一种非对称双栅场效应晶体管结构制造技术

本发明专利技术公开了一种非对称双栅场效应晶体管结构，包括栅极控制端、源区、漏区、导电沟道以及位于导电沟道上下两侧的厚度不同的前栅栅介质和背栅栅介质，导电沟道位于源区和漏区之间，导电沟道为渐变掺杂应变硅沟道，靠近源区部分为低掺杂区域，靠近漏区部分为高掺杂区域；栅极控制端由前栅电极M1和背栅电极M2构成，前栅电极M1和背栅电极M2由两种不同功函数的金属构成，源区和漏区均为N型重掺杂，引出电极，分别为源极S和漏极D。本发明专利技术通过渐变掺杂沟道的设计，在提高载流子的迁移率的同时，提高了对短沟道效应和漏致势垒降低效应的抵抗能力，器件采用高k栅介质层，使栅介质层的物理厚度增大，大大减小栅与导电沟道之间的隧穿电流。

An asymmetric double gate field effect transistor structure

The invention discloses an asymmetric double gate field effect transistor structure, which consists of a gate control end, a source area, a leakage zone, a conducting groove, a front gate medium and a back gate dielectric with different thickness in the upper and lower sides of the conducting channel. The conductive channel is located between the source and the leakage regions, and the channel is a gradient doped strain silicon channel. The part near the source area is a low doping region. The close to the leakage region is a highly doped region; the gate control end is composed of the front gate electrode M1 and the back gate electrode M2. The front gate electrode M1 and the back gate electrode M2 are composed of two kinds of different work functions. The source and leakage regions are N type heavy doping, leading to the pole S and the drain D respectively. This invention improves the resistance to the short channel effect and the leakage potential barrier effect while improving the mobility of the carrier by the design of the gradient doped channel. The device uses a high k gate medium to increase the physical thickness of the gate dielectric layer and greatly reduce the tunneling current between the gate and the conducting channel.

【技术实现步骤摘要】
一种非对称双栅场效应晶体管结构
本专利技术涉及电子器件领域，具体涉及一种非对称双栅场效应晶体管结构。
技术介绍
随着器件尺寸的减小，各种微观的物理效应相继出现，迁移率降低、短沟道效应等一些物理效应日益加重。提高器件与集成电路的性能，是纳米尺度器件设计的重要课题。传统器件所采用的材料和器件结构将会达到它们的物理极限。很多研究者认为，当微电子技术的特征尺寸小于35nm之后，就是硅技术时代的结束。应变硅作为一种新型的沟道材料，具有迁移率高、能带结构可调等优点，而且与传统的体硅工艺兼容。传统的单栅器件面临的问题是，栅控能力太差，阈值电压漂移增大，大大限制了器件的发展和应用。相比单栅器件，双栅器件具有更优异的性质，对沟道电场的控制能力大大加强，亚阈值斜率更为理想，载流子迁移率大大提高。随着CMOS器件栅的长度不断减小，面临的一项挑战是提高载流子迁移率的同时，控制好短沟道效应。
技术实现思路
为解决上述问题，本专利技术提供了一种非对称双栅场效应晶体管结构。为实现上述目的，本专利技术采取的技术方案为：一种非对称双栅场效应晶体管结构，包括栅极控制端、源区、漏区、导电沟道以及位于导电沟道上下两侧的厚度不同的前栅栅介质和背栅栅介质，所述导电沟道位于源区和漏区之间，所述导电沟道为渐变掺杂应变硅沟道，分为两部分，靠近源区部分为低掺杂区域，靠近漏区部分为高掺杂区域；该种结构能有效改善器件的性能，提高载流子的迁移率，抑制短沟道效应和漏致势垒降低效应。所述栅极控制端由前栅电极M1和背栅电极M2构成，所述前栅电极M1和背栅电极M2分别由两种不同功函数的金属构成，所述源区和漏区均为N型重掺杂，引出电极，分别为源极S和漏极D。优选地，所述前栅栅介质和背栅栅介质采用相同介电常数的高K材料填充。优选地，所述前栅电极M1和背栅电极M2分别采用功函数φM1＝4.77eV、φM2＝4.97eV的金属材料。优选地，所述导电沟道的掺杂浓度轻掺杂区域N1＝1015cm-3，重掺杂区域N2＝5×1016cm-3，源漏掺杂浓度ND＝1020cm-3。优选地，所述前栅栅介质层和背栅栅介质层均选用介电常数εf＝20的高k材料HfO2，前栅栅介质层厚度为1nm，背栅栅介质层厚度为2nm，硅的介电常数εSl＝11.9eV。优选地，所述低掺杂区域长度为10nm，导电沟道长度L＝40nm。本专利技术具有以下有益效果：本专利技术通过渐变掺杂沟道的设计，在提高载流子的迁移率的同时，提高了对短沟道效应和漏致势垒降低效应的抵抗能力，同时，该器件采用高k栅介质层，使栅介质层的物理厚度增大，大大减小栅与导电沟道之间的隧穿电流。附图说明图1为本专利技术实施例一种非对称双栅场效应晶体管结构的结构示意图。图2为前栅和背栅阈值电压的模型计算结果和DESSIS仿真结果。图3为渐变掺杂沟道(N1＝1015cm-3，N2＝5×1016cm-3)与均匀掺杂沟道(N1＝N2＝1015cm-3)的阈值电压比较。图4为渐变掺杂沟道(N1＝1015cm-3，N2＝5×1016cm-3)与均匀掺杂沟道(N1＝N2＝1015cm-3)的漏致势垒降低效应(DIBL)比较。具体实施方式为了使本专利技术的目的及优点更加清楚明白，以下结合实施例对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。如图1所示，本专利技术实施例提供了一种非对称双栅场效应晶体管结构，包括栅极控制端、源区5、漏区6、导电沟道以及位于导电沟道上下两侧的厚度不同的前栅栅介质1和背栅栅介质2，所述导电沟道位于源区5和漏区6之间，所述导电沟道为渐变掺杂应变硅沟道，分为两部分，靠近源区部分为低掺杂区域7，靠近漏区部分为高掺杂区域8；该种结构能有效改善器件的性能，提高载流子的迁移率，抑制短沟道效应和漏致势垒降低效应。所述栅极控制端由前栅电极M13和背栅电极M24构成，所述前栅电极M13和背栅电极M24分别由两种不同功函数的金属构成，所述源区5和漏区6均为N型重掺杂，引出电极，分别为源极S和漏极D。所述前栅栅介质1和背栅栅介质2采用相同介电常数的高K材料填充。所述前栅电极M13和背栅电极M24分别采用功函数φM1＝4.77eV、φM2＝4.97eV的金属材料。所述导电沟道的掺杂浓度轻掺杂区域N1＝1015cm-3，重掺杂区域N2＝5×1016cm-3，源漏掺杂浓度ND＝1020cm-3。所述前栅栅介质层和背栅栅介质层均选用介电常数εf＝20的高k材料HfO2，前栅栅介质层厚度为1nm，背栅栅介质层厚度为2nm，硅的介电常数εSl＝11.9eV。所述低掺杂区域7长度为10nm，导电沟道长度L＝40nm。假设沟道处于弱反型层状态，基于沟道表面势抛物线近似的假设，把沟道分为两个区域，通过二维泊松方程计算出前栅、背栅的表面势，根据阈值电压的定义，得到前栅、背栅的阈值电压，其中较小者为该器件的阈值电压，并对该结构进行数值仿真，并和均匀沟道比较验证其优势。如图2所示，根据该模型计算得到的前栅、背栅阈值电压和DESSIS仿真软件得出的结果基本一致。前栅阈值电压较小，为该器件的阈值电压。从图3可看出，对于均匀掺杂沟道MOSFET器件，当沟道长度小于25nm后，阈值电压随沟道长度的减小有明显的降落，即当沟道长度小于25nm后短沟道效应比较严重。对于渐变掺杂沟道MOSFET器件，当沟道长度小于20nm后，阈值电压随沟道长度的减小有明显的降落。因此，该器件能较好的抑制短沟道效应。图4表示漏致势垒降低效应(DIBL)(用ΔVth/ΔVds描述)随沟道长度L的变化曲线，其中，该器件能较好的抑制漏致势垒降低效应。以上所述仅是本专利技术的优选实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本专利技术原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本专利技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种非对称双栅场效应晶体管结构，其特征在于，包括栅极控制端、源区(5)、漏区(6)、导电沟道以及位于导电沟道上下两侧的厚度不同的前栅栅介质(1)和背栅栅介质(2)，所述导电沟道位于源区(5)和漏区(6)之间，所述导电沟道为渐变掺杂应变硅沟道，分为两部分，靠近源区部分为低掺杂区域(7)，靠近漏区部分为高掺杂区域(8)；所述栅极控制端由前栅电极M1(3)和背栅电极M2(4)构成，所述前栅电极M1(3)和背栅电极M2(4)分别由两种不同功函数的金属构成，所述源区(5)和漏区(6)均为N型重掺杂，引出电极，分别为源极S和漏极D。

【技术特征摘要】
1.一种非对称双栅场效应晶体管结构，其特征在于，包括栅极控制端、源区(5)、漏区(6)、导电沟道以及位于导电沟道上下两侧的厚度不同的前栅栅介质(1)和背栅栅介质(2)，所述导电沟道位于源区(5)和漏区(6)之间，所述导电沟道为渐变掺杂应变硅沟道，分为两部分，靠近源区部分为低掺杂区域(7)，靠近漏区部分为高掺杂区域(8)；所述栅极控制端由前栅电极M1(3)和背栅电极M2(4)构成，所述前栅电极M1(3)和背栅电极M2(4)分别由两种不同功函数的金属构成，所述源区(5)和漏区(6)均为N型重掺杂，引出电极，分别为源极S和漏极D。2.如权利要求1所述的一种非对称双栅场效应晶体管结构，其特征在于，所述前栅栅介质(1)和背栅栅介质(2)采用相同介电常数的高K材料填充。3.如权利要求1所述的一种非对...

【专利技术属性】
技术研发人员：辛艳辉，袁合才，刘明堂，袁胜，夏振伟，
申请(专利权)人：华北水利水电大学，
类型：发明
国别省市：河南,41