一种遮蔽框及化学气相沉积装置制造方法及图纸

技术编号:18619265 阅读:49 留言:0更新日期:2018-08-07 22:20
本发明专利技术公开一种遮蔽框,该遮蔽框可与一承载台结合,以遮蔽位于承载台上基板的周围区域。此遮蔽框包括遮蔽外框和遮蔽内框,在遮蔽外框远离承载台的一面凸设有至少一限位装置,遮蔽内框通过该限位装置套设于遮蔽外框上,使遮蔽内框相对于遮蔽外框水平方向固定但竖直方向活动。本发明专利技术还公开一种化学气相沉积装置,包括上述遮蔽框。通过上述结构,实现遮蔽框与基板的贴合效果好。

A masking frame and chemical vapor deposition device

The invention discloses a shielding frame which can be combined with a bearing platform to shield the surrounding area of the substrate on the bearing platform. The masking frame consists of a covering frame and a masking inner frame. At least one side limit device is provided to shield the outer frame away from the bearing platform. The shield inner frame is covered by the limiting device to cover the outer frame, so that the masking frame is fixed in a vertical direction with respect to the horizontal direction that covers the outer frame. The invention also discloses a chemical vapor deposition device, comprising the shielding box. Through the above structure, the bonding effect between the shielding box and the substrate is achieved.

【技术实现步骤摘要】
一种遮蔽框及化学气相沉积装置
本专利技术涉及液晶显示领域,尤其涉及一种遮蔽框及化学气相沉积装置。
技术介绍
现代的半导体器件需要从玻璃基板沉积和移除导电、半导电以及介电材料的多个层来形成特征,例如有机发光二极管(OLED)、晶体管、以及低介电常数的介电薄膜。玻璃基板处理技术包括化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)、蚀刻等。因为沉积薄膜所需要的相对较低的处理温度、以及能够由使用等离子体处理带来的良好的薄膜质量,等离子体处理广泛地用在平板设备的生产中。在处理期间,玻璃基板的边缘和背面以及腔室内部组件必须受到保护,以免沉积。典型地,沉积掩模设备(depositionmaskingdevice)或遮蔽框(shadowframe)在基板周围放置,以避免处理气体或等离子体到达基板的边缘和背面,并在处理期间将基板保持在支撑构件上。遮蔽框可设置在支撑构件上方的处理腔室中,所以,当支撑构件移动到一个较高的处理位置时,遮蔽框抬起并接触基板边缘部分。因此,遮蔽框覆盖基板上表面周围数毫米,从而避免基板上有边缘和背面的沉积。在考虑使用遮蔽框的优点的情况下,目前的遮蔽框设计有一些缺点。现有技术中所使用的遮蔽框为铝制基底,表面进行阳极氧化,以达到绝缘的目的,因铝材较软,易发生形变,导致遮蔽不足产生膜晕或过度压迫玻璃基板,产生破片影响机台正常运行、生产。另在化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition,CVD)制程时,温度分别为340/360、275/285摄氏度,铝材表面阳极在制程中因热膨胀系数不同,易造成阳极剥离现象,产生的粒子影响产品良率。并且,在生产过程中,因适应的玻璃基板厚度不同(0.4~0.7mm)及机械框架受应力后产生形变,会导致产品异常,遮蔽框具有间隙,以使遮蔽框与基板边缘表面分离,若间隙过大,则气体或等离子体会到达基板的边缘和背面,发生电击击穿,若间隙过小,会压迫玻璃基板,导致基板破损。
技术实现思路
本专利技术的目的主要在于提供一种与基板实现贴合效果好的遮蔽框及化学气相沉积装置。为实现前述专利技术目的,本专利技术提供一种遮蔽框,该遮蔽框可与一承载台结合,以遮蔽位于承载台上基板的周围区域。所述遮蔽框包括遮蔽外框和遮蔽内框,其特征在于,所述遮蔽外框远离所述承载台的一面凸设有至少一个限位装置,所述遮蔽内框通过所述限位装置套设于所述遮蔽外框上,使所述遮蔽内框相对于所述遮蔽外框水平方向固定但竖直方向活动。在其中一实施例中,所述限位装置为定位销,所述遮蔽内框设有相对应的通孔,所述遮蔽内框通过所述通孔装设于所述定位销上。在其中一实施例中,所述定位销为陶瓷材质,且与所述遮蔽外框连接。在其中一实施例中,所述定位销顶部面凹陷呈内六角或十字形。在其中一实施例中,所述定位销上部直径大于所述通孔直径,且装设有第一保护套,用以减轻所述定位销与所述遮蔽内框的撞击力度,所述定位销中间部位直径小于所述通孔直径,且包设有可拆卸的第二保护套。在其中一实施例中,所述定位销下部直径小于所述通孔直径且设有外螺纹,所述遮蔽外框对应设有螺纹孔,所述定位销与所述遮蔽外框通过外螺纹与螺纹孔相连接。在其中一实施例中,所述定位销等间距地间隔设置于所述遮蔽外框上。在其中一实施例中,所述定位销与遮蔽内框配合的部位包设有可拆卸的保护套。在其中一实施例中,所述遮蔽内框与所述遮蔽外框相邻的一侧为遮蔽内框外侧,远离所述遮蔽外框的一侧为遮蔽内框内侧,所述遮蔽内框外侧高于所述遮蔽内框内侧。在其中一实施例中,所述遮蔽外框与所述遮蔽内框的相邻一侧为遮蔽外框内侧,所述遮蔽外框内侧底部设有用于支撑所述遮蔽内框的支撑部,所述支撑部宽度小于所述遮蔽内框宽度,使所述遮蔽内框一部分超出所述支撑部边缘。本专利技术还公开一种化学气相沉积装置,包括上述遮蔽框。本专利技术实施例在于提供一种遮蔽框及化学气相沉积装置,该遮蔽框可与一承载台结合,通过在遮蔽外框远离承载台的一面凸设有至少一限位装置,使遮蔽内框通过该限位装置套设于遮蔽外框上,并相对于遮蔽外框水平方向固定但竖直方向活动,从而使该遮蔽框与玻璃基板实现很好的贴合,进而避免对玻璃基板的过度压迫或间隙偏大导致的产品异常。附图说明图1为本专利技术实施例遮蔽框结构示意图;图2为本专利技术实施例定位销结构示意图;图3为本专利技术实施例遮蔽框局部剖视图;图4为本专利技术实施例遮蔽外框结构示意图;图5为本专利技术实施例遮蔽内框边框侧视图。为了帮助理解,在可能的情况下,使用相同的附图标记来指示附图中共用的相同元件。能够预期在一个实施例中公开的元件可能被有利地使用于其它实施例中,而未特别引述。具体实施方式为更进一步阐述本专利技术为达成预定专利技术目的所采取的技术方式及功效,以下结合附图及实施例,对本专利技术的具体实施方式、结构、特征及其功效,详细说明如后。图1为本专利技术实施例遮蔽框结构示意图,图2为本专利技术实施例定位销结构示意图。请参考图1和图2,本专利技术实施例遮蔽框,可与一承载台结合,用于液晶显示屏加工过程中遮蔽基板,所述遮蔽框包括遮蔽外框100和遮蔽内框200,所述遮蔽外框100远离所述承载台的一面凸设有一限位装置,所述遮蔽内框100通过所述限位装置套设于所述遮蔽外框100上,在本实施例中,所述限位装置包括定位销300,所述遮蔽内框200上设有相对应的通孔211,所述遮蔽内框200通过所述通孔211套设于遮蔽外框100的定位销300上,使所述遮蔽内框200相对于所述遮蔽外框100水平方向固定但竖直方向活动。本实施例以用于处理腔室(如CVD腔室,PECVD腔室)的遮蔽框进行描述,且其遮蔽外框100和遮蔽内框200采用陶瓷材质(在其他实施例中,遮蔽外框100和遮蔽内框200采用铝或阳极氧化铝或陶瓷组合物材质)。优选地,定位销300为陶瓷材质。定位销300等间距地间隔设置在遮蔽外框100上,定位销300顶部面凹陷,形成内六角,使定位销300便于拆卸(在其他实施例中,顶部面内陷呈十字形或其他便于拆卸的形状),且上部位直径大于通孔211直径,用以限定所述遮蔽内框200上下活动的范围。定位销300的上部位与遮蔽内框200接触的一端设置相应的第一保护套310,以缓冲定位销300与遮蔽内框200的撞击力,并防止在实际工作中因碰撞产生的颗粒物质。定位销300与遮蔽内框200配合的中间部位直径小于通孔211直径,且中间部位包设有可拆卸的第二保护套,第二保护套为金属材质。定位销300与遮蔽外框100连接的下部位带外螺纹,遮蔽外框100上对应的设置有相配合的螺纹孔,便于定位销300的拆卸与更换。在其他实施例中,定位销与所述遮蔽外框通过黏接或焊接或其他可拆卸结构固定连接。通孔211间隔设于遮蔽内框200上,与定位销300相对应,相配合地,通孔211的内表面与定位销300进行相应的抛光处理,以降低工作过程中与定位销300的摩擦。图3为本专利技术实施例遮蔽框局部剖视图,图4为本专利技术实施例遮蔽外框结构示意图,图5为本专利技术实施例遮蔽内框边框侧视图。请参考图1、图3-图5,遮蔽外框100呈矩形,四条边框底部均平坦。遮蔽外框100与遮蔽内框200相邻的一侧为遮蔽外框100内侧,远离遮蔽内框200的一侧为遮蔽外框100外侧。本实施例遮蔽外框100以其中一条边框110为例,遮蔽外框100的边框110上本文档来自技高网
...

