The present application provides a preparation method of III_V family core-shell quantum dots and devices and compositions containing them. The preparation method includes: S1, adding the first zinc precursor and the first anionic precursor to the solution containing the nucleus of group III_V quantum dots, heating the reaction to grow the first shell; S2, adding the second zinc precursor and the second anionic precursor to heat the reaction to grow the second shell, and obtaining the group III_V core-shell quantum dots; among them, the first zinc precursor and the first anionic precursor. Two zinc precursors are zinc precursors with different reactivity. The growth of the shell can be effectively controlled by adding zinc precursors with different reactivity alternately; the low-activity zinc precursors effectively protect the surface of the III_V QDs, ensure the uniformity of the QDs, and limit the growth of the half-peak width; the high-activity zinc precursors can be used as both Lewis acid and zinc source to quantum. The quantum efficiency of QDs can be improved by etching the surface of QDs, eliminating the surface suspension bonds and increasing the luminous properties.
【技术实现步骤摘要】
III-V族核壳量子点的制备方法及含其的器件、组合物
本专利技术涉及量子点领域,具体而言,涉及一种III-V族核壳量子点的制备方法及含其的器件、组合物。
技术介绍
量子点又称半导体纳米晶,由于其具有发光波长可调、发光效率高、稳定性好等优点,在显示、照明、生物及太阳能电池等领域有着广泛的应用。近年来,含CdSe、CdS等II-VI族基量子点材料的研究取得了极大的进展,其效率、半峰宽,稳定性等性能得到很大提高,并已应用于显示、生物等领域。但是由于Cd是有毒的重金属,欧盟《关于化学品注册、评估、许可和限制的法规》(简称“REACH”)对进入其市场的货物中的含Cd量都做了严格的规定,限制了其广泛应用。因此无镉量子点的研发也一直备受关注。如何提升无镉量子点的性能一直是研究的重点和难点。而在无镉量子点中,III-V族的InP基量子点成为研究的热点,近年来其半峰宽在不断缩小,效率也有很大的提升,有望替代含Cd量子点。现有技术中InP基量子点存在的主要问题是荧光量子产率低,发光半峰宽大(色纯度低),稳定性差。目前提高InP量子点的荧光量子产率和稳定性的方法主要有:(1)通过酸性试剂对InP量子点刻蚀,例如加入HF,NH4F等弱酸性试剂进行表面处理,效率可以从小于1%提升至20~40%,但是整个刻蚀过程难以控制,而且酸容易对InP量子点过分刻蚀,破坏InP量子点表面结构。(2)通过在InP量子点外面包覆ZnS壳层以构建一种核壳结构的InP量子点。但是由于核层InP量子点晶格参数为0.589nm,而壳层ZnS材料的晶格参数为0.542nm,两者差别较大,造成晶格参数不匹配,导 ...
【技术保护点】
1.一种III‑V族核壳量子点的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:S1,在含III‑V族量子点核的溶液中,加入第一锌前体和第一阴离子前体加热反应生长第一壳层;S2,加入第二锌前体和第二阴离子前体加热反应生长第二壳层,得到III‑V族核壳量子点;其中,所述第一锌前体和所述第二锌前体为不同反应活性的锌前体。
【技术特征摘要】
1.一种III-V族核壳量子点的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:S1,在含III-V族量子点核的溶液中,加入第一锌前体和第一阴离子前体加热反应生长第一壳层;S2,加入第二锌前体和第二阴离子前体加热反应生长第二壳层,得到III-V族核壳量子点;其中,所述第一锌前体和所述第二锌前体为不同反应活性的锌前体。2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,还包括S3,加入第三锌前体和第三阴离子前体,加热反应生长第三壳层,得到III-V族核壳量子点;其中,所述第三锌前体的反应活性不同于所述第二锌前体的反应活性。3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述量子点核的铟离子与所述第一锌前体的锌离子的物质的量之比为1:1~1:50,所述量子点核的铟离子与所述第二锌前体的锌离子的物质的量之比为1:1~1:100。4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述第一锌前体和所述第二锌前体独立地选自C个数为1~18的羧酸锌中的一种或多种。5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述第一锌前体为羧酸锌,所述第二锌前体为无机酸锌;或者所述第一锌前体为无机酸锌,所述第二锌前体为羧酸锌;所述羧酸锌选自C个数为1~18的羧酸锌。6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:S1,在含III-V族量子点核的溶液中,加入所述第一锌前体,然后加热至第一温度,反应一定时间,然后在第二温度,加入所述第一阴离子前体,反应一定时间;S2,降温至第三温度,加入所述第二锌前体,升温至第四温度,反应一定时间,然后在第五温度加入所述第二阴离子前体,反应一定时间;优选地,所述第一温度范围为150~310℃,所述第二温度范围为150~310℃,所述第三温度范围为20~150℃,所述第四温度范围为150~31...
【专利技术属性】
技术研发人员:高静,乔培胜,汪均,余文华,谢阳腊,苏叶华,
申请(专利权)人:纳晶科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江,33
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