A mask device, its operation method and evaporation plating device comprising a mask and at least one rotatable block are provided. The mask has a first side edge and a second side edge opposite each other in the first direction, and the rotatable block is disposed at least one side edge of the first side edge and the second side edge of the mask and can be in contact with the plate surface of the mask. The rotatable block can rotate in the plane perpendicular to the mask plate surface and produce friction with the mask plate surface, so that the edge of the mask plate is subjected to friction away from the center of the mask.
【技术实现步骤摘要】
掩模装置及其操作方法、蒸镀装置
本专利技术的实施例涉及一种掩模装置及其操作方法、蒸镀装置。
技术介绍
有机发光显示装置具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点,因此成为一种重要的显示技术。有机发光显示装置可以采用喷墨打印、蒸镀等方法进行制备。蒸镀方法具有操作简单、膜厚容易控制以及易于实现掺杂等优点。在使用薄膜蒸镀制备有机发光显示装置的过程中,为了在像素区域等特定位置蒸镀特定的材料,通常需要使用蒸镀掩模板。蒸镀掩模板上通常包括多个掩模开口,在蒸镀时以蒸镀掩模板的多个掩模开口为掩模,可在蒸镀基板上形成具有相应图案的薄膜。
技术实现思路
本专利技术至少一个实施例提供一种掩模装置,该掩模装置包括掩模板和至少一个可转动块。掩模板在第一方向上具有彼此相对的第一侧边和第二侧边;可转动块设置在所述掩模板的所述第一侧边和所述第二侧边的至少一个侧边且能够与所述掩模板的板面相接触;其中,所述可转动块可在垂直于所述掩模板板面的平面内旋转并与所述掩模板的板面产生摩擦,从而使得所述掩模板的边缘部分受到远离所述掩模板中心方向的摩擦力。例如,本专利技术一实施例提供的掩模装置还包括磁吸附装置,其中,所述磁吸附装置配置为对所述可转动块施加磁力;所述可转动块在所述磁力的作用下可在垂直于所述掩模板板面的平面内旋转。例如,在本专利技术一实施例提供的掩模装置中,所述磁吸附装置与所述可转动块位于所述掩模板的不同侧。例如,在本专利技术一实施例提供的掩模装置中,所述可转动块的材料包括因瓦合金、镍铁合金。例如,在本专利技术一实施例提供的掩模装置中,所述可转动块与所述掩模板板面相接触的一面为粗糙表面 ...
【技术保护点】
1.一种掩模装置,包括:掩模板,具有在第一方向上彼此相对的第一侧边和第二侧边;至少一个可转动块,能够与在所述掩模板的所述第一侧边和所述第二侧边的至少一个侧边的掩模板的板面相接触;其中,所述可转动块可在垂直于所述掩模板板面的平面内旋转并与所述掩模板的板面产生摩擦,从而使得所述掩模板的边缘部分受到远离所述掩模板中心方向的摩擦力。
【技术特征摘要】
1.一种掩模装置,包括:掩模板,具有在第一方向上彼此相对的第一侧边和第二侧边;至少一个可转动块,能够与在所述掩模板的所述第一侧边和所述第二侧边的至少一个侧边的掩模板的板面相接触;其中,所述可转动块可在垂直于所述掩模板板面的平面内旋转并与所述掩模板的板面产生摩擦,从而使得所述掩模板的边缘部分受到远离所述掩模板中心方向的摩擦力。2.如权利要求1所述的掩模装置,还包括磁吸附装置,其中,所述磁吸附装置配置为对所述可转动块施加磁力;所述可转动块在所述磁力的作用下可在垂直于所述掩模板板面的平面内旋转。3.如权利要求2所述的掩模装置,其中,所述磁吸附装置位于所述掩模板背离所述可转动块的一侧。4.如权利要求2所述的掩模装置,其中,所述可转动块的材料包括因瓦合金、镍铁合金。5.如权利要求1所述的掩模装置,其中,所述可转动块与所述掩模板板面相接触的一面为粗糙表面。6.如权利要求5所述的掩模装置,其中,所述可转动块与所述掩模板板面相接触的一面的材料的摩擦系数大于所述可转动块未与所述掩模板板面相接触的表面的材料的摩擦系数。7.如权利要求1所述的掩模装置,其中,所述可转动块与所述掩模板板面相接触的一面的形状为弧形面,且所述弧形面为非对称弧形面。8.如权利要求7所述的掩模装置,其中,所述可转动块的弧形面朝向所述掩模板的一侧凸出。9.如权利要求1所述的掩模装置,其中,所述可转动块还包括转轴,所述可转动块可围绕所述转轴的轴线在垂直于所述掩模板板面的平面内旋转并与所述掩模板的板面产生摩擦...
【专利技术属性】
技术研发人员:申少雄,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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