一种方便清洗维护的反应釜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种方便清洗维护的反应釜，通过设置的伺服电机，实现转轴的转动功能，在需要清洗时，将反应釜主体的开口旋转至水平位置，利于工作人员对其进行清洗，清洗后，再将反应釜主体的开口旋转至朝下的位置，将清洗水倒掉并晾干，晾干后调节反应釜主体至正常工作位置即可进行后续的反应；盖板两端连接有伸缩杆，伸缩杆下端设有电动伸缩缸，实现伸缩杆的伸缩功能，进而实现盖板的升降功能，需要添加物料时，调节盖板至反应釜主体上端即可将物料从反应釜主体上端添加至其内部，需要进行化工反应时，将盖板调节至和反应釜主体上端接触，并调节电动滑块在电动滑轨上的位置，使得橡胶板和反应釜主体内壁接触，保证反应的密闭性。

A reaction kettle for convenient cleaning and maintenance

The utility model discloses a reaction autoclave which is convenient for cleaning and maintenance. By setting the servo motor, the rotating function of the rotating shaft is realized. When it is needed, the opening of the main body of the reactor is rotated to the horizontal position, which helps the staff to clean it. After cleaning, the opening of the main body of the counter is rotated to the downward position. After setting, the washing water is poured out and dried. After air drying, adjusting the reaction kettle body to the normal working position can carry on the follow-up reaction; the cover plate is connected with the telescopic rod at the two ends, the telescopic rod is equipped with the electric telescopic cylinder to realize the expansion function of the telescopic rod, and then the lifting function of the cover plate is realized, and when the material is needed to be added, the cover plate is adjusted to the material when the material is needed to be added. The material from the main body of the reactor can be added from the upper end of the reactor body to the interior of the reactor body. When the chemical reaction is needed, the cover plate is adjusted to the upper end of the reactor body and the position of the electric slider on the electric slide is adjusted so that the rubber plate and the main body wall of the reactor are touched to ensure the sealing of the reaction.

