The invention provides an on-line measuring device and a measuring method for the field of view of a projection object mirror of a lithography machine, belonging to the field of performance testing of projection lithography, and aims to solve the technical problem of direct on-line measurement of a detector with large field of view of the projection object mirror and insufficient large size in the prior art, wherein the on-line measuring device is described. The position includes a detector, a mask, a mask table and a workbench with a rectangular hole in the center of the mask. When measuring on-line, the beam images the rectangular hole of the mask through the projection objective to the image plane. The detector detects the imaging at the image plane. The on-line measuring device and the measuring method are based on the mask. Template marking method solves the problem of large field of view and insufficient large size detectors for direct measurement in the existing technology, realizes on-line measurement of the field of view of the integrated projection objective, and has the advantages of fast measurement speed and easy popularization and application.
【技术实现步骤摘要】
光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置及测量方法
本专利技术属于投影光刻性能参数检测领域,具体涉及用于光刻投影曝光系统中的一种投影物镜像方视场的在线测量装置及测量方法。
技术介绍
本部分提供的仅仅是与本公开相关的背景信息,其并不必然是现有技术。近年来,集成电路行业迅猛发展,其行业水平已是当前世界各国信息化发展程度乃至综合国力的基础性标志之一。而集成电路能够持续微型化、集成化发展,主要得益于处于最顶端的光刻技术的不断发展与进步,该技术的难度、复杂度也是最大的。投影物镜与光源、照明系统并列为光刻机的三大核心部件。投影物镜的设计、加工及检测都是高难度,极具挑战性的。其中,投影物镜的设计,要求同时具备大视场、高成像质量、高套刻精度、高透过率多项指标。目前,业界内主流光刻机是ArF(193nm)投影光刻机,其投影物镜像方视场是26mm*10.5mm,视场较大。通常,投影物镜集成到光刻机整机之前,采用离线的方式测量像方视场的方法比较多;由于投影物镜受到温度、振动等环境因素影响较为敏感,投影物镜集成到整机之后,在光刻曝光之前,光刻机会借助探测器对于投影物镜像方视场进行测量,保证曝光区域,但是在光刻机具备曝光功能之前,由于投影物镜像方视场较大,很难有足够大尺寸的探测器直接在线测量。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对投影物镜像方视场较大,没有足够大尺寸的探测器能够直接测量的问题,提出一种投影物镜像方视场的在线测量装置及测量方法,基于掩模板标记成像的方式,实现投影物镜集成后像方视场的测试,所述在线测量装置及在线测量方法,规避安装之前环境因素对于投影物镜性能的影响,能够准确反应投 ...
【技术保护点】
1.一种光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置,所述光刻机包括投影物镜、照明系统和光源系统,其特征在于:所述在线测量装置包括探测器、掩模板、掩模台和工件台,所述探测器安装在所述工件台上,所述工件台位于所述投影物镜的像面处,所述掩模板安装在所述掩模台上,所述掩模台位于所述投影物镜的物面处,所述掩模板的中央开设有长方形孔,在线测量时,所述光源系统产生的光束经过所述照明系统后从所述长方形孔中透过,并将所述长方形孔经所述投影物镜成像到所述像面处,所述探测器用以探测所述像面处的成像。
【技术特征摘要】
1.一种光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置,所述光刻机包括投影物镜、照明系统和光源系统,其特征在于:所述在线测量装置包括探测器、掩模板、掩模台和工件台,所述探测器安装在所述工件台上,所述工件台位于所述投影物镜的像面处,所述掩模板安装在所述掩模台上,所述掩模台位于所述投影物镜的物面处,所述掩模板的中央开设有长方形孔,在线测量时,所述光源系统产生的光束经过所述照明系统后从所述长方形孔中透过,并将所述长方形孔经所述投影物镜成像到所述像面处,所述探测器用以探测所述像面处的成像。2.根据权利要求1所述的一种光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置,其特征在于:所述掩模板由基底和不透光的膜层组成,所述长方形孔位于所述膜层的中央。3.根据权利要求2所述的一种光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置,其特征在于:所述膜层为金属膜层,所述基底为熔石英基底。4.根据权利要求2所述的一种光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置,其特征在于:所述长方形孔的尺寸等于所述投影物镜的物方视场的尺寸。5.根据权利要求1-4中任一项所述的光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置,其特征在于:所述掩模台能够进行调整,使得所述掩模板位于所述投影物镜的物面处,所述工件台能够进行移动,使得所述探测器位于所述投影物镜的像面处,所述光束经所述投影物镜成像到所述像面处。6.根据权利要求1-4中任一项所述的一种光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置,其特征在于:所述探测器为采用193nm紫外波段工作的CCD探测器。7.根据权利要求1-4中任一项所述的一种光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置,其特征在于:所述光源系统为准分子光源系统,所述光束为准分子光束。8.一种采用如权利要求1至7中任一项所述的光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置进行投影物镜数值孔径测量的在线测量方法,其特征在于:S1:使所述光束由所述照明系统入射到所述掩模板上,调整所述掩模台使得所述掩模板位于所述投影物镜的物面处,所述光束透过所述掩模板的长方形孔后,经所述投影物镜成像到像面处,移动所述工件台使所述探测器位于所述投影物镜的像面处,由于成像尺寸超过探测器尺寸,所述探测器接收到所述掩模板长方形孔标记一端的成像,采集第一幅图像;S2:移动所述工件台,所述探测器接收到所述掩模板的长方形孔另一端的成像,采集第二幅图像;S3:在采集的所述第一幅图像中,选取五个像素点的坐标,利用其中三个像素点坐标构成第一个三角形,在采集的所述第二幅图像中选取两个像素点坐标,利用其中一个像素点与第一幅图像中的两个像素点,构成第二个三角形,根据海伦公式,推导计算并获得...
【专利技术属性】
技术研发人员:苏佳妮,卢增雄,齐月静,杨光华,王宇,
申请(专利权)人:中国科学院光电研究院,
类型:发明
国别省市:北京,11
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