真空泵及搭载于该真空泵的旋转翼、反射机构制造技术

提供一种防止粒子向气体的流入侧逆流的真空泵及搭载于该真空泵的旋转翼、反射机构。反射机构（30）被配设于旋转翼（102a）的上方。旋转翼（102a）的倒角面（21）形成为，随着与穿过水平面（1）的旋转方向侧末端点（9）被相对于旋转轴平行地引出的假想线（11）相比以0~10度朝向旋转方向向下游前进而逐渐扩展。反射机构（30）为，以既定的角度倾斜的倾斜板（33）被从中央圆板部（35）向径向放射状地配设。相对于反射机构（30）的倾斜板（33），在旋转翼（102a）的倒角面（21）反射的粒子相对于该倾斜板（33）碰撞，此时的再反射向下游方向下落。能够切实地使其向反射机构（30）反射，所以能够防止粒子在吸气口（101）飞出而向腔侧逆流。

A vacuum pump and a rotating wing and reflecting mechanism mounted on the vacuum pump.

A vacuum pump to prevent particles from flowing into the side of the gas is provided, and a rotating wing and reflecting mechanism mounted on the vacuum pump. The reflecting mechanism (30) is arranged above the rotating wing (102a). The chamfering surface (21) of the rotating wing (102a) is formed as the imaginary line (11) that is drawn parallel to the rotation axis (11) is gradually expanded as compared with the rotation direction at the rotation direction (11) with the rotation direction side end point (9) passing through the horizontal plane (1). The reflecting mechanism (30) is a tilted plate (33) tilted at a predetermined angle, and is radially arranged from the central circular plate part (35). Relative to the inclined plate (33) of the reflection mechanism (30), the particles reflected on the chamfering surface (21) of the rotating wing (102a) collide relative to the inclined plate (33), and the re reflection at this time falls down to the downstream direction. It can effectively reflect it to the reflecting mechanism (30), so it can prevent particles from flying out of the suction port (101) and countering the cavity side.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】真空泵及搭载于该真空泵的旋转翼、反射机构
本专利技术涉及真空泵及搭载于该真空泵的旋转翼、反射机构，特别涉及防止粒子向气体的流入侧逆流的真空泵及搭载于该真空泵的旋转翼、反射机构。
技术介绍