【技术实现步骤摘要】
一种方便清洗维护的反应釜
本技术涉及一种反应釜，尤其是涉及一种方便清洗维护的反应釜。
技术介绍
在化工行业中，反应釜是必不可缺少的设备之一。反应釜在食品、医药、化工等领域的应用十分广泛，然而，现有反应釜在物料反应完毕后不便于清洗，给后续的反应工作带来不便。针对此问题，设计一种方便清洗维护的反应釜，该反应釜将整个装置两端均连接转轴，转轴由伺服电机控制，在需要清洗时，将反应釜主体的开口旋转至水平位置，利于工作人员对其进行清洗，清洗后，再将反应釜主体的开口旋转至朝下的位置，将清洗水倒掉并晾干，晾干后调节反应釜主体至正常工作位置即可进行后续的反应，且此装置将搅拌轴设置于盖板下端，盖板两端连接有升降装置，利于将物料添加进反应釜主体，且不影响反应釜的清洗和反应工作，该装置一侧还连接有一个管道，管道内安装有压力表，压力表两端均设有电磁阀，在进行清洗工作时，将两个电磁阀关闭，防止清洗水浸没压力表对其造成损坏，在反应工作进行时，打开其中一个电磁阀，在压力表感应到反应釜主体内部的压力过大时，自动打开另一个电磁阀，保持反应釜主体内外的压力平衡。该反应釜结构简单，成本低昂，便于清洗和维护，给化工反应作业带来极大便利。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是在化工设备应用的基础上，为化工反应釜提供一种辅助功能，设计一种方便清洗维护的反应釜，从而解决上述问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：本技术一种方便清洗维护的反应釜，包括反应釜主体，所述反应釜主体下端两侧均固定设有支脚，所述反应釜主体底端连通设有出料口，每个所述支脚外侧均设有安装座，每个所述安装座上端均安装有伺服电机和电动伸缩缸，所述电动伸缩缸位于伺服电机一侧，每个所述伺服电机内侧均连接有转轴，所述转轴远离伺服电机一端固定于反应釜主体外侧，每个所述电动伸缩缸上端均连接有伸缩杆，所述伸缩杆上端内侧设有连接轴，两个所述连接轴之间固定连接有盖板，所述盖板上端安装有旋转电机，所述旋转电机下端固定连接有搅拌轴，所述搅拌轴外周设有搅拌叶，所述盖板下端安装有若干电动轨道，每个所述电动轨道内部均安装有电动滑块，所述电动滑块下端固定连接有密封板，所述密封板一侧设有橡胶板，所述橡胶板和反应釜主体内壁接触，所述反应釜主体一侧还连通设有通气管，所述通气管内部安装有压力表，所述反应釜主体外设有智能控制器，所述智能控制器以MCU单片机为控制单元。作为本技术的一种优选技术方案，所述反应釜主体为中空结构，所述出料口上安装有出料口。作为本技术的一种优选技术方案，所述转轴和伺服电机为轴连接，所述伸缩杆和电动伸缩缸也为轴连接。作为本技术的一种优选技术方案，所述搅拌轴和旋转电机为轴连接，所述搅拌叶为网格形状。作为本技术的一种优选技术方案，所述电动滑块和电动轨道为滑动连接。作为本技术的一种优选技术方案，所述压力表两侧分别安装有第一电磁阀和第二电磁阀。作为本技术的一种优选技术方案，所述智能控制器电性连接旋转电机、伺服电机、电动伸缩缸、电动滑块、压力表、第一电磁阀和第二电磁阀。与现有技术相比，本技术的有益效果是：该种方便清洗维护的反应釜，结构设计完整紧凑，通过设置的伺服电机，实现转轴的转动功能，在需要清洗时，将反应釜主体的开口旋转至水平位置，利于工作人员对其进行清洗，清洗后，再将反应釜主体的开口旋转至朝下的位置，将清洗水倒掉并晾干，晾干后调节反应釜主体至正常工作位置即可进行后续的反应；且此装置将搅拌轴设置于盖板下端，搅拌轴外周设有网格型搅拌叶，使得物料反应更加完全，盖板两端连接有伸缩杆，伸缩杆下端设有电动伸缩缸，实现伸缩杆的伸缩功能，进而实现盖板的升降功能，需要添加物料时，调节盖板至反应釜主体上端即可将物料从反应釜主体上端添加至其内部，需要进行化工反应时，将盖板调节至和反应釜主体上端接触，并调节电动滑块在电动滑轨上的位置，使得橡胶板和反应釜主体内壁接触，保证反应的密闭性，需要对反应釜主体进行清洗时，将搅拌轴调节至反应釜主体上端即可进行后续清洗工作；该装置一侧还连接有一个通气管，通气管内安装有压力表，压力表两端均设有电磁阀，在进行清洗工作时，将两个电磁阀关闭，防止清洗水浸没压力表对其造成损坏，在反应工作进行时，打开其中一个电磁阀，在压力表感应到反应釜主体内部的压力过大时，自动打开另一个电磁阀，保持反应釜主体内外的压力平衡，该反应釜成本低昂，便于清洗和维护，给化工反应作业带来极大便利，本技术结构简单高效且设计合理，更加人性化，适合推广使用。附图说明附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。在附图中：图1为本技术的主体结构示意图；图2为本技术的升降装置结构示意图；图3为本技术的搅拌装置结构示意图；图4为本技术的A的放大结构示意图；图中：1、反应釜主体；2、支脚；3、出料口；4、控制阀门；5、搅拌轴；6、旋转电机；7、搅拌叶；8、安装座；9、伺服电机；10、转轴；11、电动伸缩缸；12、伸缩杆；13、连接轴；14、盖板；15、电动轨道；16、电动滑块；17、密封板；18、橡胶板；19、通气管；20、压力表。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1-4，本技术提供一种技术方案：一种方便清洗维护的反应釜，包括反应釜主体1，反应釜主体1下端两侧均固定设有支脚2，反应釜主体1底端连通设有出料口3，每个支脚2外侧均设有安装座8，每个安装座8上端均安装有伺服电机9和电动伸缩缸11，电动伸缩缸11位于伺服电机9一侧，每个伺服电机9内侧均连接有转轴10，转轴10远离伺服电机9一端固定于反应釜主体1外侧，每个电动伸缩缸11上端均连接有伸缩杆12，伸缩杆12上端内侧设有连接轴13，两个连接轴13之间固定连接有盖板14，盖板14上端安装有旋转电机6，旋转电机6下端固定连接有搅拌轴5，搅拌轴5外周设有搅拌叶7，盖板14下端安装有若干电动轨道15，每个电动轨道15内部均安装有电动滑块16，电动滑块16下端固定连接有密封板17，密封板17一侧设有橡胶板18，橡胶板18和反应釜主体1内壁接触，反应釜主体1一侧还连通设有通气管19，通气管19内部安装有压力表20，反应釜主体1外设有智能控制器，智能控制器以MCU单片机为控制单元。反应釜主体1为中空结构，出料口3上安装有出料口3，转轴10和伺服电机9为轴连接，伸缩杆12和电动伸缩缸11也为轴连接，搅拌轴5和旋转电机6为轴连接，搅拌叶7为网格形状，电动滑块16和电动轨道15为滑动连接，压力表20两侧分别安装有第一电磁阀和第二电磁阀，智能控制器电性连接旋转电机6、伺服电机9、电动伸缩缸11、电动滑块16、压力表20、第一电磁阀和第二电磁阀。具体原理：该种方便清洗维护的反应釜，首先利用智能控制器开启电动伸缩缸11，调节伸缩杆12的长度进而实现盖板14的调节，调节盖板14至反应釜主体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种方便清洗维护的反应釜，包括反应釜主体（1），其特征在于，所述反应釜主体（1）下端两侧均固定设有支脚（2），所述反应釜主体（1）底端连通设有出料口（3），每个所述支脚（2）外侧均设有安装座（8），每个所述安装座（8）上端均安装有伺服电机（9）和电动伸缩缸（11），所述电动伸缩缸（11）位于伺服电机（9）一侧，每个所述伺服电机（9）内侧均连接有转轴（10），所述转轴（10）远离伺服电机（9）一端固定于反应釜主体（1）外侧，每个所述电动伸缩缸（11）上端均连接有伸缩杆（12），所述伸缩杆（12）上端内侧设有连接轴（13），两个所述连接轴（13）之间固定连接有盖板（14），所述盖板（14）上端安装有旋转电机（6），所述旋转电机（6）下端固定连接有搅拌轴（5），所述搅拌轴（5）外周设有搅拌叶（7），所述盖板（14）下端安装有若干电动轨道（15），每个所述电动轨道（15）内部均安装有电动滑块（16），所述电动滑块（16）下端固定连接有密封板（17），所述密封板（17）一侧设有橡胶板（18），所述橡胶板（18）和反应釜主体（1）内壁接触，所述反应釜主体（1）一侧还连通设有通气管（19），所述通气管（19）内部安装有压力表（20），所述反应釜主体（1）外设有智能控制器，所述智能控制器以MCU单片机为控制单元。...

