一种彩膜盖板、OLED显示面板及其制作方法技术

技术编号:18946692 阅读:22 留言:0更新日期:2018-09-15 12:24
本申请实施例提供一种彩膜盖板、OLED显示面板及其制作方法,涉及显示技术领域,能够解决从盖板一侧对封框胶进行照射时,黑矩阵对光线遮挡导致封框胶固化不完全的问题。该彩膜盖板包括衬底基板以及设置于衬底基板上的彩膜层和黑矩阵。其中,构成黑矩阵的材料为不可逆热致变色材料,不可逆热致变色材料受热后由透光状态转变为非透光状态。上述彩膜盖板用于与OLED显示基板对盒并进行封装。

A color film cover plate, OLED display panel and its making method

The embodiment of the application provides a color film cover plate, an OLED display panel and a manufacturing method thereof. The invention relates to the display technical field, and solves the problem of incomplete curing of the sealing glue caused by the black matrix when the sealing glue is irradiated from one side of the cover plate. The color film cover plate comprises a substrate substrate and a color film layer and a black matrix arranged on the substrate substrate. Among them, the material constituting the black matrix is irreversible thermochromic material, and the irreversible thermochromic material changes from light transmittance to non-light transmittance when heated. The color film cover plate is used for packaging with OLED display substrate.

