光学检查系统、用于处理柔性基板上的材料的处理系统、以及检查柔性基板的方法技术方案

技术编号:18823958 阅读:46 留言:0更新日期:2018-09-01 13:18
根据本公开内容的一个方面,提出一种光学检查系统(100),用于检查柔性基板(10)。此光学检查系统包括基板支撑件(20),基板支撑件(20)具有经构造以沿着基板传输路径(T)引导基板的至少部分凸出的基板支撑表面(22),基板支撑件设置在基板传输路径的第一侧(1)上;光源(30)设置在基板传输路径的第二侧(2)上并经构造以引导光束穿过支撑在凸出的基板支撑表面并与凸出的基板支撑表面接触的基板的一部分;以及光检测器(40),用以执行基板的透射测量。根据本公开内容的另一方面,提出一种检查柔性基板的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学检查系统、用于处理柔性基板上的材料的处理系统、以及检查柔性基板的方法
本公开内容的实施方式有关于一种用于检查柔性基板(flexiblesubstrate)的光学检查系统(opticalinspectionsystem);用于处理柔性基板上的材料的包含光学检查系统的处理系统;以及检查柔性基板的方法。本公开内容的实施方式特别有关于一种通过执行基板的透射测量(transmissionmeasurement)来检查透明或半透明柔性基板的光学检查系统。此外,实施方式还涉及用于在真空腔室内处理柔性基板上的材料的处理系统,其中通过执行经处理的基板的透射测量来检查经处理基板的光学质量。
技术介绍
基板,例如柔性基板,在通过处理设备时被常规处理。此处理可包括将在基板上执行所需的应用的涂层材料涂覆于柔性基板。举例来说,此涂层材料为金属(特别是铝)、半导体或介电材料。特别是在封装产业、半导体产业以及其它产业中,对于金属、半导体、塑料膜(plasticfilm)或箔片(foil)的涂层有着高度的需求。执行此任务的系统通常包括处理滚筒(processingdrum),此处理滚筒耦接至用于沿着基板传输路径移动基板的处理系统,其中基板在处理滚筒上被引导时至少一部分的基板被处理。可提供允许基板在处理滚筒的引导表面上移动时被涂覆的所谓的卷对卷(roll-to-roll)涂覆系统来提高产量。一般而言,蒸镀工艺,例如是热蒸镀工艺,可被用于将涂层材料的薄层沉积到基板上。因此,卷对卷沉积系统在显示器产业和光电(photovoltaic,PV)产业的需求也大幅增加。例如,触控面板元件,柔性显示器和柔性光电模块导致对在具有低制造成本的卷对卷涂覆机(coater)中沉积合适的层的需求增加。此种装置通常被制造成具有多层的涂层材料,其可以在依次利用多个沉积源的卷对卷涂覆设备中制造。沉积源可适于在基板朝下一个沉积源移动时,用特定涂层材料涂覆基板。一般而言,会使用物理气相沉积(physicalvapourdeposition,PVD)和/或化学气相沉积(chemicalvapourdeposition,CVD)工艺,且特别是等离子体增强化学气相沉积(plasmaenhancedchemicalvapourdeposition,PEVCD)工艺进行涂覆。在诸多的应用中,检查柔性基板(如箔片)或非柔性基板(如玻璃板)来监控基板的质量。举例来说,用于显示器市场而被制造的其上沉积有涂层材料的基板。由于基板在涂覆过程期间可能产生缺陷,用于检测缺陷以及监控基板的质量的基板检查是合理的。例如,基板的检查可以通过光学检查系统来执行。使用光学检查系统可检查具有经涂覆的基板的晶格(grain)结构、晶格尺寸、外形和表面特性、或者基板上的颗粒或刮痕。然而,光学检查系统会具有小的景深(depthoffield)。举例来说,一些光学检查系统的景深会在100微米以下的范围内。基板表面上的晶格尺寸可能会低于光学分辨率或失焦,从而无法在光学系统中看见晶格。柔性基板特别薄且细致,此提高了对光学检查系统的要求。因此,仍有对用于执行柔性基板的透射测量的光学检查系统的需求,通过此光学检查系统可以实现改进的基板的质量检查。此外,还有对用于测量柔性基板(例如涂覆一层或多层涂层的柔性和/或(半)透明基板)的光学性质的改进方法的需求。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术提供一种用于检查柔性基板的光学检查系统以及使用处理柔性基板上的材料的处理系统。此外,提供一种检查柔性基板的方法。本公开内容的其它方面、优点和特征从权利要求、说明书与所附附图显而易见。根据本专利技术的一个方面,提出一种用于检查柔性基板的光学检查系统。该光学检查系统包括:基板支撑件,其具有至少部分凸出(convex)的基板支撑表面,基板支撑表面经构造以沿着基板传输路径引导基板,基板支撑件设置在基板传输路径的第一侧上;光源,设置在基板传输路径的第二侧上并经构造以引导光束穿过基板的支撑部,该支撑部与基板支撑表面相接触;以及光检测器,用于执行基板的透射测量。根据本专利技术的另一方面,提出一种用于处理柔性基板上的材料的处理系统。该处理系统包括:真空腔室;基板支撑件,其具有至少部分凸出的基板支撑表面,基板支撑表面经构造以沿着基板传输路径引导基板通过真空腔室,基板支撑件设置在基板传输路径的第一侧上;光源,设置在基板传输路径的第二侧上并经构造以引导光束穿过基板的支撑部,该支撑部与基板支撑表面相接触;以及光检测器,用于执行基板的透射测量,其中光源与光检测器中的至少一者设置在真空腔室之外。根据本专利技术的另一方面,提出一种检查柔性基板的方法。该方法包括以下步骤:沿着基板传输路径引导基板,其中基板被支撑在基板支撑件的至少部分凸出的基板支撑表面上,基板支撑件设置在基板的第一侧上;从基板的第二侧引导光束穿过基板的支撑部至基板的第一侧,支撑部与基板支撑表面相接触;以及检测已穿过基板的光束至少一次以执行基板的透射测量。本公开内容的其它方面、优点和特征从从属权利要求、说明书与所附附图显而易见。附图说明因此,为了能够详细理解本公开内容的上述特征,上文所简要概述的本公开内容的更具体的描述可以参照实施方式进行。附图涉及本公开内容的实施方式,并在下文进行描述。典型实施方式在附图中示出并在下面的说明书中详细描述。图1绘示根据本专利技术的实施方式的光学检查系统的截面示意图;图2绘示根据本专利技术的实施方式的光学检查系统的截面示意图;图3绘示根据本专利技术的实施方式的光学检查系统的截面示意图;图4绘示根据本专利技术的实施方式的光学检查系统的截面示意图;图5绘示根据本专利技术的实施方式的光学检查系统的截面示意图;图6绘示根据本专利技术的实施方式的光学检查系统的截面示意图;图7绘示根据本专利技术的实施方式的光学检查系统的截面示意图;图8绘示用于执行柔性基板的透射测量的光学检查系统的比较示例;图9绘示根据本专利技术的实施方式的用于处理柔性基板上的材料的处理系统的示意图;图10绘示根据本专利技术的实施方式的方法的流程图;和图11绘示根据本专利技术的实施方式的方法的流程图。具体实施方式将详细描述各种实施方式,这些实施方式中一个或多个在每个附图中示出。每个示例是以进行说明的方式而被提供的,而并非意味着限制。例如,作为一个实施方式的一部分而被示出或描述的特征可用于任何其它实施方式或与任何其它实施方式结合而产生另一实施方式。本公开内容意欲包含这种修改和变化。在所附附图的以下描述中,相同的符号标记表示相同或相似的元件。以下说明通常仅描述各个实施方式的差异。除非另有特定说明,否则一实施方式中的部分或方面的描述也适用于另一实施方式中的对应部分或方面。具涂覆层的基板,例如具有沉积于其上的一层或多层的柔性塑料薄膜,其特征在于具有特定的光谱反射率值和透射率值。经涂覆的基板的性质,特别是光学性质,可以通过光学检查系统来测量,光学检查系统可以包括光源和光检测器。光学检查系统可以用于检测及辨识基板内或基板上的缺陷,例如为经处理的基板上的微颗粒(micro-particle),例如是微米尺寸的颗粒。光学检查系统可用于检查静止的基板或移动中的基板,其中,相较于人眼检查,其能以更佳的分辨率检测缺陷。举例来说,光源可经构造以产生将被引导到移动的基板的表面上的光束。可提本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种用于检查柔性基板(10)光学检查系统(100、200、300、310、320、400、500),所述光学检查系统包括:基板支撑件(20),具有至少部分凸出的基板支撑表面(22),所述基板支撑表面(22)经构造以沿着基板传输路径(T)引导所述基板(10),所述基板支撑件设置在所述基板传输路径(T)的第一侧(1)上;光源(30),设置在所述基板传输路径(T)的第二侧(2)上,并且经构造以引导光束(3)穿过所述基板的支撑部,所述支撑部与所述基板支撑表面(22)相接触;以及光检测器(40),经构造以执行所述基板的透射测量。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于检查柔性基板(10)光学检查系统(100、200、300、310、320、400、500),所述光学检查系统包括:基板支撑件(20),具有至少部分凸出的基板支撑表面(22),所述基板支撑表面(22)经构造以沿着基板传输路径(T)引导所述基板(10),所述基板支撑件设置在所述基板传输路径(T)的第一侧(1)上;光源(30),设置在所述基板传输路径(T)的第二侧(2)上,并且经构造以引导光束(3)穿过所述基板的支撑部,所述支撑部与所述基板支撑表面(22)相接触;以及光检测器(40),经构造以执行所述基板的透射测量。2.根据权利要求1所述的光学检查系统,其中所述基板支撑件(20)包括可旋转辊(25),且至少部分凸出的所述基板支撑表面(22)为所述可旋转辊(25)的外表面。3.根据权利要求1或2所述的光学检查系统,其中所述基板支撑件(20)至少部分地由透明材料制成以使所述光束(3)至少部分地穿过所述基板支撑件(20)。4.根据权利要求2或3所述的光学检查系统,其中所述可旋转辊(25)的外圆周层由所述透明材料制成。5.根据权利要求1-4中任一项所述的光学检查系统,进一步包括反射元件(50、51、52、53、54),所述反射元件设置在所述基板传输路径(T)的所述第一侧(1)上,并用于将所述光束(3)反向反射至所述基板传输路径的第二侧(2),具体来说是用于将所述光束(3)反向反射穿过所述基板。6.根据权利要求5所述的光学检查系统,其中所述反射元件(50、51、52、53、54)包括后向反射器。7.根据权利要求5或6所述的光学检查系统,其中所述反射元件(51、52)整合于所述基板支撑件(20)中。8.根据权利要求1-7中任一项所述的光学检查系统,其中所述光检测器(40)设置在所述基板传输路径(T)的第二侧(2)上。9.根据权利要求8所述的光学检查系统,其中所述光检测器(40)与所述光源(30)彼此连接,具体来说所述光检测器(40)与光源(30)整合于壳体(32)中。10.根据权利要求1-9中任一项所述的光学检查系统,其...

【专利技术属性】
技术研发人员:法比奥·贝亚雷斯弗洛里安·里斯
申请(专利权)人:应用材料公司
类型:发明
国别省市:美国,US

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