The invention provides a top luminescent OLED substrate and a preparation method and OLED display panel. The preparation method of the top luminescent OLED substrate comprises the following steps: a substrate substrate is provided first, a buffer layer, a thin film transistor layer, a planarization layer, a pixel definition layer, and an anode layer are prepared on the substrate substrate. A concave surface is formed on the surface of the anode layer; then the nano silver ink is printed on the surface of the anode layer in the form of a preset volume. In the negative pressure environment, the solvent volatilization in the nano silver ink is removed, nanoscale silver is precipitated, and nano silver compensatory block is formed; and then the substrate substrate is carried out. The annealing treatment at a preset temperature causes the nano silver compensation block to combine with the anode layer and coplanar to form a flat anode substrate.
【技术实现步骤摘要】
一种顶发光OLED基板及其制备方法、OLED显示面板
本专利技术涉及显示面板制造领域,尤其涉及一种顶发光OLED基板及其制备方法、OLED显示面板。
技术介绍
有机电致发光器件(OLED)以其自发光、全固态、高对比度等优点,成为近年来最具潜力的新型显示器件。用蒸镀设备制备OLED器件是目前生产的主流方式,但蒸镀工艺材料利用率低,均匀性较差的缺点一直缺少有效的解决方案。溶液法制备OLED薄膜,以其材料利用率高,设备造价低等优点,显示出明显的优势。而溶液法制程包括旋涂、印刷、打印等方式,其中将含有发光材料的溶液以微小液滴(pl级)的方式滴落在预定位置,然后将溶剂蒸发去除,只留下溶质(发光或功能材料)形成的薄膜的方法简称为IJP(Ink-JetPrinting)。为了保证将Ink成功的滴入子像素(s-pixel)开口内,需要基板的子像素开口有足够的宽度,一般使用顶发光的OLED以保证足够的开口率。但是由于ITO下方有线路经过,导致阳极ITO下方没有平坦的基底,进而导致ITO的表面出现高低不平的现象。参照图1所示,可以看出一般情况下ITO表面高差实际可达200nm。由于液体成膜制程是由液体注入至干燥成膜的过程,导致有机材料成分会向凹陷处/较低处堆积,使形成的有机膜在s-pixel内不是均匀分布。因此,目前顶发光OLED基板中存在ITO表面不平整现象,从而影响IJP成膜制程中发光层膜厚的均一性,进而影响OLED器件的性能。
技术实现思路
本专利技术提供的一种,能够改善或消除ITO表面平坦性差的状况,避免IJP制备出的发光层因基底原因导致厚度不均,从而影响OLED器件的性 ...
【技术保护点】
1.一种顶发光OLED基板的制备方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:步骤S1、提供一衬底基板,在所述衬底基板上依次制备缓冲层、薄膜晶体管层、平坦化层、像素定义层以及阳极层,其中,所述阳极层表面形成有凹陷;步骤S2、将纳米银墨水以预设体积的小液滴的形式打印在所述阳极层表面的所述凹陷处;步骤S3、在负压环境下,使所述纳米银墨水中的溶剂挥发去除,析出纳米银,形成纳米银补偿块;步骤S4、对所述衬底基板进行预设温度的退火处理,使所述纳米银补偿块与所述阳极层结合并共平面,形成平坦的阳极基底。
【技术特征摘要】
1.一种顶发光OLED基板的制备方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:步骤S1、提供一衬底基板,在所述衬底基板上依次制备缓冲层、薄膜晶体管层、平坦化层、像素定义层以及阳极层,其中,所述阳极层表面形成有凹陷;步骤S2、将纳米银墨水以预设体积的小液滴的形式打印在所述阳极层表面的所述凹陷处;步骤S3、在负压环境下,使所述纳米银墨水中的溶剂挥发去除,析出纳米银,形成纳米银补偿块;步骤S4、对所述衬底基板进行预设温度的退火处理,使所述纳米银补偿块与所述阳极层结合并共平面,形成平坦的阳极基底。2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在所述步骤S2之前,还包括以下步骤:步骤S201、将预设粒径的纳米银颗粒放入第一溶剂中,使所述纳米银颗粒均匀分布于所述第一溶剂中,得到所述纳米银墨水。3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述第一溶剂为水、芳香烃类溶剂的混合物。4.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,制备的所述纳米银墨水的浓度在6%~60%之间。5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述纳米银墨水形成的所述小液滴的体积...
【专利技术属性】
技术研发人员:郝鹏,
申请(专利权)人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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