随着近年的电子工学的发展，存储器、集积电路的半导体的需求急剧增大。这些半导体通过对纯度极高的半导体基板掺入杂质来赋予电气性质或通过蚀刻在半导体基板上形成细微的回路等来制造。并且，这些作业为了避免空气中的灰尘等的影响而需要在高真空状态的腔内进行。该腔的排气一般使用真空泵，但由于残留气体特别少、保养容易等方面，多用作为真空泵中的一种的涡轮分子泵。此外，在半导体的制造工序中，使各种各样的工艺气体作用于半导体的基板的工序较多，涡轮分子泵不仅被用于使腔内为真空，也被用于将这些工艺气体从腔内排出。该涡轮分子泵具备壳，前述壳形成具备吸气口及排气口的外装体。并且，在该壳的内部收纳有发挥排气功能的构造物。该发挥排气功能的构造物由大体上分为被旋转自如地轴支承的旋转部和相对于壳固定的固定部构成。旋转部由旋转轴及固定于该旋转轴的旋转体构成，旋转体的向径向放射状地突出设置的旋转翼被多层地配设。此外，固定部的固定翼相对于旋转翼被交替地多层地配设。此外，设置有用于使旋转轴高速旋转的马达，若通过该马达的工作，旋转轴高速旋转，则通过旋转翼和固定翼的作用，气体被从吸气口抽吸，被从排气口排出。但是，对于涡轮分子泵，不仅工艺气体，由在腔内产生的反应产物构成的粒子(例如数μ~数百μm尺寸的颗粒)也经由途中的配管、阀被从吸气口吸入。该粒子在涡轮分子泵的内部与高速旋转的旋转翼碰撞的情况下，有被向腔侧反弹，即从吸气口向腔侧逆流的情况。并且，这样从涡轮分子泵逆流的粒子有成为腔的内部的污染原因的可能。特别是，以往如图18所示，在朝向旋转翼10的旋转方向的末端部分，为了防止毛边，防止安装时切到手，以既定的角度实施倒角。另外，图18中也一并记载该末端部分的放大图。如从放大图可知，该倒角的角度多切削成，面向吸入口侧的水平面1和倒角面7之间的角度α、倒角面7和下侧倾斜面5之间的角度β为相等的角度。结果，形成的倒角面7呈，与穿过水平面1的旋转方向侧末端点9而相对于旋转轴平行地引出的假想线11相比以22.5度左右向下游方向扩展的状态。即，倒角面7呈倾斜地朝向吸入口侧的状态。这样，倒角面7的扩展的角度较大，所以在粒子相对于高速旋转的倒角面7碰撞的情况下，向腔侧反弹的可能性较高。因此以往，用于抑制这样的粒子向腔侧的逆流的技术在专利文献1~4中被提出。在专利文献1中，公开了如下形状：如图19所示，相对于旋转翼12的吸气口侧的边缘部，形成与旋转轴平行或稍朝向下游的末端面13，此外，在末端面13和水平面15之间的角部R具有较小的曲率。此外，在专利文献2中，公开了如下形状：如图20所示，旋转翼17的吸气口侧的边缘部的倒角面19与旋转轴平行或稍朝向下游。进而，在专利文献3中，公开了能够将粒子的逆流防止构造从吸气口装卸的例子。进而，在专利文献4中，公开了为了防止粒子的逆流而在旋转翼的上游设置有固定翼的例子。专利文献1：日本特开2006‐307823号公报。专利文献2：日本专利5463037号公报。专利文献3：日本专利5250201号公报。专利文献4：日本专利3444971号公报。然而，在专利文献1所述的技术中，如图21所示，大部分的粒子向末端面13和水平面15之间的角部R的曲率部分入射。该部分朝向吸气口侧，所以如图21所示，有较多的粒子被向吸气口侧反射的可能。此外，由于碰撞位置，反射方向改变，所以难以防止反射的粒子的逆流。此外，在专利文献2的形状中，大部分的粒子如图22所示向旋转翼17A的倒角面19入射后，被向水平方向或稍朝向下游反射。粒子朝向下游的速度较小，所以反射后与旋转方向前方的旋转翼17B的背面再碰撞，有向吸气口侧再反射的可能。进而，在专利文献3、4中，在未进行设计以使粒子的反射角度较小的情况下，有粒子不被反射板反弹而通过反射板间的间隙的可能。因此，若不使反射板间的配置间隔变窄，则不能充分发挥防止粒子的逆流的效果。另一方面，若这样地使反射板间的配置间隔变窄，则有气体的吸入被反射板妨碍而排气性能下降的影响。
技术实现思路
本专利技术是鉴于以往的问题而出的，其目的在于提供一种防止粒子向气体的流入侧逆流的真空泵及搭载于该真空泵的旋转翼、反射机构。因此，本专利技术(技术方案1)是真空泵的专利技术，其特征在于，具备旋转轴、旋转翼、反射机构，前述旋转翼固定于该旋转轴，具有在旋转方向的末端部形成有倒角面的叶片，前述反射机构被配设于比该旋转翼靠上游侧的位置，前述倒角面朝向斜上游方向，与旋转体的轴向相比倾斜既定角度，使得碰撞于前述倒角面的粒子向前述反射机构反射。由此，避免在旋转翼的倒角面反射的粒子像以往那样相对于前方的叶片的背面再碰撞。因此，能够使粒子向反射机构切实地反射。将粒子的反射方向抑制在从水平方向稍向上的狭窄的范围，所以能够使反射机构的尺寸为最小限度。能够使对排气性能的影响也为最小限度。此外，本专利技术(技术方案2)是真空泵的专利技术，其特征在于，前述叶片为，前述倒角面形成于前述粒子的碰撞可能区域L，前述粒子的碰撞可能区域L基于将相邻的前述叶片的间隔设为d、将前述粒子的下落速度设为v1、将前述叶片的周速度设为v2时的下述式1被特定，式1L＝d×v1/v2。