The utility model provides a plasma processor, including a reaction chamber, a lower part of which comprises a base located at the bottom, a substrate arranged above the base, and an air inlet device arranged in the reaction chamber; a gas distributor located outside the reaction chamber, including a plurality of input terminals connected to a plurality of single gas pipelines. The gas distributor also includes at least one output end connected to the intake device through a first intake pipe, a radio frequency power supply connected to the base, and the first intake pipe or a plurality of gas pipelines including a pipe body and a connecting head, the inner wall of the pipe including a layer of organic polymer coating.
【技术实现步骤摘要】
一种等离子处理器
本技术涉及等离子处理
,具体涉及一种等离子反应器的气体管道结构。
技术介绍
等离子处理器广泛应用于半导体基片的处理,通过等离子刻蚀或等离子辅助的化学气相沉积,使得晶圆上形成需要的半导体器件和连接这些器件的导线,最终形成各种用途的半导体芯片。通过减小半导体芯片的占地面积来改善同一基片上的芯片数量可以大幅提高产量,同时通过减小芯片中各个半导体器件的关键尺寸(criticaldimension),也可以进一步减小芯片的功耗,所以无论从芯片的产量和芯片的质量来说更小的关键尺寸会带来更大的经济效益。当前现有技术已经能够成功实现关键尺寸为7-14nm的芯片量产,但是进一步减小关键尺寸就非常难实现了。上述各个半导体芯片中的器件和图形都是通过在基片上涂覆一层光刻胶,然后再通过光刻机,在光刻胶上曝光形成所需的图形,随后通过光刻胶上的图形为掩膜向下刻蚀相应的材料层形成半导体器件中的结构图形。实现进一步减小关键尺寸的困难主要是因为当前所用的极紫外光的波长只能实现40nm左右的图形的显影,为了从光刻胶上的40nm左右的图形通过各种手段缩小图形尺寸,最终在半导体基片上获得小于7nm关键尺寸的半导体器件,需要经过多个关键尺寸缩小的步骤(CDshrinkage),关键尺寸越小这些步骤越多越复杂。当前如果要生产关键尺寸为5-3nm的芯片,整个芯片处理流程中的步骤将会从7-14nm时期的60多步大幅增加到100多步。处理步骤的增加不仅增加了成本也会对每一步处理的精度提出更高的要求,在5-3nm关键尺寸的处理工艺测试过程中,执行原有的经过长期验证的关键尺寸缩小步骤,最 ...
【技术保护点】
1.一种等离子处理器,包括:反应腔,反应腔内下部包括位于底部的基座,基座上方用于设置基片,反应腔内还设置有进气装置;位于反应腔外的一个气体分配器,包括多个输入端通过多个输气管道连接到多个单一气源,所述气体分配器还包括至少一个输出端通过第一进气管道连接到所述进气装置;一个射频电源连接到所述基座;所述第一进气管道或者多个输气管道包括管体和连接头,所述管体内壁包括一层有机聚合物涂层。
【技术特征摘要】
1.一种等离子处理器,包括:反应腔,反应腔内下部包括位于底部的基座,基座上方用于设置基片,反应腔内还设置有进气装置;位于反应腔外的一个气体分配器,包括多个输入端通过多个输气管道连接到多个单一气源,所述气体分配器还包括至少一个输出端通过第一进气管道连接到所述进气装置;一个射频电源连接到所述基座;所述第一进气管道或者多个输气管道包括管体和连接头,所述管体内壁包括一层有机聚合物涂层。2.如权利要求1所述的等离子处理器,其特征在于,所述有机聚合物涂层厚度大于0.5um。3.如权利要求1所述的等离子处理器,其特征在于,所述进气管道内壁口径小于5mm。4.如权利要求2所述的等离子处理器,其特征在于,所述有机聚合物涂层厚度大于1um小于100um。5.如权利要求1所述的等离子处理器,其特征在于,所述进气装置包括互相气体隔离第一区域和第二区域,...
【专利技术属性】
技术研发人员:关瑜,陈星建,倪图强,
申请(专利权)人:中微半导体设备上海有限公司,
类型:新型
国别省市:上海,31
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