A substrate support chuck for substrate processing system is provided in this paper. In some embodiments, a substrate support member for a substrate processing chamber may include: an electrostatic chuck having a top substrate support surface and a bottom surface; and a cooling ring assembly having a central opening on the bottom surface of the electrostatic chuck. Nearby, the cooling ring assembly comprises a cooling section having a top surface thermally coupled to the bottom surface of the electrostatic chuck, the cooling section having a cooling channel formed in the bottom surface of the cooling section, and a cap portion coupled to the bottom surface of the cooling section and fluidically ground. The cooling channel is formed in the cooling part.
【技术实现步骤摘要】
用于沉积腔室的基板支撑夹盘冷却本申请是申请日为2014年3月4日、申请号为201480003693.8、名称为“用于沉积腔室的基板支撑夹盘冷却”的专利技术专利申请的分案申请。领域本专利技术的实施方式大体涉及半导体处理。背景专利技术人已经观察到,用于某些应用的传统的高温基板支撑夹盘(substratesupportchuck)无法控制长时重沉积速率处理(lengthyheavydepositionrateprocess)所产生的热输入(heatinput),所述处理诸如是LED背侧的金(Au)或金-锡(gold-tin;AuSn)、厚铝的沉积,或者一些微机电系统(MEMS,microelectromechanicalsystem)处理。例如,一般150mm半导体物理气相沉积(PVD)处理在升高的温度下少于1分钟长,而LED背侧沉积处理例如大约6分钟长并且必须维持在较低温度下。但是,至晶片与夹盘的增加的热输入会超过一些传统的夹盘所能应付的热输入。因此,专利技术人已提供改良的基板支撑夹盘的实施方式。概述本文提供用于基板处理系统中的一种基板支撑夹盘的实施方式。在一些实施方式中,一种用于基板处理腔室中的基板支撑件可包括:静电夹盘(electrostaticchuck),所述静电夹盘具有顶部基板支撑表面与底部表面;以及冷却环组件,所述冷却环组件具有中心开孔,所述冷却环组件设置于所述静电夹盘的所述底部表面的附近,所述冷却环组件包括:冷却部,所述冷却部具有热耦接至所述静电夹盘的底部表面的顶部表面,所述冷却部具有形成于所述冷却部的底部表面中的冷却通道;以及帽部,所述帽部耦接至 ...
【技术保护点】
1.一种用于冷却基板支撑件的冷却环组件,所述冷却环组件包括:冷却部,所述冷却部具有顶部表面、底部表面、与第一中心开孔,所述底部表面具有形成于所述底部表面中的冷却通道,其中所述冷却部由具有热传导率为300W/m‑K或更大的材料形成;帽部,所述帽部耦接至所述冷却部的所述底部表面,直接覆盖并且流体地密封形成于所述冷却部中的所述冷却通道,其中所述帽部具有第二中心开孔;及热垫片,所述热垫片耦接至所述冷却部的所述顶部表面,其中所述第一中心开孔和所述第二中心开孔具有非圆形形状经配置以容纳多个管线和/或连接来穿过,其中所述第二中心开孔对准并具有与所述冷却部中的所述第一中心开孔相同的形状与尺寸,其中所述冷却通道形成于所述非圆形第一中心开孔的周边的周围。
【技术特征摘要】
2013.03.15 US 61/788,508;2014.02.24 US 14/187,7471.一种用于冷却基板支撑件的冷却环组件,所述冷却环组件包括:冷却部,所述冷却部具有顶部表面、底部表面、与第一中心开孔,所述底部表面具有形成于所述底部表面中的冷却通道,其中所述冷却部由具有热传导率为300W/m-K或更大的材料形成;帽部,所述帽部耦接至所述冷却部的所述底部表面,直接覆盖并且流体地密封形成于所述冷却部中的所述冷却通道,其中所述帽部具有第二中心开孔;及热垫片,所述热垫片耦接至所述冷却部的所述顶部表面,其中所述第一中心开孔和所述第二中心开孔具有非圆形形状经配置以容纳多个管线和/或连接来穿过,其中所述第二中心开孔对准并具有与所述冷却部中的所述第一中心开孔相同的形状与尺寸,其中所述冷却通道形成于所述非圆形第一中心开孔的周边的周围。2.如权利要求1所述的冷却环组件,所述热垫片是垂直地导热石墨材料层。3.如权利要求1所述的冷却环组件,其中所述冷却通道以层层卷绕的配置形成于所述第一中心开孔的周边的周围。4.如权利要求1所述的冷却环组件,其中所述帽部由不锈钢形成,并且其中所述冷却部是由铜、钢、或铝之一形成。5.如权利要求1所述的冷却环组件,所述冷却部与所述帽部是被栓接在一起、被铜焊在一起、被焊接在一起、或被钉接在一起中的一种。6.如权利要求1所述的冷却环组件,进一步包括对准销,所述对准销将所述冷却部与所述帽部对准。7.如权利要求1所述的冷却环组件,进一步包括:冷却剂供应管,所述冷却剂供应管流体地耦接至所述冷却通道的第一端;及冷却剂出口管,所述冷却剂出口管流体地耦接至所述冷却通道的第二端。8.一种用于基板处理腔室中的基板支撑件,所述基板支撑件包括:如权利要求1所述的冷却环组件;及静电夹盘,所述静电夹盘具有顶部基板支撑表面与底部表面,其中所述冷却环组件借助所述热垫片热耦接至所述静电夹盘的所述底部表面。9.一种用于处理基板的处理腔室,所述处理腔室包括:腔室主体,所述腔室主体具有内部空间;及基板支撑件,所述基板支撑件设置于所述内部空间中,所述基板支撑件包括:静电夹盘,所述静电夹盘具有顶部基板支撑表面与底部表面;及冷却环组件,所述冷却环组件设置于环状固定环的中心开孔内并且在所述静电夹盘的所述底部表面的附近,所述冷却环组件包括:冷却部,所述冷却部具有顶...
【专利技术属性】
技术研发人员:布赖恩·韦斯特,维贾伊·帕克赫,罗伯特·海拉哈拉,丹·戴永,
申请(专利权)人:应用材料公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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