用于测量基材的静电荷的方法和设备技术

本文公开了用于测量基材表面上的静电荷的设备和方法。所述设备包括基材安装平台、基材接触部件和至少一个电压传感器，其中，对所述设备进行编程以独立地控制辊的旋转速度和平移速度，并且/或者在多个点处测量基材的电压，以产生至少一部分基材的二维电压图。

Method and equipment for measuring static charge of base material

An apparatus and method for measuring electrostatic charges on a substrate surface are disclosed. The equipment includes a substrate installation platform, a base material contact part and at least one voltage sensor, in which the device is programmed to independently control the rotation speed and translation speed of the roll, and / or measure the voltage of the substrate at a plurality of points to produce a two-dimensional voltage map of at least one sub base material.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于测量基材的静电荷的方法和设备相关申请的交叉参考本申请根据35U.S.C.§119要求于2015年12月3日提交的系列号为62/262638的美国临时申请的优先权权益，本申请以该申请的内容为基础，并且通过引用的方式全文纳入本文。
本公开一般涉及测量基材表面上的静电荷的设备和方法，更具体地，涉及在各种操作条件下在玻璃基材上产生并测量静电荷的设备。
技术介绍
在生产出基材后，通常对基材进行下游加工和处理步骤，该加工和处理步骤可能产生静电荷(“ESC”)。例如，可以使玻璃基材经受各种传送和/或定位工艺，在该传送和/或定位工艺期间，基材与一个或多个部件的接触可能造成在与部件接触的基材表面(“B表面”或“传送表面”)和/或基材的相反表面(“A表面”或“制造表面”)上积聚不期望的ESC。在A表面或B表面上的过量ESC可能是不期望的，并且基材的A表面上的电势差在制造期间可能存在严重的问题，导致产量显示损失，特别是在制造电子装置的情况中，包括但不限于在显示装置的制造期间可能采用的薄膜电子装置的制造。在制造工艺期间，传送系统可以用于将基材从一个工艺工位运输到另一个工艺工位。一般来说，传送系统可包括多个小辊，其可以自由滚动和/或被驱动。基材的B表面与辊之间的接触自身可导致在A表面和/或B表面上积聚ESC。另外，如果一个或多个辊以与传送系统中的其余辊不相同的速度移动，例如自由滚动或驱动的辊未充分润滑，则ESC的积聚可进一步增加。另一种产生ESC的过程可包括真空过程，例如真空夹紧，在该真空过程期间，基材通过接触表面上的真空而被保持在适当位置。通过真空牵引基材可通过基材与围绕真空端口的接触表面区域之间的摩擦，以及通过基材与接触表面之间的紧密接触而赋予基材电荷，在这期间，电荷可以通过范德化作用进行交换。ESC积聚还可以是因为制造工艺期间基材与其他表面之间的接触所致，例如通过擦和/或摩擦所致。用于测量和模拟ESC产生活动的现有方法和设备是有限的，原因是是移动范围小，不能测量多于一种形式ESC产生活动，和/或不能够以基材表面上的位置的函数来评价ESC产生。在基材上产生和测量ESC的一种方法是滚动球测试，其中，使圆形滚动球与基材接触。然而，使用圆形滚动球可能提供受限的运动轨迹(motionprofile)并且可能不能精确地模拟辊传送。特别地，静止的基材与滚动球的接触或者移动的基材与静止的滚动球的接触与实际的辊传送过程明显不相似。在实际的辊传送过程中，移动的基材接触转动或旋转的辊，例如，当辊的旋转速度和基材的平移速度可以彼此独立时。另外，滚动球测试没有提供关于真空提升和/或摩擦接触导致的ESC产生的信息。最后，滚动球测试没有提供可依据ESC积聚来作图及评价基材的全部或一部分表面的方法。因此，将会有利的是，提供用于在基材表面上产生和测量ESC的改进方法和设备。还将有利的是，提供可更精确地模拟一种或多种形式ESC产生活动的方法和设备。
技术实现思路
在各个实施方式中，本公开涉及测量静电荷的设备，所述设备包括：基材安装平台；可拆卸地安装于多轴致动部件的可互换接触部件；以及至少一个电压传感器；其中，对所述设备编程以使基材与可互换的接触部件接触，从而产生静电荷；并且其中，所述至少一个电压传感器被构造成在多个点处测量基材的电压，以产生至少一部分基材的二维电压图。本文还公开了用于测量静电荷的设备，所述设备包括：基材安装平台；包括至少一个辊部件的基材接触部件；以及至少一个电压传感器；其中，对所述设备进行编程以(a)使辊部件以旋转速度旋转，(b)使基材与旋转的所述至少一个辊部件接触以产生静电荷；和(c)使基材和旋转的所述至少一个辊部件在第一方向上以平移速度相对平移；并且其中，独立于平移速度来控制旋转速度。本文还公开了用于测量静电荷的方法，所述方法包括：将基材定位在本文公开的设备中，以及在基材与表面接触部件接触期间或之后，测量基材表面上的至少一个位置的电压。在一些实施方式中，所述方法还包括：将基材定位在设备的基材安装平台上，其中，所述设备还包括至少一个电压传感器和接触部件，所述接触部件包括至少一个辊部件；使所述至少一个辊部件以旋转速度旋转；使基材与所述至少一个辊部件接触以产生静电荷；使基材和所述至少一个辊部件在第一方向上以平移速度相对平移；以及在基材与所述至少一个辊部件接触期间或之后，测量基材表面上的至少一个位置的电压，其中，独立于平移速度来控制旋转速度。在另外的实施方式中，所述方法还可包括，在基材与接触部件接触之前或之后，中和基材表面的至少一部分。根据另外的实施方式，所述基材可以包括玻璃基材。在以下的具体实施方式中给出了本公开的其他特征和优点，其中的部分特征和优点对本领域的技术人员而言根据所作描述即容易理解，或者通过实施包括以下具体实施方式、权利要求书以及附图在内的本文所述方法而被认识。应理解，前面的一般性描述和以下的具体实施方式都显示了本公开的各个实施方式，并旨在提供用于理解权利要求的性质和特性的总体评述或框架。包括的附图提供了对本公开的进一步的理解，附图结合于本说明书中并构成说明书的一部分。附图例示了本公开的各个实施方式，并与说明书一起用来解释本公开的原理和操作。附图说明结合以下附图阅读时，可以进一步理解下文的具体实施方式。图1A-C例示了各种ESC产生活动，例如辊传送、真空夹紧和摩擦接触；图2例示了根据本公开的某些实施方式的ESC测量设备；图3例示了图2描述的ESC测量设备的底视图；以及图4A-B例示了根据本公开的各个实施方式的基材接触部件。具体实施方式设备本文公开了用于测量静电荷的设备，所述设备包括：基材安装平台；包括至少一个辊部件的基材接触部件；以及至少一个电压传感器；其中，对所述设备进行编程以(a)使辊部件以旋转速度旋转，(b)使基材与旋转的所述至少一个辊部件接触以产生静电荷；和(c)使基材和旋转的所述至少一个辊部件在第一方向上以平移速度相对平移；并且其中，独立于平移速度来控制旋转速度。本文还公开了用于测量静电荷的设备，所述设备包括：基材安装平台；可拆卸地安装于多轴致动部件的可互换接触部件；以及至少一个电压传感器；其中，对所述设备编程以使基材与可互换的接触部件接触，从而产生静电荷；并且其中，所述至少一个电压传感器被构造成在多个点处测量基材的电压，以产生基材的至少一部分的二维电压图。图1A-C例示了在基材的一个或多个表面上可产生ESC的各种接触情况。例如，图1A例示了辊传送，其中，使用多个在第二方向上(用实线箭头指示)旋转的辊R使基材S在第一方向上(用虚线箭头指示)传送。图1B例示了真空夹紧，其中，在第一方向上(用实线箭头指示)牵引基材S并使基材与接触表面C接触。最后，图1C例示了摩擦接触，其中，基材S与接触表面C相摩擦。如本文所使用的，摩擦接触旨在表示在基材与另一个表面之间产生了摩擦，例如，通过使S和C在相反的方向上(如图1C中的虚线箭头所示)或在相同的方向上，例如以不同的速度(未示出)相对平移，或者使S和C中的一者相对于另一者移动(未示出)。如本文所使用的，短语“相对平移”指旨在表示基材和/或基材接触部件中的至少一者相对于另一者移动，例如，移动的基材和静止的部件，移动的部件和静止的基材，或移动的基材和移动的部件。参考图2，该图描本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于测量静电荷的方法，所述方法包括：(a)将基材定位在设备的基材安装平台上，其中，所述设备还包括至少一个电压传感器和接触部件，所述接触部件包括至少一个辊部件；(b)使所述至少一个辊部件以旋转速度旋转；(c)使基材与所述至少一个辊部件接触以产生静电荷；(d)使基材和所述至少一个辊部件在第一方向上以平移速度相对平移；以及(e)在基材与所述至少一个辊部件接触期间或之后，测量基材表面上的至少一个位置处的电压，其中，独立于平移速度来控制旋转速度。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.12.03 US 62/262,6381.一种用于测量静电荷的方法，所述方法包括：(a)将基材定位在设备的基材安装平台上，其中，所述设备还包括至少一个电压传感器和接触部件，所述接触部件包括至少一个辊部件；(b)使所述至少一个辊部件以旋转速度旋转；(c)使基材与所述至少一个辊部件接触以产生静电荷；(d)使基材和所述至少一个辊部件在第一方向上以平移速度相对平移；以及(e)在基材与所述至少一个辊部件接触期间或之后，测量基材表面上的至少一个位置处的电压，其中，独立于平移速度来控制旋转速度。2.如权利要求1所述的方法，其还包括：在基材与所述至少一个辊部件接触之前或之后，中和基材表面的至少一部分。3.如权利要求1所述的方法，其中，将所述基材接触部件安装于多轴致动部件。4.如权利要求1所述的方法，其中，将所述至少一个电压传感器安装于多轴致动部件。5.如权利要求3所述的方法，其中，所述多轴致动部件还包括伺服电动机，对所述伺服电动机进行编程以进行步骤(b)-(d)。6.如权利要求1所述的方法，其中，在基材表面上的单个点处测量电压，在沿着预定一维路径的多个点处测量电压，或者在沿着预定二维路径的多个点处测量电压。7.如权利要求1所述的方法，其中，测量电压包括产生至少一部分基材的二维电压图。8.如权利要求1所述的方法，其中，在所述至少一个辊部件与基材接触的同时，沿着所述至少一个辊部件的预定路径测量电压。9.如权利要求1所述的方法，其还包括：使表面与所述至少一个辊部件接触以及测量基材的相反第二表面的电压。10.如权利要求1所述的方法，其中，所述基材为玻璃片。11.一种用于测量静电荷的设备，所述设备包括：基材安装平台；能够互换的接触部件，其可拆卸地安装于多轴致动部件；和至少一个电压传感器；其中，对所述设备编程以使基材与能够互换的接触...

【专利技术属性】
技术研发人员：G·P·阿格尼洛，P·诺尔斯，C·R·尤斯坦尼克，
申请(专利权)人：康宁股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US