The invention relates to the field of auxiliary devices for silicon wafer research and development, in particular to a silicon wafer cleaning device, including a cleaning cylinder for holding cleaning liquid, a piston plate with air tightness in the cleaning cylinder, a piston rod fixed through the inner bottom of the cleaning cylinder, and a piston rod driven up and down by a power mechanism; and a cleaning cylinder middle part. There are several through holes on the cleaning board, and there is a gap between the infrared heating pipe and the inner wall of the through hole. The outer wall of the infrared heating pipe is covered with a transparent water-proof sleeve with heat conduction. A plurality of ducts are arranged on the tube. One end of the duct is connected to the wall of the cleaning cylinder near the bottom side of the cleaning plate, and the other end of the duct is detachably connected with the nozzle. The invention ensures that the silicon wafer is fully in contact with the cleaning liquid, reduces the temperature of the cleaning liquid, avoids the evaporation and decomposition speed of the cleaning liquid too fast, and can detect whether the silicon wafer has cracks.
【技术实现步骤摘要】
一种硅片清洗设备
本专利技术涉及硅片研发的辅助装置领域,具体涉及一种硅片清洗设备。
技术介绍
硅片是制作芯片的重要材料,由于硅片制成的芯片具有非常良好的运算能力,硅片制成芯片的工作速度快且精确度高,所以硅片的应用范围非常广泛,例如硅片已应用到航天航空、医学、农业、国防和工业自动化领域中。硅片在研发生产时需要进行切片,硅片的切片方式主要有两种:内圆切割和线切割,硅片进行切片时产生的颗粒污染会影响硅片的蚀刻性能,硅片在运输过程中也会有所污染而导致其表面洁净度不高,被污染的硅片会对即将进行的蚀刻产生很大的影响,所以硅片清洗是一项重要的操作。现有专利CN101773917B公开了一种硅片清洗装置及方法,该装置包括旋转器、与旋转器相连的平台、位于平台上方的支架、固定在支架上的石英灯、固定在平台一侧的机械臂和固定在机械臂上的喷嘴,在清洗时将硅片固定在平台上,开启石英灯对硅片表面进行加热,加热后能提高硅片的清洗效果,再启动旋转器带动平台旋转,通过机械臂上的喷嘴将清洗液喷洒到硅片的表面进行清洗,清洗完毕后关闭石英灯,最后通过喷嘴喷出清水去除硅片表面的清洗液。但是,清洗液从硅片上面往下喷进行清洗时,硅片接触到平台的一面并没有接触到清洗液,硅片与清洗液接触不充分;石英灯位置固定,清洗液局部受热而导致温度较高,部分清洗液蒸发分解后造成清洗液浪费。
技术实现思路
本专利技术意在提供一种硅片清洗设备,以解决硅片与清洗液接触不充分和清洗液温度较高而蒸发分解造成浪费的问题。本方案中的硅片清洗设备,包括用于盛放硅片清洗液的清洗筒,所述清洗筒内气密性配合有活塞板,所述活塞板固设有穿过清洗筒内底 ...
【技术保护点】
1.一种硅片清洗设备,其特征在于:包括用于盛放硅片清洗液的清洗筒,所述清洗筒内气密性配合有活塞板,所述活塞板固设有穿过清洗筒内底的活塞杆,所述活塞杆通过动力机构带动进行上下移动;所述清洗筒中部固设有清洗板,所述清洗板上开设有多个通孔,所述通孔内均固设有红外加热管,所述红外加热管与通孔的内壁间具有空隙,所述红外加热管的外壁上均套设有导热透明的防水套;所述清洗筒固设有喷嘴,所述喷嘴朝向清洗筒中心一侧倾斜向下,所述清洗筒上设有多根导管,所述每根导管的一端连接在靠近清洗板底侧处的清洗筒筒壁上,所述每根导管的另一端与喷嘴可拆卸连接;所述清洗筒筒壁连接导管处均设有挡片,所述挡片在清洗筒筒壁上形成供清洗液流入导管的溢流通道,所述活塞板开设有可供挡片插入的插孔,所述插孔内设有用于封住插孔的弹性封片,所述挡片可与弹性封片间隙配合。
【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗设备,其特征在于:包括用于盛放硅片清洗液的清洗筒,所述清洗筒内气密性配合有活塞板,所述活塞板固设有穿过清洗筒内底的活塞杆,所述活塞杆通过动力机构带动进行上下移动;所述清洗筒中部固设有清洗板,所述清洗板上开设有多个通孔,所述通孔内均固设有红外加热管,所述红外加热管与通孔的内壁间具有空隙,所述红外加热管的外壁上均套设有导热透明的防水套;所述清洗筒固设有喷嘴,所述喷嘴朝向清洗筒中心一侧倾斜向下,所述清洗筒上设有多根导管,所述每根导管的一端连接在靠近清洗板底侧处的清洗筒筒壁上,所述每根导管的另一端与喷嘴可拆卸连接;所述清洗筒筒壁连接导管处均设有挡片,所述挡片在清洗筒筒壁上形成供清洗液流入导管的溢流通道,所述活塞板开设有可供挡片插入的插孔,所述插孔内设有用于封住插孔的弹性封片,所述挡片可与弹性封片间隙...
【专利技术属性】
技术研发人员:叶敏,
申请(专利权)人:宁波德深机械设备有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江,33
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