掩模清洗液组合物制造技术

技术编号:18723352 阅读:31 留言:0更新日期:2018-08-22 00:46
本发明专利技术提供一种掩模清洗液组合物,其特征在于,包含下述化学式1所表示的酰胺系化合物,下述化学式1中,R1和R2各自独立地为甲基或乙基,R3为氢、或者被C1~C4的烷氧基取代或非取代的C1~C4的饱和或不饱和烃基,其中,当R1和R2为甲基时,R3为被C1~C4的烷氧基取代或非取代的C2~C4的饱和烃基或C2~C4的不饱和烃基。本发明专利技术的掩模清洗液组合物具有即使不包含NMP之类的环境管制物质也能显示良好的清洗力而易于工序运转的优点。化学式1

Mask cleaning fluid composition

The present invention provides a mask cleaning solution composition characterized by the inclusion of amide compounds represented by formula 1, in which R1 and R2 are independently methyl or ethyl, R3 is hydrogen, or saturated or unsaturated hydrocarbons of C1-C4 substituted or non-substituted alkoxy groups C1-C4, in which R1 is inappropriate. When R2 is methyl, R3 is a saturated hydrocarbon group of C2-C4 or an unsaturated hydrocarbon group of C2-C4 substituted or non-substituted alkoxy group of C1-C4. The mask cleaning liquid composition of the present invention has the advantages of good cleaning force and easy operation of the working procedure even without environmental control substances such as NMP. Chemical type 1

