管道吹扫装置及工艺气体输送清洁系统制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种管道吹扫装置及工艺气体输送清洁系统，属于管道清洁系统技术领域。管道吹扫装置包括负压真空模组，该模组包括依次连接的第一逆止阀、第一压力表和第一隔膜阀，还包括连接在第一压力表与第一隔膜阀之间的分支管路，分支管路上设置有第二隔膜阀，分支管路的自由端连接真空泵。负压真空模组用于对设备的抽真空操作，可以将设备中的气体全部排出。该装置还包括正压吹扫模组，该模组包括依次连接的第三隔膜阀、第二压力表、缓冲罐、第四隔膜阀和第二逆止阀，缓冲罐能够存储氮气，当氮气具有足够大的冲击力时，可以很容易地将残余杂质清扫出去。本发明专利技术结构简单，清扫时间短，效果好，氮气消耗量少，生产成本低。

Pipeline purging device and process gas conveying cleaning system

The invention discloses a pipeline purging device and a process gas transportation cleaning system, belonging to the technical field of pipeline cleaning system. The pipeline purging device comprises a negative pressure vacuum module, which comprises a first check valve, a first pressure gauge and a first diaphragm valve connected in sequence, and a branch pipe connecting the first pressure gauge and the first diaphragm valve. A second diaphragm valve is arranged on the branch pipe and a vacuum pump is connected at the free end of the branch pipe. The negative pressure vacuum module is used for vacuum operation of the equipment, and can discharge all the gas in the equipment. The device also includes a positive pressure purge module, which includes a third diaphragm valve, a second pressure gauge, a buffer tank, a fourth diaphragm valve and a second check valve connected in sequence. The buffer tank can store nitrogen and can easily remove residual impurities when nitrogen has sufficient impact force. The invention has the advantages of simple structure, short cleaning time, good effect, less nitrogen consumption and low production cost.

【技术实现步骤摘要】
管道吹扫装置及工艺气体输送清洁系统
本专利技术涉及管道清洁系统
，尤其涉及一种管道吹扫装置及工艺气体输送清洁系统。
技术介绍
