The deposition device includes a deposition chamber, a plurality of substrate supporting parts, a plurality of masks, and a rotary deposition device. A plurality of substrate supports are arranged radially at a first angle between each other centered at a first position in the deposition chamber. A plurality of masks are relative to a plurality of substrates fixed on a plurality of substrate support portions respectively. The rotary sedimentation device comprises a rotating part, a first moving part, a second moving part, a first sedimentary source and a second sedimentary source, wherein the rotating part is positioned in a sedimentary chamber, the first moving part and the second moving part are at a second angle to each other and are combined with the rotating part, and the first sedimentary source and the second sedimentary source are respectively with the first moving. The movable part is combined with the second moving part and is respectively opposite to the two substrates in a plurality of substrates.
【技术实现步骤摘要】
沉积设备、显示装置的制造方法和通过该方法制造的显示装置
本公开涉及沉积设备,更具体地,涉及用于沉积显示装置的发光层的沉积设备、使用沉积设备制造显示装置的方法和通过该方法制造的显示装置。
技术介绍
诸如发光显示装置的显示装置包括第一电极、第二电极以及位于第一电极与第二电极之间的发光层。第一电极和第二电极中的一个为空穴注入电极,且另一个为电子注入电极。发光层形成为由多个薄膜层叠的多层膜。例如,发光层可包括蓝色层、红色层和绿色层,并且还可包括至少一个辅助层。发光层可在沉积设备中通过沉积法形成。沉积设备可包括腔室、沉积源、衬底支承部和掩模等,其中,沉积源和衬底支承部位于腔室的内部,并且掩模具有与待形成在衬底上的薄膜相同的开口图案。通常的沉积设备具有与构成发光层的薄膜的数量相同数量的腔室,并且随着衬底顺序地经过多个腔室,依次实现薄膜的沉积。
技术实现思路
本公开的目的在于提供能够通过减少腔室和掩模的数量来容易地进行发光层的沉积的同时减少不良件产生的沉积设备、使用该沉积设备制造显示装置的方法以及通过该方法制造的显示装置。根据一实施方式的沉积设备包括沉积腔室、多个衬底支承部、多个掩模、旋转型沉积装置。多个衬底支承部在沉积腔室内以第一位置为中心彼此间以第一角度布置成放射形。多个掩模分别与固定至多个衬底支承部中的每个衬底支承部的多个衬底相对。旋转型沉积装置包括旋转部、第一移动部、第二移动部、第一沉积源和第二沉积源,其中,旋转部定位在沉积腔室内,第一移动部和第二移动部在彼此成第二角度的状态下结合至旋转部,并且第一沉积源和第二沉积源分别与第一移动部和第二移动部结合并且分别与多个衬底 ...
【技术保护点】
1.沉积设备,包括:沉积腔室;多个衬底支承部,所述多个衬底支承部在所述沉积腔室内以第一位置为中心彼此间以第一角度布置成放射形;多个掩模,所述多个掩模分别与固定至所述多个衬底支承部中的每个衬底支承部的多个衬底相对;以及旋转型沉积装置,所述旋转型沉积装置包括:旋转部,所述旋转部定位在所述沉积腔室内;第一移动部和第二移动部,所述第一移动部和所述第二移动部在彼此成第二角度的状态下结合至所述旋转部;以及第一沉积源和第二沉积源,所述第一沉积源和所述第二沉积源分别与所述第一移动部和所述第二移动部结合,并且分别与所述多个衬底中的两个衬底相对。
【技术特征摘要】
2017.03.02 KR 10-2017-00271611.沉积设备,包括:沉积腔室;多个衬底支承部,所述多个衬底支承部在所述沉积腔室内以第一位置为中心彼此间以第一角度布置成放射形;多个掩模,所述多个掩模分别与固定至所述多个衬底支承部中的每个衬底支承部的多个衬底相对;以及旋转型沉积装置,所述旋转型沉积装置包括:旋转部,所述旋转部定位在所述沉积腔室内;第一移动部和第二移动部,所述第一移动部和所述第二移动部在彼此成第二角度的状态下结合至所述旋转部;以及第一沉积源和第二沉积源,所述第一沉积源和所述第二沉积源分别与所述第一移动部和所述第二移动部结合,并且分别与所述多个衬底中的两个衬底相对。2.如权利要求1所述的沉积设备,其中,所述第二角度与所述第一角度相同,并且所述第一沉积源和所述第二沉积源分别与所述多个衬底中相邻的两个衬底相对。3.如权利要求1所述的沉积设备,其中,固定至所述多个衬底支承部的所述多个衬底中的每个具有一对第一边和一对第二边,所述第一边与所第二边彼此相交,并且定位在所述一对第一边之间的虚拟中心线与...
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