触控面板及其触控显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种触控面板及其触控显示装置，触控面板包括：一基材、一导电层以及一黑化层。导电层设置于基材上。黑化层设置于导电层上，且包括一种非金属元素；其中，黑化层的厚度为T，黑化层在距离导电层1/12T的位置具有第一浓度的非金属元素，黑化层在距离导电层7/12T的位置具有第二浓度的非金属元素，且第一浓度小于第二浓度。

Touch panel and touch display device

The invention relates to a touch panel and a touch display device thereof. The touch panel comprises a substrate, a conductive layer and a blackening layer. The conductive layer is arranged on the substrate. The blackening layer is arranged on the conductive layer and includes a non-metallic element. The thickness of the blackening layer is T, and the blackening layer has the first concentration of non-metallic elements at the distance of 1/12T from the conductive layer. The blackening layer has the second concentration of non-metallic elements at the distance of 7/12T from the conductive layer, and the first concentration is less than the second concentration.

【技术实现步骤摘要】
触控面板及其触控显示装置
本专利技术涉及一种触控面板及其应用，且特别是涉及一种具有多层结构的触控电极及其应用。
技术介绍
薄膜导电结构具有导电性与透光性，可运用来作为触控面板的感应层(sensorlayer)。现有的触控面板的感应层一般是通过沉积制作工艺，例如物理气相沉积(PVD)或化学气相沉积(CVD)，将导电材料沉积在基材上，再通过图案化来形成感应电极。而为了符合低阻值的需求，具有金属网格(metalmesh)结构的感应电极为一种受到瞩目的解决方案。
技术实现思路
本专利技术的一个实施例是提供一种触控面板，此触控电极包括：一基材、一导电层以及一黑化层。导电层设置于基材上。黑化层设置于导电层上，且包括一种非金属元素，其中黑化层的厚度为T，黑化层在距离导电层1/12T的位置非金属元素具有第一浓度，黑化层在距离导电层7/12T的位置非金属元素具有第二浓度，且第一浓度小于第二浓度。本专利技术的另一个实施例是提供一种触控显示装置，此触控显示装置包括：一触控面板和一显示介质。触控面板具有一触控电极位于显示介质的一侧。且触控电极包括：一基材、一导电层以及一黑化层。导电层设置于基材上。黑化层设置于导电层上，且包括一种非金属元素；其中，黑化层的厚度为T，黑化层在距离导电层1/12T的位置非金属元素具有第一浓度，黑化层在距离导电层7/12T的位置非金属元素具有第二浓度，且第一浓度小于第二浓度。附图说明图1A至图1D为本专利技术的一实施例所绘示的一系列用来形成触控面板的制作工艺结构剖面示意图；图2为本专利技术的另一实施例所绘示的触控面板的结构剖面示意图；图3为本专利技术的再一实施例所绘示的触控面板的结构剖面示意图；图4为本专利技术的又一实施例所绘示的触控面板的结构剖面示意图；图5为本专利技术的又另一实施例所绘示的触控面板的结构剖面示意图；图6A为采用本专利技术实施例所制备的触控面板的片电阻变化曲线图；图6B为采用传统连续金属氮化层镀膜制作工艺所制备的触控面板的片电阻变化曲线图；图7为应用图3的触控面板所建构的显示装置的结构剖视图；以及图8A至图8C为本专利技术不同实施例绘示黑化层中非金属元素的浓度梯度分布样态。符号说明100：触控面板101：基材101a：基材下表面101b：基材上表面102：导电层102a：导电层的上表面103：黑化层103a：低含氮部分103b：高含氮部分103c：黑化层的上表面104：光学匹配层200：触控面板201：开口300：触控面板305：阻障层400：触控面板405：阻障层500：触控面板501：开口70：显示装置71：触控模块72：显示单元73：背光模块74：显示面板706：保护基板711：彩色滤光层712：液晶层713：薄膜晶体管基板714：底部偏光片715：顶部偏光片Z：轴T：黑化层的厚度具体实施方式本专利技术是提供一种触控面板及应用此触控面板的显示装置。为了对本专利技术能更明显易懂，下文举数个实施例，并配合所附的附图作详细说明。但必须注意的是，这些特定的实施案例与方法，并非用以限定本专利技术。本专利技术仍可采用其他特征、元件、方法及参数来加以实施。数个实施例的提出，仅用以例示本专利技术的技术特征，并非用以限定本专利技术的权利要求。该
中具有通常知识者，将可根据以下揭露的描述，在不脱离本专利技术的精神范围内，作均等的修饰与变化。在不同实施例与附图之中，相同的元件，将以相同的元件符号加以表示。须知悉的是，在本专利技术中，第一特征位于第二特征上以及第一特征设置于第二特征上的叙述，包含有第一特征与第二特征直接接触的态样，以及第一特征与第二特征之间尚包含有另一特征，以致于第一特征与第二特征未直接接触的态样。须知悉的是，在本专利技术中，黑化层的材料包含金属氮化物或金属氧化物，其可吸收部分的外界入射光的效果，其中，黑化层的颜色并不限定于任何一种颜色，它的颜色会因为成分组成不同而有所变化。须知悉的是，在本专利技术中，黑化层中的非金属元素浓度，可采用但不限制于EDX线扫描成分分析，其可以量测非金属元素在黑化层中沿深度方向(在本专利技术中，深度方向平行于Z轴方向)的浓度变化，其中，浓度的单位可为原子百分比或重量百分比。另一方面，由于具有不同非金属元素浓度的层别对于特定的蚀刻剂具有不同的蚀刻速率，因此，通过蚀刻率实验也可直接证实黑化层中的非金属元素存在有浓度梯度。请参照图1A至图1D，图1A至图1D是根据本专利技术的一实施例所绘示的一系列用来形成触控面板100的制作工艺结构剖面示意图。其中形成触控面板100的方法包含下述步骤，但须知悉的是，下述步骤的顺序可以依照设计需求而变动：首先提供一个基材101(如图1A所绘示)。请再搭配图7，在本专利技术的一实施例之中，基材101可以是显示面板中用来形成彩色滤光层711的透光基板。例如在显示面板71中，彩色滤光层711形成于透光基板(基材101)靠近液晶层的下表面101a上；而本实施例所提供的触控电极，则形成于透光基板(基材101)远离液晶层712的上表面101b上。在本专利技术的另一实施例中，基材101可以是自发光显示面板中位于发光层上的封装层(encapsulationlayer)、无机-有机-无机层(inorganic-organic-inorganiclayer)、阻障层(barrierlayer)、偏光层或透光基材等。接着，沿着Z轴方向，形成导电层102于基材101的上表面101b上(如第1B图所绘示)。在本专利技术的一实施例之中，导电层102可以是通过沉积制作工艺，例如溅镀、物理气相沉积法(PhysicalVaporDeposition，PVD)、化学气相沉积法(ChemicalVaporDeposition，CVD)，或其他可行的方法，在基材101的上表面101b上所形成的金属薄膜。导电层102的材质至少包括一种金属材料，而此金属材料可以选自于金(Au)、银(Ag)、钛(Ti)、钨(W)、铟(In)、锌(Zn)、铝(Al)、钕(Nd)、铜(Cu)以及上述金属材料的任意组合。导电层102的厚度例如介于(angstrom，埃米)至之间，或至之间。然而，本专利技术的导电层102的厚度并不以前述范围为限。因为导电层102的厚度可以依照金属材料的阻值不同而有所变化。举例来说，若金属材料的阻值越低，导电层102的厚度可以越薄。在本专利技术的一实施例之中，导电层102是厚度约为的铝合金层。之后，沿着Z轴方向，形成黑化层103于导电层102的上表面102a上。其中，黑化层103包含一种非金属元素。且黑化层103具有非金属元素的浓度差异，且于远离导电层102的位置此非金属元素的浓度会大于靠近导电层102的位置。在本专利技术的一实施例中，黑化层103例如是一种金属氮化物层。此黑化层103具有厚度T。黑化层103在与导电层102距离1/12T的位置，其中非金属元素具有第一浓度；黑化层103在与导电层102距离7/12T的位置，其中非金属元素具有第二浓度，其中，第一浓度小于第二浓度。例如，在本专利技术的一实施例之中，黑化层103中的非金属元素可具有浓度梯度。黑化层103是一种金属氮化物层，且非金属元素是氮(N)。其中，黑化层103的氮的浓度，例如原子百分比(atomicpercent，at％)或重量百分比(weightpercent，wt％)，会朝远离导电层102的方向增本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种触控面板，包括：基材；导电层，设置于该基材上；以及黑化层，设置于该导电层上，该黑化层包含非金属元素；其中，该黑化层具有一厚度T，该黑化层在距离该导电层1/12T的一位置该非金属元素具有第一浓度，该黑化层在距离该导电层7/12T的一位置该非金属元素具有第二浓度，其中，该第一浓度小于该第二浓度。

【技术特征摘要】
1.一种触控面板，包括：基材；导电层，设置于该基材上；以及黑化层，设置于该导电层上，该黑化层包含非金属元素；其中，该黑化层具有一厚度T，该黑化层在距离该导电层1/12T的一位置该非金属元素具有第一浓度，该黑化层在距离该导电层7/12T的一位置该非金属元素具有第二浓度，其中，该第一浓度小于该第二浓度。2.如权利要求1所述的触控面板，其中，该黑化层从接触该导电层的一第一位置至距离该导电层1/6T的一第二位置该非金属元素具有第一平均浓度，该黑化层从该第二位置至距离该导电层1T的一第三位置该非金属元素具有第二平均浓度，其中，该第一平均浓度小于该第二平均浓度。3.如权利要求1所述的触控面板，其中，该黑化层具有该非金属元素的一浓度梯度，且该浓度梯度实质上朝着远离该导电层的方向增加。4.如权利要求1所述的触控面板，其中该非金属元素是氧(O)或氮(N)。5.如权利要求1所述的触控面板，其中该第一浓度大于等于2at％且小于30at％，该第二浓度大于等于30at％且小于等...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴升璜，李为政，萧子彬，李妍慧，廖建智，黄羡文，林俊雄，
申请(专利权)人：群创光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71