一种顶发光OLED基板及其制备方法、OLED显示面板技术

技术编号:18596906 阅读:29 留言:0更新日期:2018-08-04 20:38
本发明专利技术提供一种顶发光OLED基板及其制备方法、OLED显示面板,该顶发光OLED基板的制备方法包括以下步骤:先提供一衬底基板,在所述衬底基板上依次制备缓冲层、薄膜晶体管层、平坦化层、像素定义层以及阳极层,其中,所述阳极层表面形成有凹陷;然后将纳米银墨水以预设体积的小液滴的形式打印在所述阳极层表面的所述凹陷处;再在负压环境下,使所述纳米银墨水中的溶剂挥发去除,析出纳米银,形成纳米银补偿块;之后对所述衬底基板进行预设温度的退火处理,使所述纳米银补偿块与所述阳极层结合并共平面,形成平坦的阳极基底。

A top emitting OLED substrate and its preparation method and OLED display panel

The invention provides a top luminescent OLED substrate and a preparation method and OLED display panel. The preparation method of the top luminescent OLED substrate comprises the following steps: a substrate substrate is provided first, a buffer layer, a thin film transistor layer, a planarization layer, a pixel definition layer, and an anode layer are prepared on the substrate substrate. A concave surface is formed on the surface of the anode layer; then the nano silver ink is printed on the surface of the anode layer in the form of a preset volume. In the negative pressure environment, the solvent volatilization in the nano silver ink is removed, nanoscale silver is precipitated, and nano silver compensatory block is formed; and then the substrate substrate is carried out. The annealing treatment at a preset temperature causes the nano silver compensation block to combine with the anode layer and coplanar to form a flat anode substrate.

