光刻装置及物品的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种光刻装置及物品的制造方法，所述光刻装置在基板上形成图案，其特征在于，所述光刻装置包括：卡盘，其包括用于保持所述基板的第一保持面、以及与所述第一保持面相反一侧的背面；载台，其包括用于保持所述卡盘的第二保持面，并能够移动；板，其包括第一清洁面、以及与所述第一清洁面相反一侧的第二清洁面；保持部，其以垂直方向的保持力小于水平方向的保持力的方式来保持所述板或所述卡盘，并能够移动；以及处理部，其通过所述保持部所保持的所述板的所述第二清洁面对所述第一保持面和所述第二保持面中的至少一者进行清洁，并通过所述板的所述第一清洁面对所述保持部所保持的所述卡盘的所述背面进行清洁。

Lithographic apparatus and method for manufacturing articles

The invention provides a photolithographic device and a method for manufacturing an article, the photolithographic device forming a pattern on a substrate, characterized in that the photolithographic device comprises a chuck, which includes a first holding surface for holding the substrate, a back surface opposite to the first holding surface, and a carrier platform, which includes a holding surface. The second holding surface of the chuck is movable; the plate comprises a first cleaning surface and a second cleaning surface opposite to the first cleaning surface; the holding part, which holds the plate or the chuck in a manner that the vertical holding force is less than the horizontal holding force and can move; and the processing section. It cleans at least one of the first holding surface and the second holding surface through the second cleaning surface of the plate held by the holding part, and cleans the back surface of the chuck held by the holding part through the first cleaning surface of the plate.

【技术实现步骤摘要】
光刻装置及物品的制造方法
本专利技术涉及一种光刻装置及物品的制造方法。
技术介绍
为了提高半导体器件或液晶显示元件等器件的生产率，对在这些器件的制造中使用的曝光装置等光刻装置要求高吞吐量。于是，促进了光刻装置中使用的基板载台的高加速度化。为了实现基板载台的高加速度化，除基板载台的轻量化之外，将在基板载台上用于保持基板的卡盘轻量化(薄型化)也是有效的。另一方面，近年来，为了提高器件的生产率，基板的大型化也不断发展，与之相伴，卡盘的大型化也不断发展。此外，在光刻装置中，为了应对器件的高集成化以及微小化，高NA(numericalaperture，数值孔径)化不断发展。但是，通过高NA化，虽然提高了解析度，但是降低了有效的焦深，因此在光刻装置中，要求以高的平面度来保持基板。如果促进卡盘的薄型化，则卡盘的刚性降低，因此与卡盘的基板保持面(正面)相反一侧的面(背面)与用于保持卡盘的基板载台之间的异物对基板的平面度的影响变大。此外，由于卡盘的大型化，卡盘的背面与基板载台相接触的面积变大，附着异物的可能性变高，因此要求超出以往的用于抑制异物的附着的技术。例如，在日本专利第4086651号公报中，公开了如下技术：在卡盘与用于保持卡盘的基板载台相接触的状态下，通过使卡盘与基板载台相对移动，来去除(清洁)卡盘的背面与基板载台之间所附着的异物。然而，在现有技术中，一边相对地按压卡盘与基板载台一边使卡盘与基板载台移动，导致卡盘或基板载台显著磨损。这样的磨损不仅会引起保持基板时的平面度的下降，还成为异物产生的重要因素。
技术实现思路
本专利技术提供一种有利于在抑制卡盘和/或载台的磨损的同时，以高平面度保持基板的光刻装置。根据本专利技术的一个方面，提供一种在基板上形成图案的光刻装置，所述光刻装置的特征在于包括：卡盘，其包括用于保持所述基板的第一保持面、以及与所述第一保持面相反一侧的背面；载台，其包括用于保持所述卡盘的第二保持面，并能够移动；板，其包括第一清洁面、以及与所述第一清洁面相反一侧的第二清洁面；保持部，其以垂直方向的保持力小于水平方向的保持力的方式来保持所述板或所述卡盘，并能够移动；以及处理部，其通过所述保持部所保持的所述板的所述第二清洁面对所述第一保持面和所述第二保持面中的至少一者进行清洁，并通过所述板的所述第一清洁面对所述保持部所保持的所述卡盘的所述背面进行清洁。根据本专利技术的另一方面，提供一种物品的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：使用光刻装置在基板上形成图案的步骤；对通过所述步骤形成有所述图案的所述基板进行处理的步骤；以及由处理后的所述基板制造物品的步骤，其中，所述光刻装置包括：卡盘，其包括用于保持所述基板的第一保持面、以及与所述第一保持面相反一侧的背面；载台，其包括用于保持所述卡盘的第二保持面，并能够移动；板，其包括第一清洁面、以及与所述第一清洁面相反一侧的第二清洁面；保持部，其以垂直方向的保持力小于水平方向的保持力的方式来保持所述板或所述卡盘，并能够移动；以及处理部，其通过所述保持部所保持的所述板的所述第二清洁面对所述第一保持面和所述第二保持面中的至少一者进行清洁，并通过所述板的所述第一清洁面对所述保持部所保持的所述卡盘的所述背面进行清洁。通过以下参照附图对优选实施方式的描述，本专利技术的其他目的或其他方面将变得清楚。附图说明图1是示出作为本专利技术的一个方面的曝光装置的结构的示意图。图2A至图2C是示出清洁板的结构的一个示例的示意图。图3A至图3C是用于说明有关清洁板的保持的结构的图。图4是用于说明清洁卡盘及载台的图。图5A至图5C是用于说明清洁卡盘及载台的图。图6A至图6C是示出清洁板的结构的一个示例的示意图。图7A至图7B是用于说明清洁板的结构的图。具体实施方式以下参照附图对本专利技术的优选实施方式进行说明。应予说明，在各图中，对同一部件赋予相同附图标记，并省略重复说明。图1是示出作为本专利技术的一个方面的曝光装置1的结构的示意图。曝光装置1是用于半导体器件等的制造，在基板上形成图案的光刻装置。曝光装置1将基板曝光从而在基板上形成图案(潜像图案)。曝光装置1包括：照明光学系统(未图示)，其以来自光源(未图示)的光(曝光光)对光栅(掩模)104进行照明；以及投影光学系统105，其将光栅104的图案投影在基板102上。此外，曝光装置1包括卡盘101、载台103、保持部106、搬运部107、维护单元108、清洁板109以及控制部120。在曝光装置1中，来自光源并经由照明光学系统被引导的光被照射于作为原版的光栅104。穿过光栅104的光经由投影光学系统105照射在基板102上。卡盘101是包括用于保持基板102的第一保持面101a、以及与第一保持面101a相反一侧的背面101b的基板保持部件，并可拆装地保持于载台103。载台103包括用于保持卡盘101的第二保持面103a，是能够移动的支持部件。在本实施方式中，卡盘101包括多个销(突起部)以及一个或更多个吸附孔，由利用真空吸附来保持基板102的真空吸附卡盘构成。但是，卡盘101也可以由多孔材料制成的多孔卡盘和/或包括电极的静电卡盘构成。在载台103上，构成有多个吸附销。该吸附销在上方向(+Z方向)或下方向(-Z方向)上相对于载台103移动，在将基板102搬运至卡盘101时，或者从卡盘101回收基板102时使用该吸附销。因此，卡盘101上构成有吸附销孔(未图示)。控制部120包括CPU和/或存储器等，控制曝光装置1的整体(动作)。控制部120控制曝光装置1的各部分，进行将光栅104的图案转印至基板102的处理。