管式PECVD炉温度监测装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及管式PECVD炉技术领域，尤其是一种管式PECVD炉温度监测装置，管式PECVD炉包括炉体及用于承载硅片的石墨舟，石墨舟位于炉体的炉膛中，该温度监测装置包括气缸、安装板及若干温度传感器，气缸的缸体固定在炉体的外壁，气缸的活塞杆上固定有吊杆，吊杆伸入到炉膛内，安装板固定在吊杆上，安装板位于炉膛中，若干温度传感器间隔设置在安装板的下方，本实用新型专利技术的可有效的监测石墨舟中心温度，了解石墨舟导热情况，监测各温区温度，工艺在温度达到设定值后进行，有效的控制工艺条件，方便进行实验及调试，确保测试值与石墨舟实际温度一致，工艺在温度达到设定值后进行，能够改善整舟电池片的减反射膜膜厚和折射率的均匀性，提升电池片效率。

【技术实现步骤摘要】
管式PECVD炉温度监测装置
本技术涉及太阳能电池制备
，尤其是一种管式PECVD炉温度监测装置。
技术介绍
管式PECVD炉常用于太阳能电池的制备，由于太阳能电池制备工艺的需求，需要将硅片放置在PECVD炉的石墨舟上，并随石墨舟一起进入PECVD炉内进行相关工艺，而现有PECVD炉在运行时仅测试炉内及炉壁的温度，未监测石墨舟的温度，导致测试值与石墨舟的实际温度有偏差，部分设定温度未能达到，导致所制备的硅片其膜后均匀性差异较大。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是：为了解决现有技术中PECVD炉不能准确监测石墨舟的温度，现提供一种管式PECVD炉温度监测装置。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种管式PECVD炉温度监测装置，所述管式PECVD炉包括炉体及用于承载硅片的石墨舟，石墨舟位于炉体的炉膛中，该温度监测装置包括气缸、安装板及若干温度传感器，所述气缸的缸体固定在炉体的外壁，所述气缸的活塞杆上固定有吊杆，所述吊杆伸入到炉膛内，所述安装板固定在吊杆上，所述安装板位于炉膛中，若干所述温度传感器间隔设置在安装板的下方。本方案中在石墨舟完成向炉膛内进舟后，启动气缸将安装板上的温度传感器向石墨舟靠拢，使温度传感器更加接近硅片，从而更加准确的测出当前石墨舟及硅片的温度，使石墨舟及硅片更加接近当前所进行工艺的所需温度，其中，若干传感器的设置可同时监测炉膛内不同区域的温度，便于对石墨舟整体温度均匀性的把控。具体地，所述安装板的下表面固定有若干探杆，所述探杆的数量与温度传感器的数量一致，所述温度传感器与探杆一一对应，所述温度传感器对应固定在探杆上。进一步地,所述炉膛内固定有导向杆，所述导向杆的轴线与气缸活塞杆的轴线相互平行，所述导向杆与安装板滑动连接。具体地,所述气缸的缸体通过支架固定在炉体的外壁上。进一步地，所述炉体的外壁上开设有密封腔，所述密封腔的腔底开设有与炉膛连通的通孔，所述吊杆依次穿过密封腔及通孔，所述吊杆上从上至下依次套设有压盖、上垫圈、柔性石墨密封环及下垫圈，所述上垫圈、柔性石墨密封环及下垫圈均位于密封腔中，所述压盖通过紧固螺钉固定在炉体的外壁上，所述压盖上螺纹连接有调节螺钉，所述调节螺钉的螺纹端端部抵在上垫圈上，所述下垫圈与密封腔的腔底接触，旋紧调节螺钉使上垫圈将柔性石墨密封环向下压紧，从而实现柔性石墨密封环密封在吊杆与密封腔之间。为了提高密封效果，进一步地，所述上垫圈与柔性石墨密封环的接触面为锥面，所述锥面的小端靠近所述压盖，通过锥面的设置，使得上垫圈将柔性石墨密封环向下压紧时，柔性石墨密封环抱紧在吊杆上，从而提高密封效果。本技术的有益效果是：本技术的管式PECVD炉温度监测装置可有效的监测石墨舟中心温度，了解石墨舟导热情况，监测各温区温度，工艺在温度达到设定值后进行，有效的控制工艺条件，方便进行实验及调试，确保测试值与石墨舟实际温度一致，工艺在温度达到设定值后进行，能够改善整舟电池片的减反射膜膜厚和折射率的均匀性，提升电池片效率；使得电压和电流分布更加集中，利于形成组件；且整舟电池片外观颜色更加统一，有效降低了划分花色的成本；色差造成的返工也得到有效降低。附图说明下面结合附图和实施例对本技术进一步说明。图1是本技术管式PECVD炉温度监测装置的示意图；图2是图1中A的局部放大示意图。图中：1、炉体，1-1、炉膛，1-2、密封腔，2、石墨舟，3、硅片，4、气缸，5、安装板，6、温度传感器，7、探杆，8、导向杆，9、压盖，10、上垫圈，11、柔性石墨密封环，12、下垫圈，13、紧固螺钉，14、调节螺钉，15、支架，16、吊杆。具体实施方式现在结合附图对本技术作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本技术的基本结构，因此其仅显示与本技术有关的构成，方向和参照(例如，上、下、左、右、等等)可以仅用于帮助对附图中的特征的描述。因此，并非在限制性意义上采用以下具体实施方式，并且仅仅由所附权利要求及其等同形式来限定所请求保护的主题的范围。实施例1如图1和2所示，一种管式PECVD炉温度监测装置，所述管式PECVD炉包括炉体1及用于承载硅片3的石墨舟2，石墨舟2位于炉体1的炉膛1-1中，该温度监测装置包括气缸4、安装板5及若干温度传感器6，所述气缸4的缸体固定在炉体1的外壁，所述气缸4的活塞杆上固定有吊杆16，所述吊杆16伸入到炉膛1-1内，所述安装板5固定在吊杆16上，所述安装板5位于炉膛1-1中，若干所述温度传感器6间隔设置在安装板5的下方。所述安装板5的下表面固定有若干探杆7，所述探杆7的数量与温度传感器6的数量一致，所述温度传感器6与探杆7一一对应，所述温度传感器6对应固定在探杆7上。所述炉膛1-1内固定有导向杆8，所述导向杆8的轴线与气缸4活塞杆的轴线相互平行，所述导向杆8与安装板5滑动连接。所述气缸4的缸体通过支架15固定在炉体1的外壁上。所述炉体1的外壁上开设有密封腔1-2，所述密封腔1-2的腔底开设有与炉膛1-1连通的通孔，所述吊杆16依次穿过密封腔1-2及通孔，所述吊杆16上从上至下依次套设有压盖9、上垫圈10、柔性石墨密封环11及下垫圈12，所述上垫圈10、柔性石墨密封环11及下垫圈12均位于密封腔1-2中，所述压盖9通过紧固螺钉13固定在炉体1的外壁上，所述压盖9上螺纹连接有调节螺钉14，所述调节螺钉14的螺纹端端部抵在上垫圈10上，所述下垫圈12与密封腔1-2的腔底接触，旋紧调节螺钉14使上垫圈10将柔性石墨密封环11向下压紧，从而实现柔性石墨密封环11密封在吊杆16与密封腔1-2之间，压盖9封堵在密封腔1-2上。所述上垫圈10与柔性石墨密封环11的接触面为锥面，所述锥面的小端靠近所述压盖9，通过锥面的设置，使得上垫圈10将柔性石墨密封环11向下压紧时，柔性石墨密封环11抱紧在吊杆16上，从而提高密封效果。上述管式PECVD炉温度监测装置通过在石墨舟2完成向炉膛1-1内进舟后，启动气缸4将安装板5上的温度传感器6向石墨舟2靠拢，使温度传感器6更加接近硅片3，从而更加准确的测出当前石墨舟2及硅片3的温度，使石墨舟2及硅片3更加接近当前所进行工艺的所需温度，其中，若干传感器的设置可同时监测炉膛1-1内不同区域的温度，便于对石墨舟2整体温度均匀性的把控。上述依据本技术的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项技术技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项技术的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种管式PECVD炉温度监测装置，所述管式PECVD炉包括炉体(1)及用于承载硅片(3)的石墨舟(2)，石墨舟(2)位于炉体(1)的炉膛(1‑1)中，其特征在于：该温度监测装置包括气缸(4)、安装板(5)及若干温度传感器(6)，所述气缸(4)的缸体固定在炉体(1)的外壁，所述气缸(4)的活塞杆上固定有吊杆(16)，所述吊杆(16)伸入到炉膛(1‑1)内，所述安装板(5)固定在吊杆(16)上，所述安装板(5)位于炉膛(1‑1)中，若干所述温度传感器(6)间隔设置在安装板(5)的下方。

