沉积设备、显示装置的制造方法和通过该方法制造的显示装置制造方法及图纸

技术编号:18945922 阅读:41 留言:0更新日期:2018-09-15 12:14
沉积设备包括沉积腔室、多个衬底支承部、多个掩模、旋转型沉积装置。多个衬底支承部在沉积腔室内以第一位置为中心彼此间以第一角度布置成放射形。多个掩模分别与固定在多个衬底支承部中的每个上的多个衬底相对。旋转型沉积装置包括旋转部、第一移动部、第二移动部、第一沉积源和第二沉积源,其中,旋转部定位在沉积腔室内,第一移动部和第二移动部彼此间成第二角度并且与旋转部结合,并且第一沉积源和第二沉积源分别与第一移动部和第二移动部结合并且分别与多个衬底中的两个衬底相对。

Deposition device, manufacturing method of display device and display device manufactured by the method

The deposition device includes a deposition chamber, a plurality of substrate supporting parts, a plurality of masks, and a rotary deposition device. A plurality of substrate supports are arranged radially at a first angle between each other centered at a first position in the deposition chamber. A plurality of masks are relative to a plurality of substrates fixed on a plurality of substrate support portions respectively. The rotary sedimentation device comprises a rotating part, a first moving part, a second moving part, a first sedimentary source and a second sedimentary source, wherein the rotating part is positioned in a sedimentary chamber, the first moving part and the second moving part are at a second angle to each other and are combined with the rotating part, and the first sedimentary source and the second sedimentary source are respectively with the first moving. The movable part is combined with the second moving part and is respectively opposite to the two substrates in a plurality of substrates.