【技术特征摘要】
1.一种方便清洗维护的反应釜，包括反应釜主体（1），其特征在于，所述反应釜主体（1）下端两侧均固定设有支脚（2），所述反应釜主体（1）底端连通设有出料口（3），每个所述支脚（2）外侧均设有安装座（8），每个所述安装座（8）上端均安装有伺服电机（9）和电动伸缩缸（11），所述电动伸缩缸（11）位于伺服电机（9）一侧，每个所述伺服电机（9）内侧均连接有转轴（10），所述转轴（10）远离伺服电机（9）一端固定于反应釜主体（1）外侧，每个所述电动伸缩缸（11）上端均连接有伸缩杆（12），所述伸缩杆（12）上端内侧设有连接轴（13），两个所述连接轴（13）之间固定连接有盖板（14），所述盖板（14）上端安装有旋转电机（6），所述旋转电机（6）下端固定连接有搅拌轴（5），所述搅拌轴（5）外周设有搅拌叶（7），所述盖板（14）下端安装有若干电动轨道（15），每个所述电动轨道（15）内部均安装有电动滑块（16），所述电动滑块（16）下端固定连接有密封板（17），所述密封板（17）一侧设有橡胶板（18），所述橡胶板（18）和反应釜主体（1）内壁接触，所述反应釜主体（1）一侧还连通设有...

【专利技术属性】
技术研发人员：王朝伟，王洪涛，于明，
申请(专利权)人：郑州紫盈节能环保科技有限公司，
类型：新型
国别省市：河南,41