一种显示基板的制造方法及显示基板、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种显示基板的制造方法及显示基板、显示装置，该制造方法包括：在衬底基板上形成第一电极，在所述第一电极的远离所述衬底基板的一侧形成像素界定层，所述像素界定层限定出多个像素区域，在所述像素区域中形成发光功能材料，在形成发光功能材料之后的设定时间点，通过掩板对所述发光功能材料进行压平处理形成发光功能层，在所述发光功能层的上方形成第二电极。本发明专利技术能够保证OLED显示基板中电致发光层的均一性，提升了OLED显示基板的显示效果。

A method for manufacturing a display substrate, a display substrate and a display device

The invention discloses a manufacturing method for displaying a substrate and a display substrate and a display device. The manufacturing method comprises forming a first electrode on a substrate substrate, forming a pixel definition layer on one side of the substrate base far away from the first electrode, and defining a plurality of pixel regions in the pixel definition layer, in the pixel area. The luminescent functional material is formed in the domain, and the setting time point after the luminescent functional material is formed, and the luminescent functional layer is formed by pressing the mask to the luminescent functional material, and the second electrodes are formed above the luminous function layer. The invention can ensure the uniformity of the electroluminescent layer in the OLED display substrate and enhance the display effect of the OLED display substrate.

【技术实现步骤摘要】
一种显示基板的制造方法及显示基板、显示装置
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种显示基板的制造方法及显示基板、显示装置。
技术介绍
在使用喷墨打印工艺形成OLED(OrganicLight-EmittingDiode,有机发光二极管)电致发光层时，首先将电致发光材料滴入像素区域中，随着电致发光材料的挥发，电致发光层逐渐形成。但由于像素区域中电致发光材料表面的张力不同，导致像素区域中边界部分的电致发光材料挥发速度较快，而像素区域中间部分电致发光材料的挥发速度较慢，会形成周边高、中间低的电致发光层结构，即“咖啡环效应”，电致发光层的不均一性严重影响了OLED产品的显示效果。
技术实现思路
本专利技术提供一种显示基板的制造方法及显示基板、显示装置，能够抑制OLED显示基板中电致发光层的不均一性，提升OLED产品的显示效果。为实现上述目的，本专利技术提供了一种显示基板的制造方法，包括：在衬底基板上形成第一电极；在所述第一电极的远离所述衬底基板的一侧形成像素界定层，所述像素界定层限定出多个像素区域；在所述像素区域中形成发光功能材料；在形成发光功能材料之后的设定时间点，通过掩板对所述发光功能材料进行压平处理形成发光功能层；在所述发光功能层的上方形成第二电极。可选地，所述掩板包括主体结构和设置于所述主体结构上的多个凸起结构，每个所述凸起结构与一个所述像素区域对应设置；所述通过掩板对所述发光功能材料进行压平处理形成发光功能层包括：通过所述凸起结构对对应设置的像素区域中的发光功能材料进行压平处理形成发光功能层。可选地，所述凸起结构包括侧面和设置于所述侧面的一端上的底面结构，所述侧面的另一端设置于所述主体结构上；所述通过所述凸起结构对对应设置的像素区域中的发光功能材料进行压平处理形成发光功能层包括：通过所述底面结构对对应设置的像素区域中的发光功能材料进行压平处理形成发光功能层。可选地，所述底面结构的材料为聚四氟乙烯。可选地，所述设定时间点根据所述发光功能材料的动力粘度设置。可选地，所述动力粘度为450mPa·s至1100mPa·s。可选地，所述发光功能层包括电致发光层。为实现上述目的，本专利技术还提供了一种显示基板，包括：衬底基板和位于所述衬底基板上的第一电极和第二电极，所述第二电极位于所述第一电极的远离所述衬底基板的一侧，第一电极和所述第二电极之间设置有像素界定层，所述像素界定层限定出多个像素区域，所述像素区域中设置有发光功能层，所述发光功能层经掩板对设置于所述像素区域中的发光功能材料进行压平处理而形成。可选地，所述发光功能层包括电致发光层。为实现上述目的，本专利技术还提供了一种显示装置，其特征在于，包括上述的显示基板。本专利技术具有以下有益效果：本专利技术提供的显示基板的制造方法，在衬底基板上形成第一电极，在所述第一电极的远离所述衬底基板的一侧形成像素界定层，所述像素界定层限定出多个像素区域，在所述像素区域中形成发光功能材料，在形成发光功能材料之后的设定时间点，通过掩板对所述发光功能材料进行压平处理形成发光功能层，在所述发光功能层的上方形成第二电极，从而保证了OLED显示基板中电致发光层的均一性，提升了OLED显示基板的显示效果。附图说明图1是本专利技术实施例一提供的一种显示基板的制造方法的流程示意图；图2是本专利技术实施例二提供的一种显示基板的制造方法的流程示意图；图3a是本专利技术实施例二中形成遮光结构的结构示意图；图3b是本专利技术实施例二中形成第一电极的结构示意图；图3c是本专利技术实施例二中形成像素区域的结构示意图；图3d是本专利技术实施例二中形成电致发光材料的结构示意图；图3e是本专利技术实施例二中形成电致发光层的过程结构示意图；图3f是本专利技术实施例二中形成第二电极的结构示意图。具体实施方式为使本领域的技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图对本专利技术中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。图1为本专利技术实施例一提供的一种显示基板的制造方法的流程示意图，如图1所示，该方法包括：步骤101、在衬底基板上形成第一电极。步骤102、在所述第一电极的远离所述衬底基板的一侧形成像素界定层，所述像素界定层限定出像素区域。步骤103、在所述像素区域中形成发光功能材料。步骤104、在形成发光功能材料之后的设定时间点，通过掩板对所述发光功能材料进行压平处理形成发光功能层。步骤105、在所述发光功能层的上方形成第二电极。本实施例提供的显示基板的制造方法，在衬底基板上形成第一电极，在所述第一电极的远离所述衬底基板的一侧形成像素界定层，所述像素界定层限定出多个像素区域，在所述像素区域中形成发光功能材料，在形成发光功能材料之后的设定时间点，通过掩板对所述发光功能材料进行压平处理形成发光功能层，在所述发光功能层的上方形成第二电极，从而保证了OLED显示基板中电致发光层的均一性，提升了OLED显示基板的显示效果。图2为本专利技术实施例二提供的一种显示基板的制造方法的流程图，如图2所示，该方法包括：步骤201、在衬底基板上形成遮光结构。图3a是本专利技术实施例二中形成遮光结构的结构示意图，如图3a所示，在衬底基板1上形成遮光材料层，对遮光材料层进行构图工艺形成遮光结构2。其中，遮光材料层的材料可以为黑色光阻，则遮光结构2可以为黑矩阵。步骤202、在衬底基板上形成第一电极，第一电极位于遮光结构之间。图3b是本专利技术实施例二中形成第一电极的结构示意图，如图3b所示，在衬底基板1上形成第一电极材料层，对第一电极材料层进行构图工艺形成第一电极3，第一电极3位于遮光结构2之间。进一步地，如图3b所示，在形成第一电极3之后还包括：在第一电极3上方形成空穴注入层31，在空穴注入层31之上形成空穴传输层32。空穴注入层31和空穴传输层32均位于遮光结构2之间。步骤203、在第一电极的远离衬底基板的一侧形成像素界定层，像素界定层位于遮光结构之上，像素界定层限定出多个像素区域。图3c是本专利技术实施例二中形成像素区域的结构示意图，如图3c所示，在遮光结构2之上形成像素界定层，像素界定层限定出多个像素区域。具体地，像素界定层包括第一隔离体51和第二隔离体52，第一隔离体51位于遮光结构2之上，第二隔离体52位于第一隔离体51之上。优选地，第一隔离体51的材料为聚酰亚胺材料，第二隔离体52的材料为硅材料。像素区域可以包括红色像素区域41、绿色像素区域42或者蓝色像素区域43，本实施例中，红色像素区域41、绿色像素区域42和蓝色像素区域43依次排列。具体地，步骤203包括：步骤2031、在遮光结构之上形成第一隔离体。步骤2032、在第一隔离体之上形成第二隔离体。本实施例中，第一隔离体51和第二隔离体52为单独设置的两个结构。在实际应用中，或者，第一隔离体51和第二隔离体52还可以一体设置，此种情况未具体画出。步骤204、在像素区域中形成电致发光材料。图3d是本专利技术实施例二中形成电致发光材料的结构示意图，如图3d所示，在像素区域中滴入电致发光材料100，优选地，电致发光材料100为有机发光功能溶液。电致发光材料100在滴入像素区域后会进行挥发，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板的制造方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成第一电极；在所述第一电极的远离所述衬底基板的一侧形成像素界定层，所述像素界定层限定出多个像素区域；在所述像素区域中形成发光功能材料；在形成发光功能材料之后的设定时间点，通过掩板对所述发光功能材料进行压平处理形成发光功能层；在所述发光功能层的上方形成第二电极。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制造方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成第一电极；在所述第一电极的远离所述衬底基板的一侧形成像素界定层，所述像素界定层限定出多个像素区域；在所述像素区域中形成发光功能材料；在形成发光功能材料之后的设定时间点，通过掩板对所述发光功能材料进行压平处理形成发光功能层；在所述发光功能层的上方形成第二电极。2.根据权利要求1所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述掩板包括主体结构和设置于所述主体结构上的多个凸起结构，每个所述凸起结构与一个所述像素区域对应设置；所述通过掩板对所述发光功能材料进行压平处理形成发光功能层包括：通过所述凸起结构对对应设置的像素区域中的发光功能材料进行压平处理形成发光功能层。3.根据权利要求2所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述凸起结构包括侧面和设置于所述侧面的一端上的底面结构，所述侧面的另一端设置于所述主体结构上；所述通过所述凸起结构对对应设置的像素区域中的发光功能材料进行压平处理形成发光功能层包括：通过所述底面结构对对应设置的像素区域中...

【专利技术属性】
技术研发人员：张迪，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11