The application provides a sensor chip protection structure and a manufacturing method of a sensor chip protection structure. The sensor chip protection structure includes a sensor chip, a package element and a first film sheet, wherein the package element encapsulates and encapsulates the sensor chip in the package element, and the first film sheet layer is bonded to the surface of the package element. The upper surface of the packaging element is completely covered by the first thin film layer. The protection structure of the sensor chip can reduce the probability of damage caused by mechanical action, avoid the wear of the sensor chip by external force, effectively protect the sensor chip, and improve the life of the sensor chip.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】传感芯片保护结构和传感芯片保护结构制作方法
本申请实施例涉及传感芯片
,并且更具体地,涉及传感芯片保护结构和传感芯片保护结构制作方法。
技术介绍
随着技术的发展,传感芯片的尺寸也越来越小。因此,越来越多的电子产品(例如手机、平板电脑等)中内置传感芯片。此外,由于用途的不同,一些传感芯片需要做成外观结构件。目前的传感芯片没有进行任何处理,硬度和耐磨度不高。因此不能有效地保护传感芯片,使得传感芯片容易因静电作用和机械作用导致损伤而完全失效。因此,如何更好地保护传感芯片,提高传感芯片的寿命是一个亟待解决的问题。
技术实现思路
第一方面,本申请实施例提供一种传感芯片保护结构,该传感芯片保护结构包括传感芯片、封装元件和第一薄膜片层,其中,该封装元件包容封装该传感芯片在该封装元件内,该第一薄膜片层贴合在该封装元件上表面且该封装元件上表面完全被该第一薄膜片层覆盖。结合第一方面,在第一方面的第一种可能的实现方式中,该传感芯片保护结构还包括第二薄膜片层,该第二薄膜片层贴合在该传感芯片上表面且该传感芯片上表面完全被该第二薄膜片层覆盖。结合第一方面的第一种可能的实现方式,在第一方面的第二种可能的实现方式中,该第一薄膜片层和该第二薄膜片层为具有抗静电功能的薄膜片层。结合第一方面的第二种可能的实现方式,在第一方面的第三种可能的实现方式中,该第一薄膜片层和该第二薄膜片层的表面电阻率低于1011欧姆。结合第一方面的第一种可能的实现方式至第一方面的第三种可能的实现方式中的任一种可能的实现方式,在第一方面的第四种可能的实现方式中,该第一薄膜片层和该第二薄膜片层为树脂涂层或光学薄膜。结合第 ...
【技术保护点】
1.一种传感芯片保护结构,其特征在于,所述传感芯片保护结构包括传感芯片、封装元件和第一薄膜片层,其中,所述封装元件包容封装所述传感芯片在所述封装元件内,所述第一薄膜片层贴合在所述封装元件上表面且所述封装元件上表面完全被所述第一薄膜片层覆盖。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种传感芯片保护结构,其特征在于,所述传感芯片保护结构包括传感芯片、封装元件和第一薄膜片层,其中,所述封装元件包容封装所述传感芯片在所述封装元件内,所述第一薄膜片层贴合在所述封装元件上表面且所述封装元件上表面完全被所述第一薄膜片层覆盖。2.如权利要求1所述的传感芯片保护结构,其特征在于,所述传感芯片保护结构还包括第二薄膜片层,所述第二薄膜片层贴合在所述传感芯片上表面且所述传感芯片上表面完全被所述第二薄膜片层覆盖。3.如权利要求2所述的传感芯片保护结构,其特征在于,所述第一薄膜片层和所述第二薄膜片层为具有抗静电功能的薄膜片层。4.如权利要求3所述的传感芯片保护结构,其特征在于,所述第一薄膜片层和所述第二薄膜片层的表面电阻率低于1011欧姆。5.如权利要求2至4中任一项所述的传感芯片保护结构,其特征在于,所述第一薄膜片层和所述第二薄膜片层为树脂涂层或光学薄膜。6.如权利要求3至5中任一项所述的传感芯片保护结构,其特征在于,所述第一薄膜片层和所述第二薄膜片层的厚度大于或等于1纳米且小于或等于1...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭益平,李绍佳,
申请(专利权)人:深圳市汇顶科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。