膜形成设备制造技术

技术编号:18822861 阅读:68 留言:0更新日期:2018-09-01 12:47
描述一种用于处理基板上的薄膜的设备。所述设备包括:真空腔室,所述真空腔室包括外壳、后壁和可移除闭合板;处理滚筒,所述处理滚筒在真空腔室内布置在后壁与可移除闭合板之间,所述处理滚筒至少部分地被处理区域包围;第一工艺分隔壁部分,所述第一工艺分隔壁部分附接到可移除闭合板;以及第二工艺分隔壁部分,所述第二工艺分隔壁部分附接到外壳或后壁;其中在可移除闭合板的闭合位置中,第一工艺分隔壁部分和第二工艺分隔壁部分共同提供工艺分隔壁,所述工艺分隔壁将处理区域分成相邻的处理区段。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】膜形成设备
本公开内容的实施方式涉及一种薄膜处理设备,特别是涉及沉积系统,更特别是涉及卷对卷(roll-to-roll,R2R)沉积系统和用于维护薄膜处理设备的方法。本公开内容的实施方式特别涉及卷对卷沉积系统中的气体分隔(gasseparation)和向卷对卷(roll-to-roll)沉积系统提供维护通路的方法,特别是涉及用于在柔性基板上涂覆薄膜的设备和用于在沉积设备的相邻的处理区段之间提供气密工艺分隔壁的方法。
技术介绍
对柔性基板(例如,塑料膜或箔)的处理在封装工业(packagingindustry)、半导体工业、太阳光防护窗膜工业(solarprotectingwindowfilmindustries)和其他工业中有大量需求。处理可包括用材料涂覆柔性基板,材料例如是金属,特别是银、铝、钛、铌或锌和上述材料的介电化合物,诸如铝掺杂的氧化锌。执行此任务的系统一般包括处理滚筒(processingdrum),处理滚筒耦接到处理系统以传输基板,并且基板的至少一部分在处理滚筒上进行处理,处理滚筒例如是圆柱形辊。卷对卷沉积系统可提供高产量系统。典型地,可利用蒸发工艺(例如,热蒸发工艺)来沉积金属薄层,金属薄层可金属化到柔性基板上进行。然而,卷对卷沉积系统在显示器工业和光伏(photovoltaic,PV)工业中也面临需求大量增加的情况。例如,触控面板元件、柔性显示器、滤光片和柔性PV模块造成对在卷对卷涂布机(coater)中沉积合适的层或层堆叠结构(layerstacks)的需求增加,特别是具有低制造成本的在卷对卷涂布机(coater)中沉积合适的层或层堆叠结构。然而,此类装置典型地具有若干层,这些层通常例如溅射工艺的PVD)工艺或以CVD工艺(例如,PECVD工艺)制造。用于此类复杂应用的卷对卷沉积系统包括在相邻的隔室中的若干处理区段。多年以来,卷对卷沉积系统中的层已经发展成多个层,其中每个层提供不同的功能。将多个层沉积在柔性基板上可在卷对卷沉积系统的多个处理区段中执行。卷对卷沉积系统的高正常运行时间和减少的停机时间降低生产成本。在沉积的层或层堆叠结构有高质量水平的情况下,总拥有成本可进一步降低。因此,提供确保高沉积质量和最小化的生产停机时间(例如,用于维护目的)的用于处理柔性基板的有效的方法和设备是经济上关注的问题。
技术实现思路
