毛发护理组合物制造技术

本发明专利技术涉及一种毛发护理组合物，其提供期望的去头皮屑功效和活性物质在毛发/头皮上的均匀沉积。这是通过特定阳离子沉积聚合物和具有恰当粒度的选择性去头皮屑剂的明智组合来实现。

Hair care composition

The present invention relates to a hair care composition which provides the desired dandruff removal effect and uniform deposition of active substances on the hair/scalp. This is achieved through a combination of specific cationic polymer deposits and a proper particle size selective dandruff removal.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】毛发护理组合物
本专利技术涉及毛发护理组合物，其提供期望的去头皮屑功效和活性材料在毛发/头皮上的最佳沉积，以确保最大的抗微生物功效。这是通过确保活性物沉积的最大化，同时确保沉积均匀性而实现。具体地，本专利技术涉及毛发护理组合物，其包含特定阳离子沉积聚合物和具有恰当粒度的选择性去头皮屑剂的明智组合。
技术介绍
毛发护理组合物通常提供清洁或调理益处或两者的组合。这样的组合物通常包含一种或多种清洁表面活性剂，其通常有助于清洁毛发和头皮，摆脱不期望的污垢、颗粒和脂肪物质。调理益处通过在毛发护理组合物中包含一种或多种调理剂而实现。调理益处采用沉积到毛发上，导致形成膜的油性材料递送，所述膜使毛发在潮湿时容易梳理且在干燥时更易于管理。另外，已经通过毛发护理组合物提供去头皮屑益处。头皮屑是影响全球许多人的问题。这种情况表现为从头皮上脱落死亡皮肤细胞团块。这些的颜色是白色，并且提供美学上令人不快的外观。一个有助于头皮屑的因素是马拉色氏霉菌(Malassezia)酵母的某些成员。为了对抗这些，抗头皮屑产品已经包含具有抗真菌活性的某些锌盐，例如吡啶硫酮锌(ZPTO)。这样的产品必须作为毛发清洁洗发剂起作用，同时缓解造成头皮屑的原因。已知的去头皮屑洗发剂的实例包括与去头皮屑剂组合的月桂基醚硫酸钠(乙氧基化的阴离子表面活性剂)。用于毛发护理的典型去头皮屑剂是金属吡啶硫酮，例如吡啶硫酮锌(ZPTO)、羟甲辛吡酮(吡罗克酮乙醇胺)、唑类抗微生物剂(例如氯咪巴唑)、硫化硒及其组合。其中，吡啶硫酮锌是颗粒状材料。阳离子聚合物通常用于增强调理剂和/或颗粒状材料如吡啶硫酮锌沉积到毛发上。这些聚合物可以是已经用阳离子取代基改性的合成或天然聚合物。与通过这样的洗发剂解决头皮屑问题相关的问题是人们需要优化大量的参数，其中大部分仍然处于研究中，以实现减少或消除头皮屑的最终益处。本专利技术人通过广泛的实验已经推断出，阳离子沉积聚合物在分子量和阳离子取代度方面的类型以及ZPTO的粒度是至关重要的，以最大化ZPTO的沉积，同时确保期望的沉积均匀性以增强抗头皮屑功效。他们不仅观察到上述益处，而且已经在最佳条件下，证实增强的抗微生物功效。此外，这些参数对使用该毛发护理产品后毛发的感觉和外观也有影响总之，本专利技术人已经发现，通过在毛发护理组合物中使用具有特定分子量和阳离子电荷密度的阳离子聚合物与具有特定粒度的锌基去头皮屑颗粒活性物的组合，可以满足上述对比要求。DE102008050430(2009，Henkel)公开了抗头皮屑组合物，其基于其总重量含有：A)0.5至20重量％的至少一种阴离子硫酸盐和/或磺酸盐表面活性剂，B)0.05至5重量％的吡啶硫酮锌，其粒度小于2微米，和C)0.05至5重量％的阳离子聚半乳甘露聚糖或所述阳离子聚半乳甘露聚糖的衍生物，其阳离子电荷密度为0.1至1.5meq/g，分子量为500,000至3,000,000。本专利技术人已经发现，ZPTO粒度的上述规格和阳离子聚半乳甘露聚糖的规格过于宽泛，不是其中的所有范围都将提供获得本专利技术的益处所必需的期望絮凝特性。
技术实现思路
根据本专利技术的第一方面，提供了毛发护理组合物，其包含：(i)0.01至3.0重量％的平均粒度为0.25至8微米的锌基去头皮屑剂；和(ii)0.04至2.0重量％的分子量为100万至150万道尔顿且阳离子取代度为0.16至0.20的阳离子改性瓜耳胶沉积聚合物。根据本专利技术的第二方面，提供了使锌基去头皮屑剂最大化沉积到头皮上，具有均匀沉积特征的方法，所述方法包括以下步骤：将前述权利要求中任一项所述的组合物施用到期望的头皮表面上，接着用水冲洗所述表面。具体实施方式通过阅读以下详细描述和所附权利要求，这些和其它方面、特征和优点对于本领域普通技术人员将变得显而易见。为了避免疑问，本专利技术的一个方面的任何特征都可以用于本专利技术的任何其它方面。词语“包含”旨在表示“包括”，但不一定是“由...