩模装置,其中,所述可转动块的弧形面朝向所述掩模板的一侧凸出。9.如权利要求1所述的掩模装置,其中,所述可转动块还包括转轴,所述可转动块可围绕所述转轴的轴线在垂直于所述掩模板板面的平面内旋转并与所述掩模板的板面产生摩擦...

【专利技术属性】
技术研发人员:申少雄
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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