曝光机光学系统技术方案

本实用新型专利技术公开一种曝光机光学系统，属于显示技术领域。该曝光机光学系统包括：光源，用于提供初始光束；蝇眼透镜，位于所述初始光束的光路上，用于将所述初始光束分裂为多个细光束；光学过滤器，与所述蝇眼透镜相邻设置，用于控制所述蝇眼透镜出射所述细光束的照度以及扩散幅度。本实用新型专利技术的曝光机光学系统可以有效改变设备光路角度，提升光源利用率，确保设备的超细线化开发。

Optical system of exposure machine

The utility model discloses an exposure machine optical system, which belongs to the display technology field. The optical system of the exposure machine includes a light source for providing an initial beam; a fly eye lens, a light path located in the initial beam, is used to split the initial beam into a plurality of fine beams; an optical filter is arranged adjacent to the fly eye lens to control the illumination of the fine light beam of the fly eye lens. The range of diffusion. The optical system of the exposure machine of the utility model can effectively change the light path angle of the equipment, improve the utilization ratio of the light source, and ensure the ultra thin line development of the equipment.

【技术实现步骤摘要】
曝光机光学系统
本技术属于显示
，具体而言，涉及一种曝光机光学系统。
技术介绍
在液晶装置等电子设备的制造中，其中一个工序是利用光刻工艺来形成抗蚀剂图案。即使用具有规定图案的光掩模在规定曝光条件下，对形成在所要蚀刻的被加工层上的抗蚀剂膜进行曝光来转印图案，并通过对该抗蚀剂膜进行显影来形成抗蚀剂图案。然后，将该抗蚀剂图案作为掩模来蚀刻被加工层。由于接近式曝光不用如接触曝光(紧贴曝光)那样，将掩模板和基板接触，所以具有对掩模板污染和消耗少等优点，在制造液晶显示装置的滤色器、黑底的光掩模等中常常使用。而采用现有的接近式曝光机，由于曝光设备固定，随着掩模开口的减小，曝光有效照度会有所衰减，达不到理想照度，且曝光的光强分布不均匀，从而使图案的显色宽度不一致，达不到理想的曝光效果；同时，由于现有的接近式曝光机光路固定，无法实现超细线化开发。因此，有必要研究一种曝光机光学系统以解决上述问题。需要说明的是，在上述
技术介绍
部分专利技术的信息仅用于加强对本技术的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种曝光机光学系统，进而至少在一定程度上克服由于相关技术的限制和缺陷而导致的一个或者多个问题。为实现上述专利技术目的，本技术采用如下技术方案：根据本技术的一个方面，提供曝光机光学系统，包括：光源，用于提供初始光束；蝇眼透镜，位于所述初始光束的光路上，用于将所述初始光束分裂为多个细光束；光学过滤器，与所述蝇眼透镜相邻设置，用于控制所述蝇眼透镜出射所述细光束的照度以及扩散幅度。在本公开的一种示例性实施例中，所述光学过滤器由位于同一平面的多个滤片拼合组成。在本公开的一种示例性实施例中，所述滤片上均设置有光衰减涂层，所述光衰减涂层用于改变所述蝇眼透镜出射所述细光束的透过率。在本公开的一种示例性实施例中，位于四周的所述光衰减涂层对所述细光束的衰减程度大于位于中间区域的所述光衰减涂层对所述细光束的衰减程度。在本公开的一种示例性实施例中，所述光学过滤器安装于第一滑轨上，并能够在所述第一滑轨上沿垂直于所述细光束的光路方向滑动。在本公开的一种示例性实施例中，所述蝇眼透镜安装于第二滑轨上，并能够在所述第二滑轨上沿所述初始光束的光路方向滑动。在本公开的一种示例性实施例中，所述曝光机光学系统还包括定位仪，用于显示定位路径，所述第二滑轨设置于所述定位路径上。在本公开的一种示例性实施例中，所述定位仪显示的定位路径带有刻度标识，用于精确定位所述蝇眼透镜的位置。在本公开的一种示例性实施例中，所述定位仪为激光定位仪。在本公开的一种示例性实施例中，所述蝇眼透镜由多个凸面镜拼接组成。本技术提供的曝光机光学系统，一方面，蝇眼透镜可以将初始光束分裂为多个细光束，且可使射出蝇眼透镜的光接近于平行光，使照度分布均匀化；另一方面，光学过滤器可以在保障有效光照强度的同时，使照射到掩膜版上的光强均匀，保证曝光图案的宽度值一致，同时，可提高光角锐度，达到减少光源扩散的目的，可有效提升设备曝光精细化能力，拓宽产品布局，从而提升产品竞争力。应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本技术。