一种匀相超临界浓度控制结构制造技术

一种匀相超临界浓度控制结构，包括反应腔体、控制容器；反应腔体用于进行超临界处理，反应腔体内注入有溶质；控制容器部分或整体置于反应腔体内，控制容器内装有溶质，溶质上覆盖有有机层，所述有机层可对控制容器中的溶质吸附与解吸附。由于控制容器内上表层的有机层可对溶质进行吸附和解吸附，当反应过程中反应腔体内的溶质被消耗后，溶质浓度下降，有机层表面对溶质会解吸附，使反应腔体中浓度上升，控制反应腔体中的浓度稳。当反应腔体中溶质浓度上升时，有机层表面会对溶质产生吸附作用，使反应腔体中浓度下降，从而控制反应腔体中的浓度稳定。

A homogeneous super critical concentration control structure

A homogeneous super critical concentration control structure, including the reaction cavity and the control vessel; the reaction cavity is used for the supercritical treatment, the reaction cavity is injected with the solute in the body; the control container is partially or completely placed in the reaction chamber, the container is contained the solute in the container, the solute is covered with the machine layer, and the organic layer can be used for the control container. Solute adsorption and desorption in the solution. As the organic layer in the upper layer of the control container can adsorb and adsorb the solute, the concentration of solute decreases and the solute adsorb on the surface of the organic layer will be sored up when the solute in the reaction chamber is consumed during the reaction process. The concentration of the reaction cavity is increased and the concentration in the reaction chamber is controlled steadily. When the concentration of the solute rises in the reaction cavity, the surface of the organic layer is adsorbed on the solute, which reduces the concentration of the reaction cavity, thus controlling the stability of the reaction cavity.