【技术实现步骤摘要】
一种彩膜盖板、OLED显示面板及其制作方法
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种彩膜盖板、OLED显示面板及其制作方法。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode,OLED)显示器,尤其是顶发射OLED显示器,由于具有更高的开口率等优点而越来越多地被应用于高性能显示领域当中。顶发射OLED显示器中,白光OLED器件的发光侧设置了具有彩膜的盖板,以进行滤色来实现全色域显示。在封装的过程中,可以使用封装胶对盖板和OLED基板进行粘合,然后对封装胶进行光照固化。由于顶发射OLED器件中下方的电极为反射阳极,所以光照固化时需要从盖板所在的一侧对封框胶进行照射。然而,由于盖板上还设置有黑矩阵(BlackMatrix,BM),黑矩阵会对光线进行遮挡,从而使得封框胶不能充分的接受光照,导致封框胶固化不完全,影响了封装效果。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种彩膜盖板、OLED显示面板及其制作方法,能够解决从盖板一侧对封框胶进行照射时,黑矩阵对光线遮挡导致封框胶固化不完全的问题。为达到上述目的,本专利技术的实施例采用如下技术方案:本申请实施例的一方面,提供一种彩膜盖板,包括衬底基板以及设置于所述衬底基板上的彩膜层和黑矩阵;其中,构成所述黑矩阵的材料为不可逆热致变色材料,所述不可逆热致变色材料受热后由透光状态转变为非透光状态。可选的,所述彩膜盖板还包括第一平坦层;所述第一平坦层位于所述黑矩阵背离所述衬底基板的一侧,且所述第一平坦层覆盖所述彩膜层和所述黑矩阵。可选的,所述彩膜盖板还包括透明的绝热层;所述绝热层位于所述第一平坦层靠近所述衬底基板的一侧,且所述绝热层覆盖所述彩膜层和所述黑矩阵。可选的,所述彩膜盖板还包括第二平坦层;所述第二平坦层位于所述绝热层靠近所述衬底基板的一侧,且所述第二平坦层覆盖所述彩膜层和所述黑矩阵。可选的,所述第一平坦层、所述第二平坦层的覆盖面积大于所述绝热层的覆盖面积。可选的,所述第二平坦层的厚度大于所述第一平坦层的厚度。可选的,构成所述黑矩阵的材料包括:三芳甲烷类结晶紫内酯及其衍生物、磷钼酸铵、二氯化一氯五氨合钴中的至少一种,与可溶性树脂、光敏树脂中的至少一种的混合物。本申请实施例的另一方面,提供一种OLED显示面板,包括OLED基板以及如上所述的任意一种彩膜盖板;所述OLED基板包括阵列排布的OLED器件,所述OLED器件发白光。本申请实施例的又一方面,提供一种OLED显示面板的制作方法,包括制作OLED基板的方法;所述制作方法还包括:在衬底基板上,通过构图工艺制作彩膜层和黑矩阵;在制作有所述彩膜层和所述黑矩阵的所述衬底基板上,通过成膜工艺形成覆盖所述彩膜层和所述黑矩阵的透明的绝热层;在制作有所述绝热层的所述衬底基板上,通过成膜工艺形成第一平坦层,完成彩膜盖板的制作;在所述彩膜盖板的所述第一平坦层的表面涂覆封框胶,并将所述彩膜盖板与所述OLED基板压合;在所述彩膜盖板的衬底基板一侧,对所述封框胶进行光照固化;在所述彩膜盖板的衬底基板一侧,对所述黑矩阵进行加热,使得所述黑矩阵由透光状态转变为非透光状态。可选的,在衬底基板上,通过构图工艺制作彩膜层和黑矩阵之后,在制作有所述彩膜层和所述黑矩阵的所述衬底基板上,通过成膜工艺形成绝热层之前,所述制作方法还包括:在制作有所述彩膜层和所述黑矩阵的所述衬底基板上,过成膜工艺形成覆盖所述彩膜层和所述黑矩阵的第二平坦层;所述第一平坦层和所述第二平坦层的覆盖范围大于所述绝热层。由上述可知,一方面、本申请实施例提供的彩膜盖板中,黑矩阵在未加热时能够处于透光状态,在此情况下,可以将涂覆有封框胶的上述彩膜盖板与OLED基板压合,然后从该彩膜盖板一侧对封框胶进行光照固化。由于此时黑矩阵未受热,因此上述UV光可以透过黑矩阵照射至该黑矩阵下方的封框胶,从而使得封框胶各处均能够受到UV光的照射,从而能够提高封框胶的固化均匀性,有利于提升封装效果。另一方面,上述黑矩阵在加热状态下,颜色能够加深从而由透光状态转变为非透光状态,因此可以在封框胶固化后,由该彩膜盖板一侧对黑矩阵进行加热,使其颜色变深,最终达到防止不同颜色的光线相互串扰的目的。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种彩膜盖板的结构示意图;图2为采用图1所示的彩膜盖板与OLED基板进行封装过程的一种示意图;图3为采用图1所示的彩膜盖板与OLED基板进行封装过程的另一种示意图;图4为本专利技术实施例提供的另一种彩膜盖板涂覆有封框胶的结构示意图;图5为采用图4所示的彩膜盖板与OLED基板进行封装过程的一种示意图;图6为本申请实施例提供的一种OLED显示面板的制作方法流程图。附图标记:01-彩膜盖板;02-OLED基板;03-封框胶;10-衬底基板;20-彩膜层;201-滤光结构;30-黑矩阵;40-绝热层;41-第一平坦层;42-第二平坦层。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。本申请实施例提供一种彩膜盖板01,如图1所示,包括衬底基板10以及设置于衬底基板10上的彩膜层20和黑矩阵30。基于此,构成黑矩阵30的材料为不可逆热致变色材料,该不可逆热致变色材料受热后由透光状态转变为非透光状态。例如,构成所述黑矩阵30的材料可以包括:三芳甲烷类结晶紫内酯及其衍生物、磷钼酸铵、二氯化一氯五氨合钴中的至少一种,与可溶性树脂、光敏树脂中的至少一种的混合物。其中,上述可溶性树脂可以为丙烯酸碱、聚酰亚胺碱等可溶性树脂。而光敏树脂可以为有机硅或有机氟光敏树脂。在此情况下,上述三芳甲烷类结晶紫内酯及其衍生物、磷钼酸铵、二氯化一氯五氨合钴中的至少一种可以构成添加剂颜料。该添加剂颜料能够在未加热时处于透光状态,且其在180℃~250℃的条件下加热时,颜色会加深,从而转变成非透光的状态。此外,上述溶性树脂、光敏树脂中的至少一种可以构成成膜主体材料,使得将上述添加剂颜料混合与该成膜主体材料中后,能够形成具有该添加剂材料的薄膜层,并经过构图工艺形成黑矩阵30的图案。此外,上述彩膜层20可以包括多个滤光结构201,每个滤光结构201与显示面板中的一个亚像素的位置相对应。相邻的至少三个亚像素构成一个像素单元,同一像素单元中不同的亚像素所对应的滤光结构201发出光线的颜色不相同,且同一像素单元中各个亚像素所对应的滤光结构201发出光线的颜色混合后为白光。在此情况下,为了避免相邻两个滤光结构201之间出现串色,可以将上述黑矩阵30设置于相邻两个滤光结构201之间。需要说明的是,本申请实施例中,构图工艺,可指包括光刻工艺,或,包括光刻工艺以及刻蚀步骤,同时还可以包括打印、喷墨等其他用于形成预定图形的工艺;光刻工艺,是指包括成膜、曝光、显影等工艺过程本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩膜盖板,其特征在于,包括衬底基板以及设置于所述衬底基板上的彩膜层和黑矩阵;其中,构成所述黑矩阵的材料为不可逆热致变色材料,所述不可逆热致变色材料受热后由透光状态转变为非透光状态。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜盖板,其特征在于,包括衬底基板以及设置于所述衬底基板上的彩膜层和黑矩阵;其中,构成所述黑矩阵的材料为不可逆热致变色材料,所述不可逆热致变色材料受热后由透光状态转变为非透光状态。2.根据权利要求1所述的彩膜盖板,其特征在于,所述彩膜盖板还包括第一平坦层;所述第一平坦层位于所述黑矩阵背离所述衬底基板的一侧,且所述第一平坦层覆盖所述彩膜层和所述黑矩阵。3.根据权利要求2所述的彩膜盖板,其特征在于,所述彩膜盖板还包括透明的绝热层;所述绝热层位于所述第一平坦层靠近所述衬底基板的一侧,且所述绝热层覆盖所述彩膜层和所述黑矩阵。4.根据权利要求1-3任一项所述的彩膜盖板,其特征在于,所述彩膜盖板还包括第二平坦层;所述第二平坦层位于所述绝热层靠近所述衬底基板的一侧,且所述第二平坦层覆盖所述彩膜层和所述黑矩阵。5.根据权利要求4所述的彩膜盖板,其特征在于,所述第一平坦层、所述第二平坦层的覆盖面积大于所述绝热层的覆盖面积。6.根据权利要求4所述的彩膜盖板,其特征在于,所述第二平坦层的厚度大于所述第一平坦层的厚度。7.根据权利要求1所述的彩膜盖板,其特征在于,构成所述黑矩阵的材料包括:三芳甲烷类结晶紫内酯及其衍生物、磷钼酸铵、二氯化一氯五氨合钴中的至少一种,与可溶性树脂、光敏树脂中的至少一种...

【专利技术属性】
技术研发人员:罗程远
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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