附图说明此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本技术的实施例，并与说明书一起用于解释本技术的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为接近式曝光机的曝光原理图；图2为接近式曝光机在不同掩模开口下的有效照度对比图；图3为本技术实施例提供的曝光机光学系统的示意图；图4为本技术实施例的蝇眼透镜的结构示意图；图5为通过移动蝇眼透镜的位置，改变光线角度的示意图；图6为本技术实施例的移动式蝇眼透镜的示意图；图7为蝇眼透镜使用效果的示意图；图8为光学过滤器的结构示意图；图9为光学过滤器的另一结构示意图；图10为光学过滤器安装于滑轨的结构示意图；图11为光学过滤器使用效果的示意图。附图标记为：1、光源11、水银灯12、反射镜2、蝇眼透镜21、透镜元件22、透镜元件23、滑轨24、定位仪3、光学过滤器31、遮光部件32、减光部件33、滑轨4、凸透镜5、平面镜6、掩膜版7、基板具体实施方式现在将参考附图更全面地描述示例实施例。然而，示例实施例能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；相反，提供这些实施例使得本技术将更加全面和完整，并将示例实施例的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。虽然本说明书中使用相对性的用语，例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系，但是这些术语用于本说明书中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是，如果将图标的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。其他相对性的用语，例如“高”“低”“顶”“底”“左”“右”等也作具有类似含义。当某结构在其它结构“上”时，有可能是指某结构一体形成于其它结构上，或指某结构“直接”设置在其它结构上，或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。用语“一个”、“一”、“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等。参见图1，为接近式曝光机的曝光原理图，曝光工序可为通过曝光机获得平行光，平行光射入掩模板6，透过掩模板的光使涂敷于基板7表面的抗蚀剂感光，从而将掩模板上的掩模图案曝光转印到基板上。本技术实施例以彩色滤光片的生产工艺为例进行说明，彩色滤光片的生产工艺一般由黑矩阵、着色层、覆盖层/电极层、支撑柱等生产工序组成。其中，黑矩阵、着色层、支撑柱这几道工序在生产时存在曝光工序，由于曝光设备固定，曝光设备在超细线掩模开口(如掩模开口分别为7um、6.5um、6um)的情况下曝光有效照度依次衰减，衰减程度可达50％，参见图2。参见图3，为本技术实施例提供的曝光机光学系统的示意图，该曝光机光学系统可以包括光源1、蝇眼透镜2和光学过滤器3。光源1用于提供初始光束，可以包括作为发光部的水银灯11、和对从该水银灯11发出的光赋予指向性的反射镜12；蝇眼透镜2位于所述初始光束的光路上，用于将所述初始光束分裂为多个细光束；光学过滤器3与所述蝇眼透镜2相邻设置，用于控制所述初始光束或所述细光束的照度以及扩散幅度。此外，水银灯11并不限于单一灯，也可以是多个灯的组合，在此不作限定。另外，作为光源1，并不限于水银灯11，也可以是激光等其他类型的光源。本技术实施例提供的曝光机光学系统，一方面，蝇眼透镜可以将初始光束分裂为多个细光束，且可使射出蝇眼透镜的光接近于平行光，使照度分布均匀化；另一方面，光学过滤器可以在保障有效光照强度的同时，使照射到掩膜版上的光强均匀，保证曝光图案的宽度值一致，同时，可提高光角锐度，达到减少光源扩散的目的，可有效提升设备曝光精细化能力，拓宽产品布局，从而提升产品竞争力。参见图4，为本技术实施例的蝇眼本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光机光学系统，其特征在于，包括：光源，用于提供初始光束；蝇眼透镜，位于所述初始光束的光路上，用于将所述初始光束分裂为多个细光束；光学过滤器，与所述蝇眼透镜相邻设置，用于控制所述蝇眼透镜出射所述细光束的照度以及扩散幅度。

【技术特征摘要】
1.一种曝光机光学系统，其特征在于，包括：光源，用于提供初始光束；蝇眼透镜，位于所述初始光束的光路上，用于将所述初始光束分裂为多个细光束；光学过滤器，与所述蝇眼透镜相邻设置，用于控制所述蝇眼透镜出射所述细光束的照度以及扩散幅度。2.根据权利要求1所述的曝光机光学系统，其特征在于，所述光学过滤器由位于同一平面的多个滤片拼合组成。3.根据权利要求2所述的曝光机光学系统，其特征在于，所述滤片上均设置有光衰减涂层，所述光衰减涂层用于改变所述蝇眼透镜出射所述细光束的透过率。4.根据权利要求3所述的曝光机光学系统，其特征在于，位于四周的所述光衰减涂层对所述细光束的衰减程度大于位于中间区域的所述光衰减涂层对所述细光束的衰减程度。5.根据权利要求4所述的曝光机光学系统，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：齐鹏煜，姜晶晶，汪栋，
申请(专利权)人：北京京东方显示技术有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11