在半导体生产工艺中需要大量的使用高纯工艺气体，如：氯气、磷烷、氯化氢等四十余种高纯气体。随着半导体生产规模的不断扩大，需要安装大量的工艺气体管路。安装工艺气体管路的步骤为：首先按现场尺寸进行下料，即：分段切割，弯曲不锈钢管路；接着进行氩弧焊接，将不锈钢管路安装连接在气体钢瓶柜、气体分配阀箱和生产设备机台之间；然后进行气体管路保压测试，这是非常关键的一步，其目的是证明此管线能在一定的时间内保持稳定的压力不变，通常来说要持续24小时保持管路内的压力为150psi(psi：poundpersqureinch：一种压力单位)；保压测试合格后，进行氦检漏测试，漏率小于1.0X10-9mbar.l/s为合格。然后用高纯氮气吹扫并进行管路含水分、氧分、微粒测试，直到满足技术要求，此管路才可以投入使用。由于洁净度是影响终端产品的主要因素，所以对工艺管道进行微粒技术测试，如果微粒计数测试合格，就继续进行水氧含量测试。吹扫可排出管件及配件内部所有的微量油、水分和微粒。如果这些有害物质进入工艺气体管路就会损害产品。因此，半导体设备厂在特气输送管路组装完成后，做完气密性测试后，为满足客户对设备管路的洁净度要求，会对管路做水分、氧分、颗粒含量做测试。工厂目前做法是杜瓦罐作为吹扫气源，在出气口上安装氮气纯化器，氮气纯化器出口连接减压阀和压力表。再连接气体管路用高纯氮气对其持续吹扫两个小时后连接水分、氧分、颗粒分析仪，当水分、氧分含量小于10ppb，尺寸小于0.01um的颗粒小于1pcs/ft3时为合格。通常，要达到此标准，需要连续吹扫24小时以上。遇到管路较长时还需要吹扫更长的时间，且对阀件中存在的一些支路和拐角无法清扫干净。这样不仅消耗的氮气量大，增加了施工成本，而且耽误了大量宝贵的时间，影响工作进度。
技术实现思路
本专利技术的目的之一在于提供一种管道吹扫装置及工艺气体输送清洁系统，以解决现有技术中无法清扫局部支路和拐角，清扫到达标要求耗费大量氮气，且清扫时间长，增加物质和时间成本。为实现上述目的，提供以下技术方案：本专利技术提供的管道吹扫装置，包括负压真空模组和正压吹扫模组；所述负压真空模组包括依次通过第一管路首尾连接的第一逆止阀、第一压力表和第一隔膜阀，还包括连接在所述第一压力表与所述第一隔膜阀之间的分支管路，所述分支管路上设置有第二隔膜阀，所述分支管路的自由端连接真空泵；所述正压吹扫模组包括依次通过第二管路首尾连接的第三隔膜阀、第二压力表、缓冲罐、第四隔膜阀和第二逆止阀。进一步地，所述缓冲罐内还设置有控温加热装置。进一步地，所述第一压力表和所述第二压力表均采用指针式压力表。进一步地，所述第一隔膜阀、所述第二隔膜阀、所述第三隔膜阀和所述第四隔膜阀均采用手动隔膜阀结构。进一步地，还包括第一基板和第二基板，所述负压真空模组设置在所述第一基板上，所述正压吹扫模组设置在所述第二基板上。进一步地，所述第一逆止阀和所述第一隔膜阀均通过VCR接头与所述第一管路连接，所述第二隔膜阀通过VCR接头与所述分支管路连接。进一步地，所述第三隔膜阀、所述第四隔膜阀和所述第二逆止阀均通过VCR接头与所述第二管路连接。进一步地，所述第一管路、所述第二管路和所述分支管路均为不锈钢管道。本专利技术还提供了一种工艺气体输送清洁系统，包括工艺气体输送设备和上述技术方案任一项所述的管道吹扫装置，所述管道吹扫装置中的第一管路靠近第一逆止阀的一端与所述工艺气体输送设备的出气口连接；所述管道吹扫装置中的第二管路靠近第三隔膜阀的一端与氮气气源连接，另一端与所述工艺气体输送设备的进气口连接。进一步地，所述第一管路的另一端与废料收集罐连接。与现有技术相比，本专利技术提供的管道吹扫装置及工艺气体输送清洁系统，包括负压真空模组，负压真空模组用于在使用前对工艺气体输送设备的抽真空操作，直到第一压力表上的压力值至-14.7psi，抽真空完成，这样经过抽真空，可以将工艺气体输送设备中的气体全部排出。该管道吹扫装置还包括正压吹扫模组，正压吹扫模组中设置有缓冲罐，缓冲罐具有储能作用，再打开第三隔膜阀，使氮气气源中的氮气存入缓冲罐，当第二压力表上的压力值到达80psi时，缓冲罐内的氮气具有足够大的冲击力，此时打开第四隔膜阀和第一隔膜阀，可以很容易地将工艺气体输送设备管路中的残余杂质清扫出去。本专利技术的管道吹扫装置结构简单，清扫时间短，效果好，氮气消耗量大大减少，生产成本大大降低。另外，缓冲罐内设置控温加热装置，可以对缓冲罐内的氮气进行加热，热的氮气可以将杂质和水分一次性全部清除，大大缩短了清扫时间，降低了氮气的损耗。附图说明图1为本专利技术实施例中的负压真空模组的结构示意图；图2为本专利技术实施例中的正压吹扫模组的结构示意图；图3为本专利技术实施例中的工艺气体输送清洁系统的结构示意图。