组成”或“由...构成”。换句话说，所列出的步骤或选项不需要是穷举性的。应注意，以下描述中给出的实施例旨在阐明本专利技术，而非旨在使本专利技术限于这些实施例本身。类似地，除非另有说明，否则所有百分比均为重量/重量百分比。除非是在工作实施例和比较实施例中，或者是在另外明确指出的情况下，否则本说明书中表示材料量或反应条件、材料物理性质和/或用途的所有数字都应理解为由词语“约”修饰。以“x至y”的形式表示的数值范围应理解为包括x和y。当针对特定特征以“x至y”的形式描述多个优选范围时，应理解还预期组合不同端点的所有范围。换句话说，在规定值的任何范围时，任何特定的上限值可以与任何特定的下限值相关联。见于本文中的本专利技术的公开应被认为覆盖见于彼此多项从属的权利要求中的所有实施方式，与可能发现权利要求没有多项从属或冗余无关。在公开关于本专利技术的特定方面(例如本专利技术的组合物)的特征时，这样的公开也被认为适用于本专利技术的任何其他方面(例如本专利技术的方法)，并作出必要的修正。如本文所用，“毛发护理组合物”意在包括用于局部施用于哺乳动物(特别是人类)的毛发和/或头皮的组合物。这样的组合物通常可以分类为免洗型或洗去型，并且包括施用于人体以同样改善外观、清洁、气味控制或一般美学的任何产品。本专利技术的组合物可以是液体、乳液、乳膏、泡沫、磨砂膏、凝胶或条的形式。这样的组合物的非限制性实例包括免洗型毛发乳液、乳膏，和洗去型洗发剂、调理剂、沐浴凝胶或盥洗皂。本专利技术的组合物优选为洗去型组合物，特别优选是洗发剂或调理剂，最优选洗发剂。取代度如本文所用，“取代度”是指每摩尔糖单元的阳离子基团平均摩尔数。取代度(DS)在氧化氘(D2O)和氯化氘(DCl)混合物的溶剂中使用1HNMR测量。例如，使用1HNMR测量瓜尔胶羟丙基三甲基氯化铵的DS，并且在25℃记录谱。用于使用NMR进行测量的样品如下制备。将聚合物样品在搅拌下分散在D2O和DCl溶液中，然后放入沸水浴中1小时。在冷却至室温后，过滤样品并将澄清滤液倒入NMR管。对应于瓜耳胶单元上的季铵基团的9个甲基质子的峰，其出现在3.1-3.3ppm之间，被积分为A1。对应于糖环上的异头质子和阳离子取代基的CH2和CH基团上的质子的多重态峰，其出现在3.3-4.5ppm之间，也被积分为A2。因此，在阳离子化试剂2,3-环氧丙基三甲基氯化铵的情况下的DS可如下计算：阳离子电荷密度如本文所用，“阳离子电荷密度”是指每重量单位的给定聚合物的阳离子电荷数。阳离子电荷密度可以从WO2013/011122中所述的取代度计算，其公开内容通过引用整体并入本文，但尤其是第8页第8-17行。例如，对于通过与2,3-环氧丙基三甲基氯化铵反应获得的阳离子改性瓜尔胶聚合物，可以使用下列方程从DS计算阳离子电荷密度：水不溶性如本文所用，“水不溶性”是指材料在25°5和大气压下在水中的溶解度为0.1重量％或更低。分子量如本文所用，“分子量”是指给定聚合物的重均分子量。本文的阳离子瓜尔胶的重均分子量(WAVGMW)通过使用ELSD(蒸发光散射检测器)的SEC(尺寸排阻色谱)分析测定。MW是相对于Pullulans标准校准集测定。平均粒度如本文所用，平均粒度是指如使用采用MalvernMastersizer2000装置的光散射技术测量的体积平均粒度。用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种毛发护理组合物，其包含：(i)0.01至3.0重量％的平均粒度为0.25至8微米的锌基去头皮屑剂；和(ii)0.04至2.0重量％的分子量为100万至150万道尔顿且阳离子取代度为0.16至0.20的阳离子改性瓜耳胶沉积聚合物。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.02.24 EP 16157052.8;2015.12.09 CN PCT/CN2015/1.一种毛发护理组合物，其包含：(i)0.01至3.0重量％的平均粒度为0.25至8微米的锌基去头皮屑剂；和(ii)0.04至2.0重量％的分子量为100万至150万道尔顿且阳离子取代度为0.16至0.20的阳离子改性瓜耳胶沉积聚合物。2.根据权利要求1所述的组合物，其中所述锌基去头皮屑剂具有0.5至8微米，优选1至7.5微米，更优选1至5微米的平均粒度。3.根据权利要求1或2所述的组合物，其包含0.01至1.5％的锌基去头皮屑剂。4.根据前述权利要求中任一项所述的组合物，其中所述锌基去头皮屑剂是吡啶硫酮锌。5.根据前述权利要求中任一项所述的组合物，其包含0.04至0.5％的阳离子改性瓜尔胶沉积聚合物。6.根据前述权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：常少坤，刘晶晶，皮瑛瑛，R·苏布兰马尼安，
申请(专利权)人：荷兰联合利华有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL