The substrate treatment device is provided with a substrate holding unit (31), which maintains a substrate (W), and an outer nozzle (45), which is used to spray a processing liquid on the surface of the substrate by a liquid film covering at least the central part of the substrate on the surface of the substrate from the outer edge of the substrate maintained by the substrate holding part, and the actuator (46). (90) it can change the height or elevation angle of the external nozzle.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板液处理装置、基板液处理方法和存储介质
本专利技术涉及一种通过向半导体晶圆等基板供给处理液来对该基板实施液处理的技术。
技术介绍
在半导体装置的制造工序中,通过一边使半导体晶圆等基板绕铅垂轴线旋转一边向基板的表面供给处理液来对基板实施湿蚀刻或药液清洗等液处理。一般利用被保持于喷嘴臂的可动喷嘴来对基板进行处理液的供给,但有时也利用在基板的外周缘的外侧设置的外喷嘴来对基板进行处理液的供给(例如参照专利文献1)。外喷嘴用于向基板的中心部供给处理液,以使防止在可动喷嘴不能够向基板的中心部供给所期望的处理液时旋转的基板的中心部干燥。外喷嘴不动地固定于基板的外周缘的外侧。因此,从外喷嘴喷出的处理液的着落位置主要由处理液的喷出流量(液的势力)确定。当考虑防止基板干燥时,从外喷嘴喷出的处理液必须覆盖基板的中心部。因此,不能够根据需要灵活地变更从外喷嘴向基板供给的处理液的流量。专利文献1:日本特开2013-021183号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术的目的在于提供一种能够灵活地变更喷出流量的外喷嘴。根据本专利技术的一个实施方式,提供一种基板液处理装置,其具备:基板保持部,其保持基板;外喷嘴,其从比被所述基板保持部保持的所述基板的外周缘靠外侧的位置,以使所述基板的表面的至少中心部被喷出的处理液的液膜覆盖的方式朝向所述基板的表面喷出处理液;以及致动器,其能够变更所述外喷嘴的高度位置或俯仰角。根据本专利技术的其它实施方式,提供一种基板液处理方法,其包括:从被配置于比基板的外周缘靠外侧的位置的外喷嘴朝向所述基板的表面喷出处理液;以及使用致动器来调节所述外喷嘴的高度 ...
【技术保护点】
1.一种基板液处理装置,其具备:基板保持部,其保持基板;外喷嘴,其从比被所述基板保持部保持的所述基板的外周缘靠外侧的位置,以使所述基板的表面的至少中心部被喷出的处理液的液膜覆盖的方式朝向所述基板的表面喷出处理液;以及致动器,其能够变更所述外喷嘴的高度位置或俯仰角。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.11.24 JP 2015-2288331.一种基板液处理装置,其具备:基板保持部,其保持基板;外喷嘴,其从比被所述基板保持部保持的所述基板的外周缘靠外侧的位置,以使所述基板的表面的至少中心部被喷出的处理液的液膜覆盖的方式朝向所述基板的表面喷出处理液;以及致动器,其能够变更所述外喷嘴的高度位置或俯仰角。2.根据权利要求1所述的基板液处理装置,其特征在于,还具备:流量控制阀,其调节从所述外喷嘴喷出的所述处理液的流量;以及控制部,其基于从所述外喷嘴喷出的所述处理液的流量控制所述致动器来调节所述外喷嘴的高度位置或俯仰角。3.根据权利要求2所述的基板液处理装置,其特征在于,所述控制部基于预先求出的、从所述外喷嘴喷出的所述处理液在所述基板上的着落位置与从所述外喷嘴喷出的所述处理液的流量以及所述外喷嘴的高度位置之间的关系,来调节所述外喷嘴的高度位置或俯仰角。4.根据权利要求2所述的基板液处理装置,其特征在于,所述外喷嘴设置为俯视观察时所述外喷嘴与所述基板保持部之间的相对位置关系不发生变化。5.根据权利要求2所述的基板液处理装置,其特征在于,所述控制部在使所述外喷嘴喷出所述处理液并且使所述处理液的液膜覆盖所述基板的表面的中心部之后,控制所述流量控制阀来减少从所述外喷嘴喷出的所述处理液的流量,并且控制所述致动器来升高所述外喷嘴的高度位置。6.根据权利要求1所述的基板液处理装置,其特征在于,还具备:旋转驱动部,其使所述基板保持部旋转来使所述基板绕铅垂轴线旋转;可动喷嘴,其从所述基板上方向下喷出处理液;喷嘴臂,其承载所述可动喷嘴,并且使所述可动喷嘴在被所述基板保持部保持的基板的上方的位置与比所述基板的外周缘靠外侧的位置之间进行移动;以及控制部,其使得同时执行如下处理:使所述可动喷嘴对所述基板的预先设定的位置喷出所述处理液;以及使所述外喷嘴以使处理液着落于所述基板的中心的方式喷出所述处理液,其中,所述预先设定的位置在所述基板的中心附近且在XY正交坐标系中位于第四象限内,所述XY正交坐标系为,在从正上方观察旋转的所述基板时,将包括从所述外喷嘴喷出的所述处理液的飞行...
【专利技术属性】
技术研发人员:小佐井一树,甲斐義广,五师源太郎,小宫洋司,藤本诚也,大塚贵久,
申请(专利权)人:东京毅力科创株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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