量子点成膜方法、显示面板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及显示技术领域，尤其涉及量子点成膜方法、显示面板及其制作方法、显示装置。所述量子点成膜方法包括：在待形成量子点层的邻接膜层上形成磁性光致量子点涂层；施加磁场，使所述磁性光致量子点涂层中的磁性量子点分布于靠近所述邻接膜层所在的一侧；对所述磁性光致量子点涂层进行干燥处理。通过本发明专利技术提供的方案，能够平衡非蓝色光与蓝色光的显示偏差，提高显示面板的发光均匀性、出光效率及显示效果。

Quantum dot film forming method, display panel, production method and display device thereof

The invention relates to the field of display technology, in particular to a method for forming a film of a quantum dot, a display panel, a manufacturing method and a display device thereof. The quantum dot film forming method comprises: forming a magnetic photoinduced quantum dot coating on an adjacent film layer to be formed a quantum dot layer; applying a magnetic field to distribute the magnetic quantum dots in the magnetic photoinduced quantum dot coating near the adjacent film layer on one side; and drying the magnetic photoinduced quantum dot coating. The method can balance the display deviation between the non-blue light and the blue light, improve the luminous uniformity, luminous efficiency and display effect of the display panel.

【技术实现步骤摘要】
量子点成膜方法、显示面板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种量子点成膜方法、显示面板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
在显示器件领域，为了使发光器件提供多种颜色，通常划分多个像素区，如R、G、B(红、绿、蓝)亚像素结构，每个亚像素发射预定峰值波长的光，通过实现高色域覆盖。为了满足产品的色坐标CIE(x,y)及亮度需求，有机发光器件通常利用微腔(Micro-cavity)结构来调整光路，发光层发出光线后，会在微腔结构中经过多次反射，最终从顶电极(阴极)射出，通过调整光路可以使材料得到最优化的利用，从而提高器件的发光效率和亮度，增加器件的出光强度。但是目前的发光器件，尤其是OLED器件中，蓝色发光材料的发光效率低，寿命短，点亮一段时间后发光强度会明显变暗，与红、绿亚像素发光产生明显差异，造成屏幕老化不同步，显示失真。现有技术中一般采用增大蓝色亚像素面积来补偿这一偏差，但是也无法彻底平衡绿色和红色。而且，在进行喷墨打印干燥成膜的过程中，由于墨滴中心和边缘的蒸发速率不同，边缘部分干燥速率更快，随着墨边缘部分溶剂的不断挥发，发生毛细补偿流动现象，带动部分溶质向边缘部分迁移，形成攀爬现象，这种现象容易造成显示面板显示不均匀的问题，影响出光效率及显示效果。
技术实现思路
本专利技术的目的旨在提供一种量子点成膜方法、显示面板及其制作方法、显示装置，以解决由成膜材料的攀爬现象带来的显示不均问题。为了实现上述目的，本专利技术提供以下技术方案：本专利技术首先提供了一种量子点成膜方法，包括：在待形成量子点层的邻接膜层上形成磁性光致量子点涂层；施加磁场，使所述磁性光致量子点涂层中的磁性量子点分布于靠近所述邻接膜层所在的一侧；对所述磁性光致量子点涂层进行干燥处理。具体地，所述在待形成量子点层的邻接膜层上形成磁性光致量子点涂层的步骤，包括：通过喷墨打印的方式在所述待形成量子点层的邻接膜层上形成磁性光致量子点涂层。本专利技术还提供了一种显示面板的制作方法，包括：利用上述任一技术方案所述的量子点成膜方法在亚像素区域内的发光器件层上形成量子点层。具体地，在形成所述量子点层之前，还包括：在阵列基板上形成所述发光器件层；在所述发光器件层上形成封装层。优选地，所述在所述发光器件层上形成封装层之前，还包括：在所述发光器件层与所述封装层之间形成第一平坦层。优选地，在形成第一平坦层之前，还包括：在所述发光器件层与所述第一平坦层之间形成第一封装层。具体地，所述在阵列基板上形成所述发光器件层的步骤，包括：在阵列基板上形成像素界定层，所述像素界定层在所述阵列基板的表面形成多个相互隔离的亚像素区域；在所述阵列基板上依次形成层叠覆盖所述像素界定层的阳极层、发光层、阴极层。优选地，所述发光器件层中的发光层为能够发出单色蓝光的蓝色发光层，在一个像素单元所包括的各亚像素区域中至少有两个亚像素区域内分别形成有吸收蓝光而发射红光的量子点层和吸收蓝光而发射绿光的量子点层。优选地，所述磁性光致量子点涂层中的磁性量子点的粒径为3nm～10nm。优选地，所述亚像素区域内所述量子点层的宽度不小于所述发光器件层的宽度。进一步地，本专利技术还提供一种显示面板，其由上述任一技术方案所述的显示面板的制作方法制作。更进一步地，本专利技术还提供了一种显示装置，包括上述任一技术方案所述的显示面板。相比现有技术，本专利技术的方案具有以下优点：本专利技术提供的量子点成膜方法，通过磁场控制磁性光致量子点涂层中的磁性量子点分布于所述涂层靠近阵列基板的一面，能够有效打印在亚像素区域的磁性光致量子点涂层在干燥成膜前的攀爬，实现在亚像素区域内的精确打印，保证量子点层界面的均一性，从而提高显示面板的发光均匀性及显示效果。本专利技术提供的显示面板的制作方法，通过使用发光器件层发出的蓝光激发量子点层发射非蓝光，实现量子点层发射的非蓝色光与蓝光的衰减同步，平衡非蓝色光与蓝色光的显示偏差。本专利技术提供的显示面板的制作方法，利用量子点层与反射阳极之间设置封装层或/和平坦层，实现增大微腔结构的厚度提高显示面板的出光率；通过调整量子点层与反射阳极之间封装层或/和平坦层的膜层数目和膜层厚度，进一步提高显示面板的出光率。另外，本专利技术提供的显示装置是在显示面板的基础上进行改进的，因此，所述显示装置自然继承了显示面板的全部优点。本专利技术附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。附图说明本专利技术上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1为本专利技术实施例提供的量子点成膜方法的流程示意图；图2为本专利技术实施例一提供的显示面板的制作方法的流程示意图；图3为本专利技术实施例一提供的显示面板的部分结构示意图；图4为本专利技术实施例一提供的显示面板的出光示意图；图5为本专利技术实施例二提供显示面板的制作方法的流程示意图；图6为本专利技术实施例三提供的显示面板的制作方法的流程示意图。附图标记：100-阵列基板、101-像素界定层、102-发光器件层、1021-阳极层、1022-发光层、1023-阴极层、103第一封装层、104第一平坦层、105-第二封装层、106-第一量子点层、107-第二平坦层、108-第三封装层、109-第二量子点层、110-第三平坦层、111-第四封装层。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能解释为对本专利技术的限制。量子点(QuantumDots，简称QD)是肉眼看不到的，极其微小的无机纳米晶体。每当受到光的刺激，量子点便会发出非常纯净的有色光线。当光致发光的量子点被光击中时，可以发射出自己本身颜色的光，这些量子点与蓝色发光二极管协同工作，为显示装置背光供电。本专利技术首先提供了一种量子点成膜方法，其结构示意图如图1所示，包括：S11，在待形成量子点层的邻接膜层上形成磁性光致量子点涂层。所述邻接膜层为其表面形成有或待形成量子点层的膜层。若在基底上形成量子点层，所述邻接膜层即为基底，若在封装层上形成量子点层，所述邻接膜层即为封装层，若在像素界定层上形成量子点层，则所述邻接膜层为像素界定层等等。所述磁性光致量子点涂层中的量子点是一种复合材料，或为半导体材料与磁性材料构成的核壳结构，所述半导体材料包括：CdSe、CdS、CdZnS、ZnS、ZnO或ZnTe等Ⅱ-Ⅵ族或Ⅲ-Ⅴ族半导体材料，所述磁性材料包括Fe3O4、Fe2O3、FePt、CoPt等磁性材料。所述量子点能够吸收蓝色波段(400nm～480nm)的光，发射其他可见光波段的光谱，如红色波段光谱、绿色波段光谱、黄色波段光谱等。优选地，通过喷墨打印的方式在待形成量子点层的邻接膜层上形成磁性光致量子点涂层。喷墨打印方式的成膜速率快、材料利用率较高、可以实现大尺寸化，加工效率高，且在加工过程中不会降低成膜材料的性能。S12，施加磁场，使所述磁性光致量子点涂层中的磁性量子点分布于靠近所述邻接膜层所在的一侧；对所述形成有磁性光致量子点涂层的邻接膜层施加磁场，所述磁性光致量子点涂层中的磁性量子点受到磁场的磁性引力调整其在磁性光致量子涂层中的位本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种量子点成膜方法，其特征在于，包括：在待形成量子点层的邻接膜层上形成磁性光致量子点涂层；施加磁场，使所述磁性光致量子点涂层中的磁性量子点分布于靠近所述邻接膜层所在的一侧；对所述磁性光致量子点涂层进行干燥处理。

【技术特征摘要】
1.一种量子点成膜方法，其特征在于，包括：在待形成量子点层的邻接膜层上形成磁性光致量子点涂层；施加磁场，使所述磁性光致量子点涂层中的磁性量子点分布于靠近所述邻接膜层所在的一侧；对所述磁性光致量子点涂层进行干燥处理。2.根据权利要求1所述的量子点成膜方法，其特征在于，所述在待形成量子点层的邻接膜层上形成磁性光致量子点涂层的步骤，包括：通过喷墨打印的方式在所述待形成量子点层的邻接膜层上形成磁性光致量子点涂层。3.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：利用如权利要求1或2所述的量子点成膜方法在亚像素区域内的发光器件层上形成量子点层。4.根据权利要求3所述的显示面板的制作方法，其特征在于，在形成所述量子点层之前，还包括：在阵列基板上形成所述发光器件层；在所述发光器件层上形成封装层。5.根据权利要求4所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述发光器件层上形成封装层之前，还包括：在所述发光器件层与所述封装层之间形成第一平坦层。6.根据权利要求5所述的显示面板的制作方法，其特征在于，在形成第一平坦层之前，还包括：在所述发光器件层与所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗程远，吴长晏，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11