【技术实现步骤摘要】
掩模清洗液组合物
本专利技术涉及掩模清洗液组合物,具体而言,涉及用于去除真空蒸镀工序中所使用的掩模上的各种有机物的掩模清洗液组合物。
技术介绍
平板显示器(flatpaneldisplay,FPD)作为显示装置受到关注,其中,液晶显示装置和有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode,OLED)成为关注对象。目前,作为显示器最常用的液晶显示装置具有比以往的阴极射线管(Cathoderaytube;CRT)轻、体积小且低耗电等优点。但是存在如下缺点:由于不是自发光,因此需要使用背光(Backlight),且因使用液晶而视角受限。与此相对,OLED元件具有驱动电压低、发光效率高、视角宽、响应速度快等优点,尤其由于是自发光型,因而具有不需要背光等优点。这样的OLED元件通过使用自发光的发光有机物,从而由阴极和阳极供给的电子和空穴再结合而发出光。对于这样的OLED之类的半导体设备或平板显示器而言,为了在制造工序中形成各种发光层、空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层等有机物层,会利用掩模来实施有机物的蒸镀。此时,有机物也附着于掩模的表面,由于这样附着的有机物,通过掩模形成的图案的形状可能会变形。这会导致蒸镀工序的效率降低,对所制造的半导体设备或平板显示器的性能也可能造成影响,因此有必要去除蒸镀于掩模的有机物。韩国公开专利第2011-0095814号涉及一种蒸镀材料清洗液组合物和利用该蒸镀材料清洗液组合物的清洗方法,公开了涉及包含N-甲基-2-吡咯烷酮(N-Methyl-2-pyrrolidone)和1,3-二甲基-2-咪唑啉酮(1,3-Dimethyl-2-imidazolidinone)的蒸镀材料清洗液组合物的内容。韩国公开专利第1388283号涉及一种掩模清洗装置,公开了涉及具有如下特征的掩模清洗装置的内容,即,包含:产生超声波而清洗浸没于清洗液的掩模的超声波清洗部;用于排出和供给上述超声波清洗部的清洗液的清洗液循环部,上述超声波清洗部中的超声波的频率为75KHz以上90KHz以下,强度为800W以上1100W以下,上述清洗液为N-甲基吡咯烷酮(N-MethylPyrrolidinone;NMP)混合物。但是,以往掩模清洗液中所使用的N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)为有毒物质,具体而言,根据国立环境科学院第2014-25号,其是含有0.3重量%以上时被分类为有毒物的物质。使用包含NMP的掩模清洗液的情况下,不仅对人体有害,而且在环境方面也不佳。此外,掩模清洗工序根据制造工序状况而确定运转时间,因此不应当在大气状态下长期保存后发生性能降低。特别是由于露出于大气中,因此不应当因水分吸收而发生性能降低。由此,要求开发即使不包含NMP之类的环境管制物质清洗力也优异、不发生因水分吸收而导致的性能降低、易于工序运转的掩模清洗液。现有技术文献专利文献韩国公开专利第2011-0095814号(2011.08.25.)韩国公开专利第1388283号(2014.04.16.)
技术实现思路
所要解决的课题本专利技术的目的在于,提供即使不包含环境管制物质也显示良好的清洗力的清洗液组合物。此外,本专利技术的目的在于,提供不需要超声波和电解清洗且稳定性优异而易于工序运转的清洗液组合物。解决课题的方法用于实现上述目的的本专利技术的清洗液组合物的特征在于,包含下述化学式1所表示的酰胺系化合物。[化学式1]上述化学式1中,R1和R2各自独立地为甲基或乙基,R3为氢、或者被C1~C4的烷氧基取代或非取代的C1~C4的饱和或不饱和烃基,其中,当R1和R2为甲基时,R3为被C1~C4的烷氧基取代或非取代的C2~C4的饱和烃基或C2~C4的不饱和烃基。专利技术效果本专利技术的掩模清洗液组合物具有即使不包含NMP之类的环境管制物质也能显示良好的清洗力而易于工序运转的优点。此外,本专利技术的掩模清洗液组合物具有抑制因水分吸收而导致的性能降低的优点。此外,在利用本专利技术的掩模清洗液组合物清洗掩模的情况下具有不需要超声波和电解清洗的优点。附图说明图1和图2为例示基于掩模清洗液吸收率和保存稳定性评价的玻璃的图。具体实施方式以下,对本专利技术进行更详细说明。本专利技术中,当指出某一构件位于另一构件“上”时,其不仅包括某一构件与另一构件接触的情况,还包括两构件之间存在其他构件的情况。本专利技术中,当指出某一部分“包含”某一构成要素时,其意味着只要没有特别相反的记载,则可以进一步包含其他构成要素,而不是将其他构成要素排除。本专利技术的一方式涉及包含下述化学式1所表示的酰胺系化合物的掩模清洗液组合物。[化学式1]上述化学式1中,R1和R2各自独立地为甲基或乙基,R3为氢、或者被C1~C4的烷氧基取代或非取代的C1~C4的饱和或不饱和烃基,其中,当R1和R2为甲基时,R3为被C1~C4的烷氧基取代或非取代的C2~C4的饱和烃基或C2~C4的不饱和烃基。本专利技术中,烷氧基可以为直链、支链或环状链。烷氧基的碳原子数虽然没有特别限定,但优选碳原子数为1~4。具体而言,可以举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、异丁氧基、叔丁氧基、仲丁氧基等,但不限于此。本专利技术中,饱和烃基可以为满足上述碳原子数的直链或支链和环状的任一种。作为上述直链或支链的饱和烃基,可以举出甲基、乙基、丙基、丁基等直链状烷基;异丙基、异丁基等支链状烷基等。上述饱和烃基优选碳原子数为1~4,更优选碳原子数为1~3。但在R1和R2均为甲基的情况下,上述饱和烃基的碳原子数为2~4。作为上述环状的饱和烃基,可以举出环丙基、环丁基等。本专利技术中,不饱和烃基在末端具有不饱和基团,其可以为碳原子数2~4的直链型脂肪族不饱和烃基、支链型脂肪族不饱和烃基。上述直链型脂肪族不饱和烃基比如可以举出乙烯基、丙烯基(烯丙基)、丁烯基等,作为上述支链型不饱和烃基,比如可以举出1-甲基丙烯基、2-甲基丙烯基等,但不限于此。本专利技术的掩模清洗液组合物可以为上述化学式1所表示的酰胺系化合物单独(neat,纯)状态。比如,本专利技术的掩模清洗液组合物可以由上述化学式1所表示的酰胺系化合物形成。本专利技术的一实施方式中,上述化学式1所表示的酰胺系化合物可以为选自由N,N-二甲基丙酰胺、N,N-二甲基异丁酰胺、N,N-二甲基丙烯酰胺、N,N-二甲基甲基丙烯酰胺、N,N-二乙基甲酰胺、N,N-二乙基乙酰胺、N,N-二乙基丙酰胺、N,N-二乙基异丁酰胺、N,N-二乙基丙烯酰胺、N,N-二乙基甲基丙烯酰胺、3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺和3-丁氧基-N,N-二甲基丙酰胺组成的组中的一种以上,比如,可以单独或将两者以上混合使用。本专利技术的掩模清洗液组合物由于包含上述化学式1所表示的酰胺系化合物,因此具有掩模清洗力优异,不会对掩模、比如形成掩模的SUS、不胀钢(Invar)等物质造成损伤的优点,并且由于可以替代NMP之类的环境有害物质,因此具有环境方面优异且工序方面也容易的优点。具体而言,本专利技术的掩模清洗液组合物具有不会对有机发光元件的图案形成中所使用的不胀钢材质的掩模和支持上述掩模的不锈钢(SUS304、316、420等)基材等造成腐蚀等之类的损伤的优点。比如,本专利技术的掩模清洗液组合物对于附着在上述掩模的各种有机物质的清洗力优异。上述有机物质比如可以为形成发出本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种掩模清洗液组合物,其包含下述化学式1所表示的酰胺系化合物:化学式1

【技术特征摘要】
2017.02.14 KR 10-2017-0020086;2017.11.10 KR 10-2011.一种掩模清洗液组合物,其包含下述化学式1所表示的酰胺系化合物:化学式1所述化学式1中,R1和R2各自独立地为甲基或乙基,R3为氢、或者被C1~C4的烷氧基取代或非取代的C1~C4的饱和或不饱和烃基,其中,当R1和R2为甲基时,R3为被C1~C4的烷氧基取代或非取代的C2~C4的饱和烃基或C2~C4的不饱和烃基。2.根据权利要求1所述的掩模清洗液组合物,所述化学式1所表示的酰胺系化合物为选自由N,N-二甲基丙酰胺、N,N-二甲基异丁酰胺、N,N-二甲基丙烯酰胺、N,N-...

【专利技术属性】
技术研发人员:金圣植金正铉房淳洪高京俊赵汉爀
申请(专利权)人:东友精细化工有限公司
类型:发明
国别省市:韩国,KR

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