附图标记：1-第一管路；2-分支管路；3-第一逆止阀；4-第一压力表；5-第一隔膜阀；6-第二隔膜阀；7-真空泵；8-第二管路；9-第三隔膜阀；10-第二压力表；11-缓冲罐；12-第四隔膜阀；13-第二逆止阀；14-控温加热装置；15-工艺气体输送设备；16-氮气气源；17-废料收集罐。具体实施方式下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本专利技术的技术方案。为使本专利技术解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面将结合附图对本专利技术实施例的技术方案作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。如图3所示，本实施例提供了一种工艺气体输送清洁系统，包括工艺气体输送设备15和管道吹扫装置，其中的管道吹扫装置包括负压真空模组和正压吹扫模组。具体地，如图1至图3所示，负压真空模组包括依次通过第一管路1首尾连接的第一逆止阀3、第一压力表4和第一隔膜阀5，还包括连接在第一压力表4与第一隔膜阀5之间的分支管路2，分支管路2上设置有第二隔膜阀6，分支管路2的自由端连接真空泵7。负压真空模组用于在使用前对工艺气体输送设备15的抽真空操作，直到第一压力表4上的压力值至-14.7psi，抽真空完成，这样经过抽真空，可以将工艺气体输送设备15中的气体全部排出，操作简单且用时很短，节省了时间成本。正压吹扫模组包括依次通过第二管路8首尾连接的第三隔膜阀9、第二压力表10、缓冲罐11、第四隔膜阀12和第二逆止阀13。缓冲罐11具有储能作用，在打开第三隔膜阀9后氮气气源16中的氮气存入缓冲罐11，当第二压力表10上的压力值到达80psi时，缓冲罐11内的氮气具有足够大的冲击力，此时打开第四隔膜阀12和第一隔膜阀5，可以很容易地将工艺气体输送设备15管路中的残余杂质清扫出去。进一步地，缓冲罐11内还设置有控温加热装置14，可以对缓冲罐11内的氮气进行加热，热的氮气可以将杂质和水分一次性全部清除，大大缩短了清扫时间，降低了氮气的损耗。进一步地，第二管路8靠近第三隔膜阀9的一端与氮气气源16连接，另一端与工艺气体输送设备15的进气口连接，第一管路1靠近第一逆止阀3的一端与工艺气体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种管道吹扫装置，其特征在于，包括负压真空模组和正压吹扫模组，所述负压真空模组包括依次通过第一管路(1)首尾连接的第一逆止阀(3)、第一压力表(4)和第一隔膜阀(5)，还包括连接在所述第一压力表(4)与所述第一隔膜阀(5)之间的分支管路(2)，所述分支管路(2)上设置有第二隔膜阀(6)，所述分支管路(2)的自由端连接真空泵(7)；所述正压吹扫模组包括依次通过第二管路(8)首尾连接的第三隔膜阀(9)、第二压力表(10)、缓冲罐(11)、第四隔膜阀(12)和第二逆止阀(13)。

【技术特征摘要】
1.一种管道吹扫装置，其特征在于，包括负压真空模组和正压吹扫模组，所述负压真空模组包括依次通过第一管路(1)首尾连接的第一逆止阀(3)、第一压力表(4)和第一隔膜阀(5)，还包括连接在所述第一压力表(4)与所述第一隔膜阀(5)之间的分支管路(2)，所述分支管路(2)上设置有第二隔膜阀(6)，所述分支管路(2)的自由端连接真空泵(7)；所述正压吹扫模组包括依次通过第二管路(8)首尾连接的第三隔膜阀(9)、第二压力表(10)、缓冲罐(11)、第四隔膜阀(12)和第二逆止阀(13)。2.根据权利要求1所述的管道吹扫装置，其特征在于，所述缓冲罐(11)内还设置有控温加热装置(14)。3.根据权利要求1所述的管道吹扫装置，其特征在于，所述第一压力表(4)和所述第二压力表(10)均采用指针式压力表。4.根据权利要求1所述的管道吹扫装置，其特征在于，所述第一隔膜阀(5)、所述第二隔膜阀(6)、所述第三隔膜阀(9)和所述第四隔膜阀(12)均采用手动隔膜阀结构。5.根据权利要求1所述的管道吹扫装置，其特征在于，还包括第一基板和第二基板，所述负压真空模组设置在所述第一基板上，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：邝亮亮，
申请(专利权)人：上海正帆科技股份有限公司，江苏正帆半导体设备有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31