The invention provides a manufacturing method and product of an OLED product, which includes: step 1, providing an ITO substrate; step 2, etching the first ITO layer on the ITO substrate to form an ITO anode layer; step 3, fabricating a Mo alloy layer on the ITO anode layer, and fabricating a second ITO layer on the other side of the ITO substrate; step 4, fabricating a second ITO layer on the ITO substrate; Two ITO layers are etched to form a first ITO touch layer; step 5, a first Mo/Al/Mo pattern layer is fabricated and etched on the first ITO touch layer; step 6, a hard protective layer is fabricated on the first ITO touch layer and the first Mo/Al/Mo pattern layer; step 7, the Mo alloy layer is removed; step 8, the ITO anode layer is fabricated and etched. Second Mo/Al/Mo pattern layer; step 9: OLED functional layer and metal cathode layer are made. The invention can solve the problem of poor compatibility between the existing technical scheme of adding auxiliary metals and the Mo alloy protection scheme in the production process of OLED products adopting ON CELL technology, and can effectively improve the product quality and production efficiency.
【技术实现步骤摘要】
一种OLED产品的制作方法和OLED产品
本专利技术涉及了显示
,特别是涉及了一种OLED产品的制作方法和OLED产品。
技术介绍
ONCELL技术是OLED产品集成触摸功能的最佳解决方案之一,该技术将ITO触摸层设置在OLED产品的出光面表面上,在刻蚀ITO触摸层的触摸图案时需要先将基板背面上的ITO阳极层保护起来,常用的保护方法是在ITO阳极层上丝印或者粘贴一层保护膜。这类保护方法虽然设备和制程都相对简单,但容易产生残胶、ITO阳极层被压伤等问题,且在蚀刻完ITO触摸层之后需要手动撕掉保护膜,因而不利于工艺的自动化和高世代产线的量产。现也有采用Mo合金来做保护的技术方案,能够有效提高生产效率,但是现有的采用Mo合金保护方案的OLED产品形成的触控电极仅有ITO触摸层,电阻较大,使得报点率下降且难以获取高灵敏度;为了解决ITO触摸层电阻大的问题可以采用加辅助金属的技术方案,但是现有的加辅助金属的技术方案与Mo合金保护方案制程兼容性差,使得产品质量低且生产效率低。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是能够解决现有的采用ONCELL技术的OLED产品制作过程中加辅助金属的技术方案与Mo合金保护方案制程兼容性差的问题,能够有效提高产品质量和生产效率。为解决上述技术问题,本专利技术提供了一种OLED产品的制作方法,包括以下步骤:步骤1、提供一ITO基板;步骤2、采用ITO刻蚀液对所述ITO基板上的第一ITO层进行刻蚀,制作阳极图案,形成ITO阳极层;步骤3、在所述ITO阳极层上制作Mo合金层,在所述ITO基板的另一面上制作第二ITO层;步骤4、采用IT ...
【技术保护点】
1.一种OLED产品的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、提供一ITO基板;步骤2、采用ITO刻蚀液对所述ITO基板上的第一ITO层进行刻蚀,制作阳极图案,形成ITO阳极层;步骤3、在所述ITO阳极层上制作Mo合金层,在所述ITO基板的另一面上制作第二ITO层;步骤4、采用ITO刻蚀液对所述第二ITO层进行刻蚀,制作第一触摸图案,形成第一ITO触摸层;步骤5、在所述第一ITO触摸层上制作面阻小于第一ITO触摸层的第一Mo/Al/Mo层并采用酸刻液刻蚀形成第一Mo/Al/Mo图案层;步骤6、在所述第一ITO触摸层和第一Mo/Al/Mo图案层上制作硬质保护层;步骤7、采用酸刻液去除所述Mo合金层;步骤8、在所述ITO阳极层上制作第二Mo/Al/Mo层并采用酸刻液刻蚀形成第二Mo/Al/Mo图案层;步骤9:依次在所述ITO阳极层上制作OLED功能层和金属阴极层。
【技术特征摘要】
1.一种OLED产品的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、提供一ITO基板;步骤2、采用ITO刻蚀液对所述ITO基板上的第一ITO层进行刻蚀,制作阳极图案,形成ITO阳极层;步骤3、在所述ITO阳极层上制作Mo合金层,在所述ITO基板的另一面上制作第二ITO层;步骤4、采用ITO刻蚀液对所述第二ITO层进行刻蚀,制作第一触摸图案,形成第一ITO触摸层;步骤5、在所述第一ITO触摸层上制作面阻小于第一ITO触摸层的第一Mo/Al/Mo层并采用酸刻液刻蚀形成第一Mo/Al/Mo图案层;步骤6、在所述第一ITO触摸层和第一Mo/Al/Mo图案层上制作硬质保护层;步骤7、采用酸刻液去除所述Mo合金层;步骤8、在所述ITO阳极层上制作第二Mo/Al/Mo层并采用酸刻液刻蚀形成第二Mo/Al/Mo图案层;步骤9:依次在所述ITO阳极层上制作OLED功能层和金属阴极层。2.根据权利要求1所述的OLED产品的制作方法,其特征在于,所述第二ITO层的厚度小于500Å。3.根据权利要求1所述的OLED产品的制作方法,其特征在于,所述ITO刻蚀液为包括HNO3、HCL和H2O的混合液,其中,HCL的质量浓度为36~38%,HNO3的质量浓度为...
【专利技术属性】
技术研发人员:罗志猛,赵云,
申请(专利权)人:信利半导体有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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