【技术保护点】
1.一种遮蔽框,可与一承载台结合,以遮蔽位于承载台上基板的周围区域,所述遮蔽框包括遮蔽外框和遮蔽内框,其特征在于,所述遮蔽外框远离所述承载台的一面凸设有至少一个限位装置,所述遮蔽内框通过所述限位装置套设于所述遮蔽外框上,使所述遮蔽内框相对于所述遮蔽外框水平方向固定但竖直方向活动。

【技术特征摘要】
1.一种遮蔽框,可与一承载台结合,以遮蔽位于承载台上基板的周围区域,所述遮蔽框包括遮蔽外框和遮蔽内框,其特征在于,所述遮蔽外框远离所述承载台的一面凸设有至少一个限位装置,所述遮蔽内框通过所述限位装置套设于所述遮蔽外框上,使所述遮蔽内框相对于所述遮蔽外框水平方向固定但竖直方向活动。2.如权利要求1所述的遮蔽框,其特征在于,所述限位装置包括定位销,所述遮蔽内框设有相对应的通孔,所述遮蔽内框通过所述通孔套设于所述定位销上。3.如权利要求2所述的遮蔽框,其特征在于,所述定位销为陶瓷材质,且与所述遮蔽外框连接。4.如权利要求3所述的遮蔽框,其特征在于,所述定位销顶部面凹陷呈内六角或十字形。5.如权利要求3所述的遮蔽框,其特征在于,所述定位销上部直径大于所述通孔直径,且装设有第一保护套,用以缓冲所述定位销与所述遮蔽内框的撞击力,所述定位销中间部位直径小于所述通孔...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐荣桢陶灵芝
申请(专利权)人:昆山龙腾光电有限公司
类型:发明
国别省市:江苏,32

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1