The embodiments described herein generally relate to a processing device having a rotary cover for preheating the treated gas. The apparatus includes a chamber body having a side wall and a bottom wall defining the internal processing area. The chamber also includes a base plate support, a ring support and a rotator cover arranged in an internal processing area of the chamber main body. The rotator cover is arranged on the ring support. The rotator cover is opaque quartz material. The rotator cover advantageously provides more effective treatment gas heating, is composed of materials capable of withstanding treatment conditions while providing more effective and uniform treatment, and has a low CTE to reduce particle contamination due to excessive expansion during treatment.
【技术实现步骤摘要】
旋转器盖
本文描述的实施方式大体涉及基板的热处理。
技术介绍
基板的热处理是半导体制造业的重要部分。基板在多种处理和设备中经受热处理。在一些处理中,基板经受退火热能,而在其他处理中,基板可能还要经受氧化型其他反应性化学条件。一个接一个的基板被放在设备中、加热以进行处理、然后冷却。用于热处理基板的设备每天可经历数百个极端加热和冷却循环。除了基板的热处理,操作设备的许多方面可能需要具有某些电学、光学或热性质的材料。除复杂度增加外,半导体器件尺寸的不断缩小依赖于对例如输送至半导体处理腔室的处理气体的流动和温度的更加精确的控制。在横流(cross-flow)处理腔室中,处理气体可被输送至腔室且被引导跨过待处理的基板的表面。对希望延长设备在它们所经受的极端条件下的使用寿命的人员而言,设备的设计存在艰巨的工程挑战。因此,存在对能够在现代半导体处理的极端热循环下可靠地运行的设备的需要。
技术实现思路
本文描述的实施方式大体涉及热处理设备。在一个实施方式中,公开一种用于热处理腔室的旋转器盖。所述旋转器盖包括具有内部分和外部分的环件(annulus)。所述环件是不透明石英材料。在另一实施方式中,公开一种用于处理基板的设备。所述设备包括腔室主体,所述腔室主体具有界定内部处理区的侧壁和底壁。腔室还包括设置于所述腔室主体的内部处理区中的基板支撑件、环支撑件(ringsupport)、和设置于所述环支撑件上的旋转器盖。所述旋转器盖是不透明石英材料。在又一实施方式中,公开一种用于处理基板的设备。所述设备包括腔室主体,所述腔室主体具有界定内部处理区的侧壁和底壁。腔室还包括设置于所述腔室主体 ...
【技术保护点】
1.一种用于热处理腔室的盖,包括:不透明石英环件,所述不透明石英环件包括:内边缘,所述内边缘具有第一厚度;和外边缘,所述外边缘具有大于所述第一厚度的第二厚度。
【技术特征摘要】
2017.03.06 US 62/467,6981.一种用于热处理腔室的盖,包括:不透明石英环件,所述不透明石英环件包括:内边缘,所述内边缘具有第一厚度;和外边缘,所述外边缘具有大于所述第一厚度的第二厚度。2.如权利要求1所述的盖,其中所述不透明石英环件由硅黑石英制成。3.如权利要求1所述的盖,其中所述不透明石英环件进一步具有凹形表面,所述凹形表面在所述内边缘与所述外边缘之间。4.如权利要求3所述的盖,其中所述环件进一步包括内唇,所述内唇从所述凹形表面径向向内延伸至所述内边缘。5.如权利要求3所述的盖,其中所述凹形表面在所述环件的所述内唇与底部之间。6.如权利要求1所述的盖,其中所述环件具有顶表面,并且其中所述环件的所述顶表面成凹形。7.一种用于处理基板的设备,包括:腔室主体,所述腔室主体具有界定内部处理区的侧壁和底壁;基板支撑件,所述基板支撑件设置在所述腔室主体的所述内部处理区中;环支撑件,所述环支撑件从所述侧壁向内延伸;和盖,所述盖设置在所述环支撑件上,其中所述盖包括不透明石英材料。8.如权利要求7所述的设备,其中所述不透明石英材料是硅黑石英。9.如权利要求7所述的设备,其中所述盖具有环形主体和内唇,所述环形主体具有第三厚度,所述内唇具有小于所述第三厚度的第四厚度,其中所述内唇从...
【专利技术属性】
技术研发人员:劳拉·郝勒查克,柴塔尼亚·A·普拉萨德,埃姆雷·库瓦利奇,
申请(专利权)人:应用材料公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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