【技术特征摘要】
1.一种管式PECVD炉温度监测装置，所述管式PECVD炉包括炉体(1)及用于承载硅片(3)的石墨舟(2)，石墨舟(2)位于炉体(1)的炉膛(1-1)中，其特征在于：该温度监测装置包括气缸(4)、安装板(5)及若干温度传感器(6)，所述气缸(4)的缸体固定在炉体(1)的外壁，所述气缸(4)的活塞杆上固定有吊杆(16)，所述吊杆(16)伸入到炉膛(1-1)内，所述安装板(5)固定在吊杆(16)上，所述安装板(5)位于炉膛(1-1)中，若干所述温度传感器(6)间隔设置在安装板(5)的下方。2.根据权利要求1所述的管式PECVD炉温度监测装置，其特征在于：所述安装板(5)的下表面固定有若干探杆(7)，所述探杆(7)的数量与温度传感器(6)的数量一致，所述温度传感器(6)与探杆(7)一一对应，所述温度传感器(6)对应固定在探杆(7)上。3.根据权利要求1所述的管式PECVD炉温度监测装置，其特征在于：所述炉膛(1-1)内固定有导向杆(8)，所述导向杆(8)的轴线与气缸(4)活塞杆的轴线相互平行，所述导向杆(8)与安...

【专利技术属性】
技术研发人员：左文楠，朱露，张凯胜，姚伟忠，孙铁囤，
申请(专利权)人：常州亿晶光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32