【技术实现步骤摘要】
一种顶发光OLED基板及其制备方法、OLED显示面板
本专利技术涉及显示面板制造领域,尤其涉及一种顶发光OLED基板及其制备方法、OLED显示面板。
技术介绍
有机电致发光器件(OLED)以其自发光、全固态、高对比度等优点,成为近年来最具潜力的新型显示器件。用蒸镀设备制备OLED器件是目前生产的主流方式,但蒸镀工艺材料利用率低,均匀性较差的缺点一直缺少有效的解决方案。溶液法制备OLED薄膜,以其材料利用率高,设备造价低等优点,显示出明显的优势。而溶液法制程包括旋涂、印刷、打印等方式,其中将含有发光材料的溶液以微小液滴(pl级)的方式滴落在预定位置,然后将溶剂蒸发去除,只留下溶质(发光或功能材料)形成的薄膜的方法简称为IJP(Ink-JetPrinting)。为了保证将Ink成功的滴入子像素(s-pixel)开口内,需要基板的子像素开口有足够的宽度,一般使用顶发光的OLED以保证足够的开口率。但是由于ITO下方有线路经过,导致阳极ITO下方没有平坦的基底,进而导致ITO的表面出现高低不平的现象。参照图1所示,可以看出一般情况下ITO表面高差实际可达200nm。由于液体成膜制程是由液体注入至干燥成膜的过程,导致有机材料成分会向凹陷处/较低处堆积,使形成的有机膜在s-pixel内不是均匀分布。因此,目前顶发光OLED基板中存在ITO表面不平整现象,从而影响IJP成膜制程中发光层膜厚的均一性,进而影响OLED器件的性能。
技术实现思路
本专利技术提供的一种,能够改善或消除ITO表面平坦性差的状况,避免IJP制备出的发光层因基底原因导致厚度不均,从而影响OLED器件的性能。为解决上述问题,本专利技术提供的技术方案如下:本专利技术提供一种顶发光OLED基板的制备方法,所述方法包括以下步骤:步骤S1、提供一衬底基板,在所述衬底基板上依次制备缓冲层、薄膜晶体管层、平坦化层、像素定义层以及阳极层,其中,所述阳极层表面形成有凹陷;步骤S2、将纳米银墨水以预设体积的小液滴的形式打印在所述阳极层表面的所述凹陷处;步骤S3、在负压环境下,使所述纳米银墨水中的溶剂挥发去除,析出纳米银,形成纳米银补偿块;步骤S4、对所述衬底基板进行预设温度的退火处理,使所述纳米银补偿块与所述阳极层结合并共平面,形成平坦的阳极基底。根据本专利技术一优选实施例,在所述步骤S2之前,还包括以下步骤:步骤S201、将预设粒径的纳米银颗粒放入第一溶剂中,使所述纳米银颗粒均匀分布于所述第一溶剂中,得到所述纳米银墨水。根据本专利技术一优选实施例,所述第一溶剂为水、芳香烃类溶剂的混合物。根据本专利技术一优选实施例,制备的所述纳米银墨水的浓度在6%~60%之间。根据本专利技术一优选实施例,所述纳米银墨水形成的所述小液滴的体积小于10-9毫升。根据本专利技术一优选实施例,所述步骤S4中,所述退火处理的温度小于等于250℃。本专利技术还提供一种顶发光OLED基板,包括:衬底基板,所述衬底基板包括显示区域与非显示区域;缓冲层,制备于所述衬底基板上;薄膜晶体管层,制备于所述缓冲层表面;平坦化层,制备于所述薄膜晶体管层表面;像素定义层,对应所述衬底基板的所述非显示区域,制备于所述平坦化层表面;以及阳极层,对应所述衬底基板的所述显示区域,制备于所述平坦化层表面;其中,所述阳极层表面形成有凹陷,在所述凹陷区域设置有与所述阳极层结合的纳米银补偿块,且所述纳米银补偿块与所述阳极层表面形成共平面。根据本专利技术一优选实施例,所述纳米银补偿块是通过滴到所述凹陷处的纳米银墨水经过溶剂挥发处理后得到的。根据本专利技术一优选实施例,所述纳米银补偿块与所述阳极层是通过对所述衬底基板进行退火处理结合在一起的。本专利技术还提供一种OLED显示面板,包括上述顶发光OLED基板。本专利技术的有益效果为:相较于现有的OLED基板,本专利技术提供的顶发光OLED基板及其制备方法、OLED显示面板,通过制备纳米银墨水,在该顶发光OLED基板制备的过程中,将纳米银墨水以小液滴的形式滴入OLED基板阳极层的凹陷处,经过溶剂挥发处理得到纳米银补偿块,再对基板进行退火处理使所述纳米银补偿块结合到所述阳极层上,从而得到表面平整的OLED导电阳极,避免对后续发光层制备的影响,进而提高OLED器件的性能。附图说明为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有OLED基板子像素的阳极层上表面形貌图;图2为本专利技术提供的顶发光OLED基板的制备方法流程图;图3为本专利技术实施例提供的OLED显示面板结构示意图。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图示,用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语,例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术,而非用以限制本专利技术。在图中,结构相似的单元是用以相同标号表示。本专利技术针对现有的OLED基板在制备过程中,ITO表面因平坦性较差,使IJP制备出的发光层因基底原因导致厚度不均,从而影响OLED器件的性能的技术问题,本实施例能够解决该缺陷。参考图1,为本专利技术提供的顶发光OLED基板的制备方法流程图,所述方法包括以下步骤:步骤S1、提供一衬底基板,在所述衬底基板上依次制备缓冲层、薄膜晶体管层、平坦化层、像素定义层以及阳极层,其中,所述阳极层表面形成有凹陷;步骤S2、将纳米银墨水以预设体积的小液滴的形式打印在所述阳极层表面的所述凹陷处;步骤S3、在负压环境下,使所述纳米银墨水中的溶剂挥发去除,析出纳米银,形成纳米银补偿块;步骤S4、对所述衬底基板进行预设温度的退火处理,使所述纳米银补偿块与所述阳极层结合并共平面,形成平坦的阳极基底。具体地,首先需要制备所述纳米银墨水,所述纳米银墨水的制备方法包括以下步骤:步骤S201、将预设粒径的纳米银颗粒放入第一溶剂中,使所述纳米银颗粒均匀分布于所述第一溶剂中,得到所述纳米银墨水。具体地,先将平均粒径不超过10um的所述纳米银颗粒放入所述第一溶剂中,使所述纳米银颗粒混合均匀,混合方法可以是机械搅拌、电位排斥法混合等;所述第一溶剂为水、芳香烃类溶剂的混合物等;形成所述纳米银墨水,制备的所述纳米银墨水的浓度在6%~60%之间,优选的,浓度在10%~50%之间。在所述衬底基板上依次制备缓冲层、薄膜晶体管层、平坦化层、像素定义层以及阳极层,其中,所述像素定义层制备于所述衬底基板对应的非显示区域,所述衬底基板的显示区域包括像素,一所述像素包括三个子像素,所述像素定义层用于隔离不同所述子像素。所述阳极层对应所述显示区域制备,其中,由于所述阳极层下方有线路经过,导致所述阳极层表面形成有凹陷。使用高精度、小喷嘴的打印机将所述纳米银墨水以小液滴的形式打印在对应所述子像素的所述阳极层表面的所述凹陷处,优选的,所述打印机喷出的每滴墨水体积应小于1皮升(即10-9毫升),用所述小液滴填满所述凹陷;再将所述衬底基板置于负压环境下,经负压使所述纳米银墨水中的所述第一溶剂挥发,析出纳米银,形成所述纳米银补偿块。最后对本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种顶发光OLED基板的制备方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:步骤S1、提供一衬底基板,在所述衬底基板上依次制备缓冲层、薄膜晶体管层、平坦化层、像素定义层以及阳极层,其中,所述阳极层表面形成有凹陷;步骤S2、将纳米银墨水以预设体积的小液滴的形式打印在所述阳极层表面的所述凹陷处;步骤S3、在负压环境下,使所述纳米银墨水中的溶剂挥发去除,析出纳米银,形成纳米银补偿块;步骤S4、对所述衬底基板进行预设温度的退火处理,使所述纳米银补偿块与所述阳极层结合并共平面,形成平坦的阳极基底。

【技术特征摘要】
1.一种顶发光OLED基板的制备方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:步骤S1、提供一衬底基板,在所述衬底基板上依次制备缓冲层、薄膜晶体管层、平坦化层、像素定义层以及阳极层,其中,所述阳极层表面形成有凹陷;步骤S2、将纳米银墨水以预设体积的小液滴的形式打印在所述阳极层表面的所述凹陷处;步骤S3、在负压环境下,使所述纳米银墨水中的溶剂挥发去除,析出纳米银,形成纳米银补偿块;步骤S4、对所述衬底基板进行预设温度的退火处理,使所述纳米银补偿块与所述阳极层结合并共平面,形成平坦的阳极基底。2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在所述步骤S2之前,还包括以下步骤:步骤S201、将预设粒径的纳米银颗粒放入第一溶剂中,使所述纳米银颗粒均匀分布于所述第一溶剂中,得到所述纳米银墨水。3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述第一溶剂为水、芳香烃类溶剂的混合物。4.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,制备的所述纳米银墨水的浓度在6%~60%之间。5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述纳米银墨水形成的所述小液滴的体积...

【专利技术属性】
技术研发人员:郝鹏
申请(专利权)人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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