鉴于上述,提供一种用于处理基板上的薄膜的设备,特别是用于处理柔性基板的设备,以及一种用于在真空腔室中的相邻的处理区段之间提供气密工艺分隔壁的方法。另外方面、优点和特征公开内容从从属权利要求、说明书和附图清楚。根据一个实施方式,提供一种用于处理基板上的薄膜的设备。所述设备包括:真空腔室,所述真空腔室包括外壳、后壁和可移除闭合板;处理滚筒,所述处理滚筒在真空腔室内布置在后壁与可移除闭合板之间,所述处理滚筒至少部分地被处理区域包围;第一工艺分隔壁部分,所述第一工艺分隔壁部分附接到可移除闭合板;以及第二工艺分隔壁部分,所述第二工艺分隔壁部分附接到外壳或后壁;其中在可移除闭合板的闭合位置中,第一工艺分隔壁部分和第二工艺分隔壁部分共同提供工艺分隔壁,所述工艺分隔壁将处理区域分成相邻的处理区段。根据另一实施方式,提供一种用于处理基板上的薄膜的设备。所述设备包括:真空腔室,所述真空腔室包括外壳、后壁和可移除闭合板;处理滚筒,所述处理滚筒在真空腔室内布置在后壁与可移除闭合板之间,所述处理滚筒至少部分地被处理区域包围;一个或多个第一工艺分隔壁部分,所述一个或多个第一工艺分隔壁部分附接到可移除闭合板;一个或多个第二工艺分隔壁部分,所述一个或多个第二工艺分隔壁部分附接到外壳或后壁;和至少一个处理单元,所述至少一个处理单元附接到可移除闭合板,其中两个相邻的第一工艺分隔壁部分与增强元件机械连接,并且其中一个或多个第一工艺分隔壁部分和一个或多个第二工艺分隔壁部分共同提供一个或多个工艺分隔壁,所述一个或多个工艺分隔壁将处理区域分成至少两个相邻的处理区段。根据另一实施方式,提供一种用于在真空腔室中的相邻的处理区段之间提供气密工艺分隔壁的方法。所述方法包括通过用可移除闭合板将真空腔室闭合,使第一工艺分隔壁部分移动到真空腔室中;和激活在第一工艺分隔壁部分与第二工艺分隔壁部分之间的气密密封件。附图说明为了可详细地理解本公开内容上述特征的方式,在上文简要地概述的本公开内容的概述的更特定的描述可参照实施方式来进行。附图涉及本公开内容的实施方式并且描述如下:图1示出根据本文所述的实施方式的用于沉积薄膜并具有气体分隔壁的卷对卷沉积设备的示意性侧视图;图2A和图2B示出根据本文所述的实施方式的卷对卷沉积设备的工艺分隔壁的横截面图;图3A和图3B示出根据本文所述的实施方式的用于卷对卷沉积设备的闭合板的示意性3D视图;图4示出根据本文所述的实施方式的处理腔室和处理滚筒的3D视图;图5示出根据本文所述的实施方式的描述用于在真空腔室中的相邻的处理区段之间提供气密工艺分隔壁的方法的流程图。具体实施方式现将详细参照本公开内容的各种实施方式,本公开内容的各种实施方式中的一个或多个示例示出于附图中。在以下的附图说明中,相同的参考数字表示相同的部件。一般来说,仅说明有关于个别实施方式的不同之处。各示例是以对本公开内容进行解释的方式而提供的,并非意指为本公开内容的限制。此外,作为一个实施方式的部分而说明或描述的特征可用于其他实施方式或与其他实施方式结合,以产生再其他的实施方式。说明意欲包括此类调整和变化。在此,应注意,在本文所述的实施方式中使用的柔性基板或卷材(web)的特征可典型地在于柔性基板是可弯折的。术语“卷材”可与术语“条状物(strip)”、术语“带状物(tape)”或术语“柔性基板”以同义地使用。例如,本文所述的实施方式中的卷材可以是箔(foil)或另一柔性基板。然而,如同以下更详细说明的,本文所述的实施方式的优点也可提供给其他连续式沉积系统(inline-depositionsystems)的非柔性基板或载体。然而,可理解的是,特定的优点可在用于柔性基板和用于在柔性基板上制造装置的应用上使用。卷对卷沉积设备可包括退卷(unwinding)腔室、处理腔室和/或复卷(re-winding)腔室。在一些卷对卷沉积设备中,柔性基板的退卷和复卷可在共同的卷绕腔室中执行。处理腔室可包括基板传输辊或基板传输滚筒(drum)。基板传输辊或滚筒可作为柔性基板的支撑件。基板支撑件可使柔性基板移动穿过处理区域,基板支撑件例如是处理滚筒。处理滚筒可以是鼓状物、圆柱状物或辊,例如是涂覆辊(coatingroller)或涂覆滚筒(coatingdrum)。处理区域可布置在处理滚筒的至少一部分的周围。在处理区域中,可执行不同的工艺。工艺可以在隔室的内部中执行。不同的工艺可以在不同的相邻的隔室中执行。隔室可以是处理区域的部分。隔室可通过工艺分隔壁而与相邻的隔室分隔,或与处理腔室或沉积设备的其他区域分隔。隔室可包括处理腔室外壳的壁和工艺分隔壁的部分。隔室的壁限定处理区段的空间。为了执行工艺,可在处理区段或隔室中提供一个或多个处理单元。在隔室中,可以设置不同工艺和/或不同处理技术。针对不同工艺和/或不同处理技术,可使用不同的处理气体。若干CVD和/或P本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种用于处理基板上的薄膜的设备,包括:真空腔室,包括外壳、后壁和可移除闭合板;处理滚筒,在所述真空腔室内布置在所述后壁与所述可移除闭合板之间,所述处理滚筒至少部分地被处理区域包围;第一工艺分隔壁部分,附接到所述可移除闭合板;和第二工艺分隔壁部分,附接到所述外壳或所述后壁,其中于所述可移除闭合板的闭合位置中,所述第一工艺分隔壁部分和所述第二工艺分隔壁部分共同提供工艺分隔壁,所述工艺分隔壁将所述处理区域分成相邻的处理区段。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于处理基板上的薄膜的设备,包括:真空腔室,包括外壳、后壁和可移除闭合板;处理滚筒,在所述真空腔室内布置在所述后壁与所述可移除闭合板之间,所述处理滚筒至少部分地被处理区域包围;第一工艺分隔壁部分,附接到所述可移除闭合板;和第二工艺分隔壁部分,附接到所述外壳或所述后壁,其中于所述可移除闭合板的闭合位置中,所述第一工艺分隔壁部分和所述第二工艺分隔壁部分共同提供工艺分隔壁,所述工艺分隔壁将所述处理区域分成相邻的处理区段。2.如权利要求1所述的设备,其中所述第一工艺分隔壁部分包括密封件,特别是可充气密封件,更特别是至少部分地周向的可充气垫片。3.如权利要求2所述的设备,其中所述密封件在所述第一工艺分隔壁部分和所述第二工艺分隔壁部分之间提供密封,特别是其中所述密封件在所述第一工艺分隔壁部分和所述第二工艺分隔壁部分之间和在所述第一工艺分隔壁部分和所述外壳之间提供密封。4.如前述权利要求中任一项所述的设备,其中所述第二工艺分隔壁部分与所述处理滚筒保持了预选距离,其中所述第二工艺分隔壁部分距所述处理滚筒的所述距离限定间隙。5.如权利要求4所述的设备,其中所述间隙经构造以提供相邻处理区段之间的1:100或更好的气体分离因子。6.如前述权利要求中任一项所述的设备,进一步包括:至少一个处理单元,其中所述至少一个处理单元附接到所述可移除闭合板。7.如前述权利要求中任一项所述的设备,进一步包括:至少一个导辊,其中所述至少一个导辊和所述处理滚筒的面向所述可移除闭合板的端部通过轴承而附接到支撑板,所述支撑板连接到所述外壳。8.如前述权利要求中任一项所述的设备,其中所述真空腔室的所述外壳具有顶壁,所述顶壁具有凹槽,其中在凹槽内提供至少一个真空泵。9.如前述权利要求中任一项所述的设备,进一...

【专利技术属性】
技术研发人员:安德里亚斯·索尔安拉贝拉·霍夫曼
申请(专利权)人:应用材料公司
类型:发明
国别省市:美国,US

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