【技术实现步骤摘要】
一种匀相超临界浓度控制结构
本申请涉及超临界处理
，具体涉及一种匀相超临界浓度控制结构。
技术介绍
系统中各个部分的性质都相同的体系就叫均相系统，如碳酸钠水溶液、氯化钠水溶液等，其拥有均匀的物理与化学性质。二氧化碳进入超临界态的温度和压强分别是31℃和1072psi，相比于其它物质所需的温度和压强，这个条件比较容易达到。通过二氧化碳进入超临界状态后，溶解其它的物质，控制其形成匀相系统，则能够使该物质也进入超临界状态，从而通过利用不同物质在超临界状态的不同属性，达到不同的功效。在使用超临界技术对产品进行处理时，随着反应的进行溶质被逐渐消耗，溶质浓度会下降，导致反应速度与反应效果受影响，破坏匀相系统。
技术实现思路
本申请提供一种匀相超临界浓度控制结构，使超临界溶解过程中保持匀相状态和保持溶质的浓度稳定。根据第一方面，一种实施例中提供一种匀相超临界浓度控制结构,包括反应腔体、控制容器；反应腔体用于进行超临界处理，反应腔体内注入有溶质；控制容器部分或整体置于反应腔体内，控制容器内装有溶质，溶质上覆盖有有机层，所述有机层可对控制容器中的溶质吸附与解吸附。优选地，所述的有机层的基础材料是氧化铝与二氧化硅的多孔性混合物，在混合物的多孔中含有有机聚合物。优选地，所述溶质为水、氢气、硫化氢、氨气。依据上述实施例的匀相超临界浓度控制结构，由于控制容器内上表层的有机层可对溶质进行吸附和解吸附，当反应过程中反应腔体内的溶质被消耗后，溶质浓度下降，有机层表面对溶质会解吸附，使反应腔体中浓度上升，控制反应腔体中的浓度稳，有机层再从下层的溶质吸附补充。当反应腔体中溶质浓度上升时，有机层表面会对溶质产生吸附作用，使反应腔体中浓度下降，从而控制反应腔体中的浓度稳定。附图说明图1为本专利技术一实施例结构示意。具体实施方式下面通过具体实施方式结合附图对本专利技术作进一步详细说明。其中不同实施方式中类似元件采用了相关联的类似的元件标号。在以下的实施方式中，很多细节描述是为了使得本申请能被更好的理解。然而，本领域技术人员可以毫不费力的认识到，其中部分特征在不同情况下是可以省略的，或者可以由其他元件、材料、方法所替代。在某些情况下，本申请相关的一些操作并没有在说明书中显示或者描述，这是为了避免本申请的核心部分被过多的描述所淹没，而对于本领域技术人员而言，详细描述这些相关操作并不是必要的，他们根据说明书中的描述以及本领域的一般技术知识即可完整了解相关操作。本文中为部件所编序号本身，例如“第一”、“第二”等，仅用于区分所描述的对象，不具有任何顺序或技术含义。而本申请所说“连接”、“联接”，如无特别说明，均包括直接和间接连接(联接)。请参考图1，匀相超临界浓度控制结构反应腔体1、控制容器2；反应腔体1用于进行超临界处理，反应腔体内注入有溶质；控制容器2置于反应腔体1内，控制容器2内装有溶质21，溶质上覆盖有有机层22，有机层22可对控制容器中的溶质21吸附与解吸附。有机层为有机材料，通过有机层的吸附与解吸附，使超临界系统中溶质的浓度保持动态稳定。有机层对反应腔体中的溶质能吸附与解吸附，当反应腔体中溶质浓度下降时，有机层表面对溶质会解吸附，释放有机层中的溶质，使反应腔体中浓度上升，同时有机层会吸附控制容器中的溶质进行补充；当反应腔体中溶质浓度上升时，有机层表面会对反应腔体中溶质产生吸附作用，使反应腔体中浓度下降，从而控制反应腔体中的溶质浓度稳定。在本专利技术的其它实施例中，控制容器也可以部分置于反应腔体内，控制容器的开口端设于反应腔体内，可使不影响本专利技术的实现。因为二氧化碳进入超临界态的温度和压强分别是31℃和1072psi，相比于其它物质所需的温度和压强，这个条件比较容易达到。因此，通常通过二氧化碳进入超临界状态后，溶解其它的物质，控制其形成匀相系统，则能够使该物质也进入超临界状态，从而通过利用不同物质在超临界状态的不同属性，达到不同的功效。在利用二氧化碳对某些元件，如电阻进行超临界处理时，会采用水作为溶质与二氧化碳进行反应。在其它超临界处理过程中，溶质还可以为氢气、硫化氢、氨气等可溶解于超临界二氧化碳的物质。所述的有机层的基础材料是氧化铝与二氧化硅的多孔性混合物，在混合物的多孔中含有有机聚合物。氧化铝与二氧化硅的多孔性混合物在常温常压下是稳定固态物质，在超临界态是会释放有机聚合物的介质。以上应用了具体个例对本专利技术进行阐述，只是用于帮助理解本专利技术，并不用以限制本专利技术。对于本专利技术所属
的技术人员，依据本专利技术的思想，还可以做出若干简单推演、变形或替换。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种匀相超临界浓度控制结构,其特征在于包括：反应腔体、控制容器；反应腔体用于进行超临界处理，反应腔体内注入有溶质；控制容器部分或整体置于反应腔体内，控制容器内装有溶质，溶质上覆盖有有机层，所述有机层可对控制容器中的溶质吸附与解吸附。

【技术特征摘要】
1.一种匀相超临界浓度控制结构,其特征在于包括：反应腔体、控制容器；反应腔体用于进行超临界处理，反应腔体内注入有溶质；控制容器部分或整体置于反应腔体内，控制容器内装有溶质，溶质上覆盖有有机层，所述有机层可对控制容器中的溶质吸附与解吸附。...

【专利技术属性】
技术研发人员：张冠张，胡永高，刘琦，王子文，郑颖锴，
申请(专利权)人：北京大学深圳研究生院，
类型：发明
国别省市：广东,44