【技术实现步骤摘要】
沉积设备、显示装置的制造方法和通过该方法制造的显示装置
本公开涉及沉积设备,更具体地,涉及用于沉积显示装置的发光层的沉积设备、使用沉积设备制造显示装置的方法和通过该方法制造的显示装置。
技术介绍
诸如发光显示装置的显示装置包括第一电极、第二电极以及位于第一电极与第二电极之间的发光层。第一电极和第二电极中的一个为空穴注入电极,且另一个为电子注入电极。发光层形成为由多个薄膜层叠的多层膜。例如,发光层可包括蓝色层、红色层和绿色层,并且还可包括至少一个辅助层。发光层可在沉积设备中通过沉积法形成。沉积设备可包括腔室、沉积源、衬底支承部和掩模等,其中,沉积源和衬底支承部位于腔室的内部,并且掩模具有与待形成在衬底上的薄膜相同的开口图案。通常的沉积设备具有与构成发光层的薄膜的数量相同数量的腔室,并且随着衬底顺序地经过多个腔室,依次实现薄膜的沉积。
技术实现思路
本公开的目的在于提供能够通过减少腔室和掩模的数量来容易地进行发光层的沉积的同时减少不良件产生的沉积设备、使用该沉积设备制造显示装置的方法以及通过该方法制造的显示装置。根据一实施方式的沉积设备包括沉积腔室、多个衬底支承部、多个掩模、旋转型沉积装置。多个衬底支承部在沉积腔室内以第一位置为中心彼此间以第一角度布置成放射形。多个掩模分别与固定至多个衬底支承部中的每个衬底支承部的多个衬底相对。旋转型沉积装置包括旋转部、第一移动部、第二移动部、第一沉积源和第二沉积源,其中,旋转部定位在沉积腔室内,第一移动部和第二移动部在彼此成第二角度的状态下结合至旋转部,并且第一沉积源和第二沉积源分别与第一移动部和第二移动部结合并且分别与多个衬底中的两个衬底相对。第二角度可与第一角度相同,并且第一沉积源和第二沉积源可分别与多个衬底中相邻的两个衬底相对。固定在多个衬底支承部上的多个衬底中的每个可具有一对第一边和一对第二边,第一边与第二边彼此相交,并且定位在一对第一边之间的虚拟中心线可与以第一位置为中心延伸的放射方向一致。旋转部可与第一位置相对应,并且第一移动部和第二移动部可定位成与以第一位置为中心延伸的放射方向平行。旋转部可旋转与第一角度相等的角度,并且第一沉积源和第二沉积源可根据旋转部的旋转连续地与其他衬底相对。第一沉积源和第二沉积源中的每个可在通过第一移动部和第二移动部中的每个而进行直线移动的同时发射沉积物质。第一沉积源和第二沉积源中的至少一个可在进行两次以上的直线移动的同时发射沉积物质,以增加沉积到衬底上的薄膜的厚度。第一沉积源和第二沉积源中的一个可放射用于沉积彩色辅助层的物质,且另一个可发射用于沉积彩色层的物质。在多个衬底支承部的中心的第一位置处可定位有输送机器人,并且旋转部可与输送机器人相隔开预定距离并且定位在输送机器人的正下方。根据一实施方式的显示装置的制造方法包括以下步骤:在沉积腔室内以第一位置为中心,将第一衬底、第二衬底和第三衬底彼此以第一角度布置成放射形;将掩模对齐到第一衬底、第二衬底和第三衬底中的每个;将第一沉积源定位在第一衬底的下方,并且将第二沉积源定位在第二衬底的下方;使第一沉积源和第二沉积源在进行直线移动的同时朝向第一衬底和第二衬底发射沉积物质;以及使第一沉积源和第二沉积源旋转与第一角度相等的角度,使得第一沉积源定位在第二衬底的下方且第二沉积源定位在第三衬底的下方。第一沉积源和第二沉积源中的一个可发射用于沉积彩色辅助层的物质,且另一个可发射用于沉积彩色层的物质。第一沉积源和第二沉积源中的至少一个可在进行两次以上的直线移动的同时发射沉积物质,以增加被沉积的薄膜的厚度。根据一实施方式的显示装置通过前述的方法制造,并且该显示装置包括第一薄膜和第二薄膜,其中,第一薄膜包括第一沉积源所发射的物质,并且第二薄膜包括第二沉积源所发射的物质并且与第一薄膜重叠。第一薄膜和第二薄膜中的一个可以是彩色辅助层,且另一个可以是彩色层。根据实施方式的沉积设备通过减少沉积腔室和掩模的数量,能够简化整体结构并且能够缩短整体的工艺时间。此外,通过减少衬底需要经过的掩模的数量,能够减少因衬底与掩模之间的对齐误差而导致的不良件的产生并且能够提高显示装置的产量。附图说明图1和图2是示意性地示出根据一实施方式的沉积设备的一部分的概略的平面图。图3是以图1和图2的Ⅲ-Ⅲ线为基准截取的沉积设备的概略的剖视图。图4是示出图3中所示的第一移动部的示例的结构图。图5a至图5e是用于说明根据一实施方式的显示装置的制造方法的结构图。图6是示意性地示出根据一实施方式的沉积设备的整体的平面图。图7a至图7c是使用一实施方式的沉积设备制造的显示装置的局部放大剖视图。具体实施方式下文中,参照附图对本专利技术各种实施方式进行详细说明,以使得本专利技术所述
的普通技术人员能够容易地实施。本专利技术能够实现为各种不同的形态,并且不限于本文中所描述的实施方式。为了对本专利技术进行清楚的说明,省略了与说明无关的部分,并且在整篇说明书中,对相同或相似的构成要素赋予相同的附图标记。此外,附图中所示的各结构的尺寸和厚度出于说明的便利而被任意地示出,因此本专利技术并不一定限于图示的结构。在附图中,为了清楚地表现出各个层和区域,厚度经放大而示出。此外,在附图中,部分层和区域的厚度出于说明的便利而被夸大示出。此外,当层、膜、区域、板等部分被称为位于其他部分“上方”或“上”时,其不仅包括“直接”位于其他部分“上”的情况,而且还包括其中间存在另一其他部分的情况。相反地,当某一部分被称为“直接”位于其他部分“上”时,则意味着其中间不存在其他部分。此外,位于作为基准的部分“上方”或“上”是意味着位于作为基准的部分上方或下方,而不是意味着必须位于朝向重力的相反方向的“上方”或“上”。此外,在整个说明书中,当某一部分被称为“包括”某一构成要素时,除非存在明显的相反记载,其并不意味着排除其他构成要素,而是还可包括其他构成要素。图1和图2是示意性地示出根据一实施方式的沉积设备100的一部分的平面图。并且图3是以图1和图2的Ⅲ-Ⅲ线为基准截取的沉积设备100的示意性剖视图。参照图1至图3,根据一实施方式的沉积设备100包括沉积腔室10、设置在沉积腔室10内部的多个衬底支承部20、多个掩模30和旋转型沉积装置40。沉积腔室10的内部维持真空,并且在沉积腔室10的入口和出口处分别定位有入口侧输送腔室51和出口侧输送腔室52。沉积腔室10的内部定位有输送衬底60的输送机器人70。输送机器人70将入口侧输送腔室51中的衬底60移动到衬底支承部20,并且将完成沉积的衬底60移动到出口侧输送腔室52。多个衬底支承部20以第一位置P1为中心彼此间以第一角度a1布置成放射形。多个衬底60也以第一位置P1为中心彼此间以第一角度a1布置成放射形。此处,第一位置P1作为设置在沉积腔室10的平面上的位置,其可以是沉积腔室10的定位有输送机器人70的中央。衬底支承部20可由固定衬底60的结构物或装置构成,并且输送机器人70和多个衬底支承部20可定位在沉积腔室10内部的上侧。衬底60可以以固定于如静电吸盘的载体的状态固定到衬底支承部20,并且可布置成其沉积面朝下。衬底60可以是具有一对长边和一对短边的矩形,并且可布置成位于一对长边之间的虚拟中心线c-c与以第一位置P1作为中心的放射方向一致。在图1本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.沉积设备,包括:沉积腔室;多个衬底支承部,所述多个衬底支承部在所述沉积腔室内以第一位置为中心彼此间以第一角度布置成放射形;多个掩模,所述多个掩模分别与固定至所述多个衬底支承部中的每个衬底支承部的多个衬底相对;以及旋转型沉积装置,所述旋转型沉积装置包括:旋转部,所述旋转部定位在所述沉积腔室内;第一移动部和第二移动部,所述第一移动部和所述第二移动部在彼此成第二角度的状态下结合至所述旋转部;以及第一沉积源和第二沉积源,所述第一沉积源和所述第二沉积源分别与所述第一移动部和所述第二移动部结合,并且分别与所述多个衬底中的两个衬底相对。

【技术特征摘要】
2017.03.02 KR 10-2017-00271611.沉积设备,包括:沉积腔室;多个衬底支承部,所述多个衬底支承部在所述沉积腔室内以第一位置为中心彼此间以第一角度布置成放射形;多个掩模,所述多个掩模分别与固定至所述多个衬底支承部中的每个衬底支承部的多个衬底相对;以及旋转型沉积装置,所述旋转型沉积装置包括:旋转部,所述旋转部定位在所述沉积腔室内;第一移动部和第二移动部,所述第一移动部和所述第二移动部在彼此成第二角度的状态下结合至所述旋转部;以及第一沉积源和第二沉积源,所述第一沉积源和所述第二沉积源分别与所述第一移动部和所述第二移动部结合,并且分别与所述多个衬底中的两个衬底相对。2.如权利要求1所述的沉积设备,其中,所述第二角度与所述第一角度相同,并且所述第一沉积源和所述第二沉积源分别与所述多个衬底中相邻的两个衬底相对。3.如权利要求1所述的沉积设备,其中,固定至所述多个衬底支承部的所述多个衬底中的每个具有一对第一边和一对第二边,所述第一边与所第二边彼此相交,并且定位在所述一对第一边之间的虚拟中心线与...

【专利技术属性】
技术研发人员:李相信
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:发明
国别省市:韩国,KR

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