由此，旋转翼的倒角面的高度为最小限度，能够使倒角面对排气性能的影响为最小限度。进而，本专利技术(技术方案3)是真空泵的专利技术，其特征在于，前述反射机构具有使被前述倒角面反射的前述粒子向下游再反射的倾斜板，该倾斜板被在径向上放射状地配置。由此，能够防止粒子被向上游反射。进而，本专利技术(技术方案4)是真空泵的专利技术，其特征在于，前述反射机构具有使被前述倒角面反射的前述粒子向下游再反射的倾斜板，该倾斜板被形成为，与吸气口的内壁相比朝向径向以既定长度突出设置。由此，能够防止粒子被向上游反射。此外，反射机构的倾斜板不被设置于吸气口的中央部而仅被设置于旋转翼的末端附近，所以排气阻力变小，能够减轻排气性能的下降。进而，本专利技术(技术方案5)是真空泵的专利技术，其特征在于，前述倾斜板被配置成，与比前述吸气口的内壁朝向该吸气口的中心的假想线相比以既定角度向旋转方向倾斜。由此，能够使向倾斜板入射的角度为大致90度，所以能够使其在不向径向外侧偏离来反射的情况下落向下方。因此，能够更切实地防止粒子被向上游反射。进而，本专利技术(技术方案6)是真空泵的专利技术，其特征在于，在前述倾斜板的下部形成有切口。由此，在倒角面被反射的粒子在倾斜板被再反射后，在不发生不相对于前一个倾斜板的背面再反射的情况下大致切实地向下方下落。进而，本专利技术(技术方案7)是真空泵的专利技术，其特征在于，前述反射机构基于将前述倾斜板的间隔设为W、将该倾斜板的倾斜角度设为Φ、将该倾斜板的高度设为H、将前述粒子的反射角设为θ时的下述式2形成，式2W＝H×(1/tanθ＋1/tanΦ)。由此，能够将反射机构的倾斜板的间隔最佳地配置，使得在旋转翼的倒角面反射的粒子不会在倾斜板过而不停。因此，能够使随着配设反射机构的倾斜板而对排气性能的影响为最小限度。进而，本专利技术(技术方案8)是真空泵的专利技术，其特征在于，前述倾斜板为，与距前述旋转轴中心的半径变小对应，高本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空泵，其特征在于，具备旋转轴、旋转翼、反射机构，前述旋转翼固定于该旋转轴，具有在旋转方向的末端部形成有倒角面的叶片，前述反射机构被配设于比该旋转翼靠上游侧的位置，前述倒角面朝向斜上游方向，与旋转体的轴向相比倾斜既定角度，使得碰撞于前述倒角面的粒子向前述反射机构反射。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.12.15 JP 2015-244554;2016.06.30 JP 2016-130491.一种真空泵，其特征在于，具备旋转轴、旋转翼、反射机构，前述旋转翼固定于该旋转轴，具有在旋转方向的末端部形成有倒角面的叶片，前述反射机构被配设于比该旋转翼靠上游侧的位置，前述倒角面朝向斜上游方向，与旋转体的轴向相比倾斜既定角度，使得碰撞于前述倒角面的粒子向前述反射机构反射。2.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，前述叶片为，前述倒角面形成于前述粒子的碰撞可能区域L，前述粒子的碰撞可能区域L基于将相邻的前述叶片的间隔设为d、将前述粒子的下落速度设为v1、将前述叶片的周速度设为v2时的下述式1被特定，式1L＝d×v1/v2。3.如权利要求1或2所述的真空泵，其特征在于，前述反射机构具有使被前述倒角面反射的前述粒子向下游再反射的倾斜板，该倾斜板被在径向上放射状地配置。4.如权利要求1或2所述的真空泵，其特征在于，前述反射机构具有使被前述倒角面反射的前述粒子向下游再反射的倾斜板，该倾斜板被形成为，与吸气口的内壁相比朝向径向以既定长度突出设置。5.如权利要求4所述的真空泵，其特征在于，前述倾斜板被配置成，与比前述吸气口的内壁朝向该吸气口的中心的假想线相比以既定角度向旋转方向倾斜。6.如权利要求4或5所述的真空泵，其特征在于，在前述倾斜板的下部形成有切口。7.如权利要求3至6中任一项所述的真空泵，其特征在于，前述反射机构基于将前述倾斜板的间隔设为W、将该倾斜板的倾斜角度设为Φ、将该倾斜板的高度设为H、将前述粒子的反射角设为θ时的下述式2形成，式2W＝H×(1/tanθ＋1/tanΦ)。8.如权利要求3或7所述的真空泵，其特征在于，前述倾斜板为，与距前述旋转轴中心的半径变小对应，高度逐渐变...

【专利技术属性】
技术研发人员：桦泽刚志，
申请(专利权)人：埃地沃兹日本有限公司，
类型：发明
国别省市：日本,JP