The invention relates to the technical field of protective films, in particular to a UV visbreaking composition, UV reducing mucosa and a preparation method thereof. The UV adhesive composition is mainly made of the following raw materials according to the weight percentage: high temperature resistant acrylate pressure sensitive adhesive resin 20%, polyfunctional oligomer and / or polyfunctional monomer 1%, 30%, crosslinking agent 0.3% 2%, antistatic agent 0.1% 5%, dispersant 0 2%, leveling agent 0.2% 2% 2%, photoinitiation. Agent 0.5%, 5% and solvent 25%, 60%. The UV reducing mucosa comprises a substrate layer and a UV visbreaking layer and a release film layer coated thereon. The UV adhesive composition has excellent adhesion, high adhesion force, high stripping force before UV irradiation, low adhesion force after UV irradiation, low stripping force and good antistatic effect, and can resist high temperature 30min without residual glue at 120 C.
【技术实现步骤摘要】
一种UV减粘组合物、UV减粘膜及其制备方法
本专利技术涉及保护膜
,尤其是涉及一种UV减粘组合物、UV减黏膜及其制备方法。
技术介绍
在半导体制作过程中,进行半导体晶圆切割、打磨时,为降低硅薄层缺陷密度,常常使用晶圆切割减粘保护膜。减粘保护膜是指在使用时粘合力强,而在后期剥离过程中,粘合力减弱以便剥离。目前市场上的减粘保护膜多为UV减粘保护膜,是指在UV照射前具有高度粘合力,贴附性好,在UV照射后粘合力明显下降,易于剥离。国内市场上用于晶圆切割和捡取工艺等保护的UV减粘胶多以日本、中国台湾为主,国内UV减粘胶也有几家在研发推广,但性能尚未完全稳定。并且,UV减粘保护膜的基材在使用过程中由于摩擦作用很容易产生静电,在用于静电要求较高的电子零件领域的使用受到限制,比如容易吸附灰尘,然后转移到贴合的产品表面,或者静电电压过高,导致零件产生不良等。此外,目前的减粘保护膜在高温使用后,容易造成残胶不易除去。有鉴于此,特提出本专利技术。
技术实现思路
本专利技术的第一目的在于提供一种UV减粘组合物,在UV照射前具有优异的剥离力,在UV照射后剥离力大幅下降易于剥离,并且具有优异的防静电作用,并且能够耐120℃高温30分钟不残胶。本专利技术的第二目的在于提供一种UV减粘膜,所述UV减粘膜在UV照射前具有优异的剥离力,在UV照射后剥离力大幅下降易于剥离,并且具有优异的防静电作用,能够耐120℃高温30分钟不残胶。本专利技术的另一目的在于提供一种所述UV减粘膜的制备方法,所述制备方法操作工艺简单,可重复性好。为了实现本专利技术的上述目的,特采用以下技术方案:一种UV减粘组合 ...
【技术保护点】
1.一种UV减粘组合物,其特征在于,主要由按重量百分比计的如下原料制成:耐高温丙烯酸酯压敏胶树脂20%‑50%、多官能度低聚物和/或多官能度单体1%‑30%、交联剂0.3%‑2%、抗静电剂0.1%‑5%、分散剂0‑2%、流平剂0.2%‑2%、光引发剂0.5%‑5%和溶剂25%‑60%。
【技术特征摘要】
1.一种UV减粘组合物,其特征在于,主要由按重量百分比计的如下原料制成:耐高温丙烯酸酯压敏胶树脂20%-50%、多官能度低聚物和/或多官能度单体1%-30%、交联剂0.3%-2%、抗静电剂0.1%-5%、分散剂0-2%、流平剂0.2%-2%、光引发剂0.5%-5%和溶剂25%-60%。2.根据权利要求1所述的UV减粘组合物,其特征在于,所述耐高温丙烯酸酯压敏胶树脂为溶剂型丙烯酸酯压敏胶粘剂;优选的,所述耐高温丙烯酸酯压敏胶树脂的分子量为10万-200万;优选的,所述溶剂型丙烯酸酯压敏胶粘剂的固含量为20%-60%,粘度为200cps-20000cps。3.根据权利要求1或2所述的UV减粘组合物,其特征在于,所述抗静电剂包括有机抗静电剂、无机填料型抗静电剂和复合型抗静电剂中的一种或多种;优选的,所述无机填料型抗静电剂包括纳米石墨粉、纳米石墨烯、碳纳米管和纳米银线中的一种或多种;更优选的,所述纳米石墨粉的粒径为50-100nm;更优选的,所述纳米石墨烯粒径为5-20nm;更优选的,所述纳米银线线径为20-80nm;更优选的,所述碳纳米管的直径为5-30nm,长度为1-30μm。4.根据权利要求1或2所述的UV减粘组合物,其特征在于,所述多官能度低聚物包括脂肪族聚氨酯丙烯酸酯低聚物和环氧丙烯酸酯低聚物中的一种或两种;优选的,所述多官能度单体包括季戊四醇四丙烯酸酯、双季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯、丙烯酰胺、二甲基丙烯酸-1,6-己二醇酯、二丙烯酸-1,6-己二醇酯、二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸三甘醇酯、二丙烯酸三丙二醇酯、二丙烯酸对新戊二醇酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基戊烷三甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷季戊四醇三丙烯酸酯、丙氧化新戊二醇二丙烯酸酯、乙氧化1,6-己二醇二丙烯酸酯和三(2-丙烯酰氧乙基)异氰脲酸酯中的一种或多种。5.根据权利要求1或2所述的UV减粘组合物,其特征在于,所述交联剂包括异氰酸酯类交联剂、胺类交联剂、氮丙啶类交联剂中的一种或多种;优选的,所述交联剂为异氰酸酯类交联剂;优选的,所述异氰酸酯类交联剂包括异佛...
【专利技术属性】
技术研发人员:闫勇,陈伟,
申请(专利权)人:苏州城邦达力材料科技有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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