此外，如后所述，控制部120控制曝光装置1的各部分，还作为清洁卡盘101或载台103的处理部而发挥作用。参照图2A至图2C，说明清洁板109。清洁板109包括第一清洁面109a、以及与第一清洁面109a相反一侧的第二清洁面109b。图2A示出了第一清洁面109a的俯视图，图2C示出了第二清洁面109b的俯视图，图2B示出了清洁板109的侧视图。在本实施方式中，清洁板109由非金属材料构成。具体而言，清洁板109由具有比卡盘101(第一保持面101a)的耐磨损性和载台103(第二保持面103a以及背面101b)的耐磨损性低的耐磨损性的材料(例如Al2O3陶瓷)构成。但是，清洁板109也可以由以下方式构成：第一清洁面109a具有比卡盘101低的耐磨损性，第二清洁面109b具有比载台103和卡盘101的耐磨损性低的耐磨损性。如图2A所示，第一清洁面109a包括多个作为凸部的第一突起部201、配设在第一清洁面109a的外周的第一外周突起部202、以及第一凹陷部203。此外，如图2C所示，第二清洁面109b包括多个作为凸部的第二突起部204、配设在第二清洁面109b的外周的第二外周突起部205、第二凹陷部206、以及环状突起部207。环状突起部207是以围绕构成于载台103上的吸附销的周围的方式而配设的环状凸部。保持部106由以下方式构成，即以垂直方向(Z方向)的保持力比水平方向(X方向及Y方向)的保持力小的方式，可拆装地保持清洁板109或卡盘101，并能够移动。在此，参照图3A、图3B以及图3C，针对有关由保持部106保持清洁板109的结构进行具体地说明。如图3A、图3B以及图本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种在基板上形成图案的光刻装置，其特征在于，所述光刻装置包括：卡盘，其包括用于保持所述基板的第一保持面、以及与所述第一保持面相反一侧的背面；载台，其包括用于保持所述卡盘的第二保持面，并能够移动；板，其包括第一清洁面、以及与所述第一清洁面相反一侧的第二清洁面；保持部，其以垂直方向的保持力小于水平方向的保持力的方式来保持所述板或所述卡盘，并能够移动；以及处理部，其通过所述保持部所保持的所述板的所述第二清洁面对所述第一保持面和所述第二保持面中的至少一者进行清洁，并通过所述板的所述第一清洁面对所述保持部所保持的所述卡盘的所述背面进行清洁。

【技术特征摘要】
2017.02.06 JP 2017-0197851.一种在基板上形成图案的光刻装置，其特征在于，所述光刻装置包括：卡盘，其包括用于保持所述基板的第一保持面、以及与所述第一保持面相反一侧的背面；载台，其包括用于保持所述卡盘的第二保持面，并能够移动；板，其包括第一清洁面、以及与所述第一清洁面相反一侧的第二清洁面；保持部，其以垂直方向的保持力小于水平方向的保持力的方式来保持所述板或所述卡盘，并能够移动；以及处理部，其通过所述保持部所保持的所述板的所述第二清洁面对所述第一保持面和所述第二保持面中的至少一者进行清洁，并通过所述板的所述第一清洁面对所述保持部所保持的所述卡盘的所述背面进行清洁。2.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述处理部在使所述保持部所保持的所述板的所述第二清洁面与所述第二保持面相接触的状态下，通过使所述第二清洁面与所述第二保持面相对滑动来对所述第二保持面进行清洁，在使所述保持部所保持的所述卡盘的所述背面与所述载台所保持的所述盘的所述第一清洁面相接触的状态下，通过使所述背面与所述第一清洁面相对滑动来对所述背面进行清洁，并且在使所述保持部所保持的所述板的所述第二清洁面与所述载台所保持的所述卡盘的所述第一保持面相接触的状态下，通过使所述第二清洁面与所述第一保持面相对滑动来对所述第一保持面进行清洁。3.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述板包括至少两个保持部分，所述保持部分包括由用于限制所述板在所述垂直方向的移动的第一壁面和用于限制所述板在所述水平方向的移动的第二壁面构成的开口，所述保持部包括在所述水平方向延伸的插入部分，通过将所述插入部分插入所述开口来保持所述板。4.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：中岛和敬，神谷重雄，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP