防止传送轮交叉污染的硅片传送装置制造方法及图纸

技术编号:18786219 阅读:39 留言:0更新日期:2018-08-29 07:58
本实用新型专利技术涉及一种防止传送轮交叉污染的硅片传送装置,包括安装在机架上相互平行的辊轮轴和压轮轴,辊轮轴上固定有实心辊轮,压轮轴上间距安装有若干个与实心辊轮同步旋转的压轮,所述的压轮与压轮轴间隙配合且轴向限位,所述实心辊轮和压轮的外周面均具有V形齿,所述压轮V形齿的齿尖对应于实心辊轮V形齿的齿槽。本实用新型专利技术通过对压轮与实心辊轮上下组合的改进,使得压轮与实心辊轮在不传送硅片时无接触,减少了磨损,即使硅片的一侧有药水污染,这种结构也不会让压轮与实心辊轮之间产生交叉污染,从而有助于提高硅片的优良率。

Wafer transfer device to prevent cross contamination of transport wheels

The utility model relates to a silicon wafer conveying device for preventing cross contamination of conveying wheels, which comprises a roller shaft and a pressing wheel shaft arranged in parallel with each other on a frame, a solid roller wheel is fixed on the roller shaft, and a number of pressing wheels synchronously rotating with the solid roller are arranged at the distance between the pressing wheel shaft and the pressing wheel shaft, and the clearance between the pressing wheel and the pressing wheel shaft matches and the shaft. Direction limit, the solid roller and the outer surface of the pressing wheel have V-shaped teeth, and the tooth tip of the V-shaped teeth of the pressing wheel corresponds to the tooth groove of the V-shaped teeth of the solid roller. The utility model improves the upper and lower combination of the pressing wheel and the solid roller, so that there is no contact between the pressing wheel and the solid roller when the silicon wafer is not transmitted, thereby reducing wear and tear. Even if there is a medicine contamination on one side of the silicon wafer, the structure will not cause cross contamination between the pressing wheel and the solid roller, thereby contributing to improving the excellent rate of the silicon wafer.

【技术实现步骤摘要】
防止传送轮交叉污染的硅片传送装置
本技术涉及一种防止传送轮交叉污染的硅片传送装置。
技术介绍
电池片生产工艺中,硅片的传送依靠带有V形齿的上下传送轮夹持向前推送。而在不传送硅片时,现有传送装置中上下传送轮的V形齿通常处于接触状态,上下传送轮间极易产生磨损状况,而同时如果在硅片一侧涂有药水的话,还会在传送轮间产生交叉污染,进而对硅片质量产生不利影响。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是:为了克服现有技术中之不足,本技术提供一种能有效防止传送轮交叉污染、提高硅片品质的硅片传送装置。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种防止传送轮交叉污染的硅片传送装置,包括安装在机架上相互平行的辊轮轴和压轮轴,辊轮轴上固定有实心辊轮,压轮轴上间距安装有若干个与实心辊轮同步旋转的压轮,所述的压轮与压轮轴间隙配合且轴向限位,所述实心辊轮和压轮的外周面均具有V形齿,所述压轮V形齿的齿尖对应于实心辊轮V形齿的齿槽。优选地,为实现辊轮轴与压轮轴之间同步转动,所述的辊轮轴与压轮轴之间通过齿轮传动实现同步旋转。本技术的有益效果是:本技术通过对压轮与实心辊轮上下组合的改进,使得压轮与实心辊轮在不传送硅片时无接触,减少了磨损,即使硅片的一侧有药水污染,这种结构也不会让压轮与实心辊轮之间产生交叉污染,从而有助于提高硅片的优良率。附图说明下面结合附图和实施方式对本技术进一步说明。图1是本技术的结构示意图。图中:1.辊轮轴2.压轮轴3.实心辊轮4.压轮5.V形齿6.齿轮具体实施方式现在结合附图对本技术作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图,仅以示意方式说明本技术的基本结构,因此其仅显示与本技术有关的构成。如图1所示的一种防止传送轮交叉污染的硅片传送装置,包括安装在机架上相互平行的辊轮轴1和压轮轴2,所述的辊轮轴1与压轮轴2之间通过相同模数和齿数的齿轮6传动实现同步旋转。所述的辊轮轴1上固定有实心辊轮3,压轮轴2上间距安装有若干个与实心辊轮3同步旋转的压轮4,所述的压轮4与压轮轴2间隙配合且轴向限位,所述实心辊轮3和压轮4的外周面均具有V形齿5,在安装时,将压轮4的V形齿5的齿尖对应于实心辊轮3的V形齿5之间的齿槽,相应地实心辊轮3的V形齿5的齿尖对应于压轮4的V形齿5之间的齿槽,这样不传送硅片的时候,压轮4处于悬空状态,压轮4与实心辊轮3彼此之间是不接触的,传送时,当硅片一旦进入的时候压轮4就会向上移动,压轮4的V形齿5压住硅片,防止硅片传送时硅片出现跑偏现象,压轮4与实心辊轮3同步旋转而传送硅片行走。本技术通过对压轮4与实心辊轮3上下组合的改进,使得压轮4与实心辊轮3在不传送硅片时无接触,减少了磨损,即使硅片的一侧有药水污染,这种结构也不会让压轮4与实心辊轮3之间产生交叉污染,从而有助于提高硅片的优良率。以上述依据本技术的理想实施例为启示,通过上述的说明内容,相关工作人员完全可以在不偏离本项技术技术思想的范围内,进行多样的变更以及修改。本项技术的技术性范围并不局限于说明书上的内容,必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防止传送轮交叉污染的硅片传送装置,包括安装在机架上相互平行的辊轮轴(1)和压轮轴(2),辊轮轴(1)上固定有实心辊轮(3),压轮轴(2)上间距安装有若干个与实心辊轮(3)同步旋转的压轮(4),其特征是:所述的压轮(4)与压轮轴(2)间隙配合且轴向限位,所述实心辊轮(3)和压轮(4)的外周面均具有V形齿(5),所述压轮(4)的V形齿(5)的齿尖对应于实心辊轮(3)的V形齿(5)的齿槽。

【技术特征摘要】
1.一种防止传送轮交叉污染的硅片传送装置,包括安装在机架上相互平行的辊轮轴(1)和压轮轴(2),辊轮轴(1)上固定有实心辊轮(3),压轮轴(2)上间距安装有若干个与实心辊轮(3)同步旋转的压轮(4),其特征是:所述的压轮(4)与压轮轴(2)间隙配合且轴向限位,所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴佳俊吴家宏张凯胜姚伟忠孙铁囤
申请(专利权)人:常州亿晶光电科技有限公司
类型:新型
国别省市:江苏,32

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