Innovative and improved clean process carbon dioxide supply methods and systems for supplying supercritical and subcritical phase carbon dioxide to the matrix on demand to produce carbon dioxide for removing contaminants contained in the matrix. The supply system's ability to deliver steam, liquids and supercritical carbon dioxide in a specific sequence at a predetermined time during the cleaning process produces improved removal of pollutants from the substrate than conventional carbon dioxide cleaning processes.
【技术实现步骤摘要】
用于将纯化多相二氧化碳输送至处理工具的系统本申请为分案申请,原申请号201380031446.4,申请日:2013年4月15日,专利技术名称:用于将纯化多相二氧化碳输送至处理工具的系统。
本专利技术涉及基于创新加工工序的用于从基体表面去除污染物的二氧化碳供应系统和方法。具体地,加工涉及将不同二氧化碳的相(包括超临界二氧化碳)的组合引入处理室,以产生特别的清洁工序,该工序设计成去除副产物污染物而不损坏形成在基体上的装置特征。
技术介绍
动态随机存取存储器(DRAM)制造者继续投资并研发焊有高纵横比(ARAspectRatio)的堆叠微电子装置特征的装置,例如,圆柱形电容器。半导体的国际技术路线图(ITRS)指出,对于下一代电容器,需要例如在32纳米节点及以下的高于50:1的纵横比来保持足够的电容值。用于微电子装置特征的这样的纵横比继续增加以满足对于集成电路的处理速度和储存密度的不断增加的需求。高纵横比微电子特征的制造可包括多个加工步骤,例如,构图,蚀刻和材料沉积以生产装置特征。传导特征可形成在随后通过蚀刻溶液去除的牺牲层内。蚀刻溶液和副产物通常用去离子水和/或有机溶剂来冲洗和干燥。然而,由于去离子水和有机溶剂的表面张力,传导特征易于在蚀刻,清洁和干燥期间破裂。当结构的宽度尺寸继续减小并且它们的纵横比继续增加时,这些特征的破裂的出现变得更频繁并更成问题。用于减少特征破裂的一个方法是使用超临界二氧化碳作为用于这类特征的蚀刻,清洁和干燥的溶剂。超临界二氧化碳不具有任何表面张力。因此,装置结构在接触超临界二氧化碳时不会破裂。然而,使用超临界二氧化碳存在缺点。例如,在 ...
【技术保护点】
1.一种用于输送超临界和非超临界相的二氧化碳以产生用于从基体表面去除污染物的定制清洁工序的方法,所述方法包括以下步骤:将溶剂流体引入包含所述基体的室中,所述溶剂流体包括处于超临界相的二氧化碳,其中所述超临界相混有助溶添加剂;将污染物从所述基体表面传递入所述超临界二氧化碳相中,以形成至少部分消耗的超临界相二氧化碳;将所述至少部分消耗的超临界二氧化碳相从所述室去除,并且同时将处于超临界相的新鲜的二氧化碳引入所述室中,以便稀释所述消耗的超临界二氧化碳并且基本阻止所述污染物沉淀在所述基体表面上,其中所述新鲜的二氧化碳包括溶于其中的添加助溶剂;随后将处于液体相的二氧化碳引入室;以及使所述二氧化碳液体相在所述基体表面上流动以冲刷并冲洗所述基体表面并且从而去除所述污染物和可能在所述清洁工序后留在所述基体表面上的所述助溶剂和所述添加助溶剂。
【技术特征摘要】
2012.04.17 US 61/6252651.一种用于输送超临界和非超临界相的二氧化碳以产生用于从基体表面去除污染物的定制清洁工序的方法,所述方法包括以下步骤:将溶剂流体引入包含所述基体的室中,所述溶剂流体包括处于超临界相的二氧化碳,其中所述超临界相混有助溶添加剂;将污染物从所述基体表面传递入所述超临界二氧化碳相中,以形成至少部分消耗的超临界相二氧化碳;将所述至少部分消耗的超临界二氧化碳相从所述室去除,并且同时将处于超临界相的新鲜的二氧化碳引入所述室中,以便稀释所述消耗的超临界二氧化碳并且基本阻止所述污染物沉淀在所述基体表面上,其中所述新鲜的二氧化碳包括溶于其中的添加助溶剂;随后将处于液体相的二氧化碳引入室;以及使所述二氧化碳液体相在所述基体表面上流动以冲刷并冲洗所述基体表面并且从而去除所述污染物和可能在所述清洁工序后留在所述基体表面上的所述助溶剂和所述添加助溶剂。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述稀释步骤在恒定压力下发生。3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述稀释步骤发生的同时,使所述室通气以便使所述室降压至大于大气压的压力。4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括在利用所述二氧化碳液体相的所...
【专利技术属性】
技术研发人员:S班纳吉,WR格里斯蒂,
申请(专利权)人:普莱克斯技术有限公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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