涂层剂制造技术

本发明专利技术提供能够形成与环烯烃树脂等塑料基材的密合性优异、且具有透明性和高折射率的基底膜的涂层剂。涂层剂，其含有仅由来自式(I)表示的单体的重复单元形成的聚合物。式中，Ar表示可以具有取代基的C6～C10的芳基。此处Ar可以相同也可以不同。X表示氧原子或‑NR‑。R表示氢原子或C1～C6的烷基。Y表示可聚合的官能团。

Coating agent

The present invention provides a coating agent capable of forming a base film with excellent adhesion, transparent and high refractive index, and other plastic substrates such as cyclic olefin resin. The coating agent contains a polymer formed only by the repeating unit of the monomer represented by I. In the formula, Ar indicates the aryl group of C6 ~ C10 with substituents. Here Ar can be the same or different. X is an oxygen atom or NR. R represents the hydrogen atom or the alkyl of C1 ~ C6. Y represents a polymerizable functional group.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】涂层剂
本专利技术涉及新型的涂层剂，尤其涉及与塑料基材的密合性优异的涂层剂。本申请对在2015年12月21日提出申请的日本专利申请第2015-248224号主张优先权，将其内容并入本文中。
技术介绍
已知将包含至少1种式(1)所示化合物的化合物作为单体来进行自由基聚合而得到的三维聚合物是耐热性、耐光性、透明性优异的聚合物，可作为光学用塑料材料使用。(参见专利文献1及2)[化学式1](式中，R表示丙烯酰基、甲基丙烯酰基、烯丙基氧基羰基、烯丙基。)另外，已知使特征在于由下述式(2)表示的聚合性化合物进行光聚合而得到的固化物可作为光学元件使用。(参见专利文献3)[化学式2](式中，4个苯基所具有的取代基Z1～Z4各自独立地为下述式(3)表示的取代基，a、b、c、及d各自独立地为0～3，并且，其总和(a+b+c+d)为1～4。4个苯基各自独立地为直接具有残留的氢原子而成、或者为残留的氢原子的一部分或全部被甲基、甲氧基、氟原子、三氟甲基或三氟甲氧基取代而成。i、j、k和l各自独立地为0或1。)[化学式3](式中，R1表示氢原子或甲基，Y表示单键、碳原子数1～12的亚烷基、一部分或全部的氢原子被氟原子取代的碳原子数1～12的亚烷基、在苯基侧的末端具有氧原子的碳原子数1～12的亚烷基、或者在苯基侧的末端具有氧原子且一部分或全部的氢原子被氟原子取代的碳原子数1～12的亚烷基。)现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开昭63-145310号公报专利文献2：日本特开昭63-145287号公报专利文献3：WO2009/139476号小册子
技术实现思路
专利技术所要解决的课题然而，将这些聚合性化合物用于光学用塑料基材以外的用途的例子尚未为人所知。另一方面，环烯烃树脂已广泛应用于光学透镜、光学部件、或医疗用途，但用于对其进行表面改性的密合性优异的底涂层尚未为人所知。本专利技术的课题在于提供能够形成与环烯烃树脂等塑料基材的密合性优异、且具有透明性和高折射率的基底膜的涂层剂。用于解决课题的手段本申请的专利技术人为了达成上述课题而进行了深入研究，结果发现式(I)表示的单体的聚合物在环烯烃树脂等塑料基材上形成密合性优异的基底膜，从而完成了本专利技术。即，本专利技术涉及：(1)涂层剂，其含有仅由来自式(I)表示的单体的重复单元形成的聚合物，[化学式4](式中，Ar表示可以具有取代基的C6～C10的芳基。此处Ar可以相同也可以不同。X表示氧原子或-NR-。R表示氢原子或C1～C6的烷基。Y表示可聚合的官能团。)；(2)涂层剂，其含有具有来自式(I)表示的单体的重复单元的均聚物，[化学式5](式中，Ar表示可以具有取代基的C6～C10的芳基。此处Ar可以相同也可以不同。X表示氧原子或-NR-。R表示氢原子或C1～C6的烷基。Y表示可聚合的官能团。)；(3)如(1)或(2)所述的涂层剂，其中，式(I)中，Y为丙烯酰基或甲基丙烯酰基；(4)如(1)～(3)中任一项所述的涂层剂，其中，涂层剂为用于塑料基材上的涂层剂；以及，(5)如(4)所述的涂层剂，其中，塑料基材为聚烯烃树脂基材。专利技术的效果通过使用本专利技术的涂层剂，能够形成相对于塑料基材、尤其是环烯烃树脂等塑料基材的密合性优异的高折射率的膜(涂膜)。能够介由本专利技术的涂膜而层合以往不能直接形成在塑料基材上的功能性膜。具体实施方式1.涂层剂〔式(I)表示的单体〕本专利技术的涂层剂含有具有来自式(I)表示的单体的重复单元的聚合物(有时称为“聚合物(I)”。)。式中，Ar表示可以具有取代基的C6～C10的芳基。作为C6～C10的芳基，具体而言，可举出苯基、萘基、四氢化萘基等。作为“可以具有取代基的”中的“取代基”，具体而言，可举出卤素基、羟基、C1～C6的烷基、C1～C6的烷氧基、C1～C6的烷基硫基、C6～C10的芳基、及C6～C10的芳基氧基。作为卤素基，具体而言，可举出氟基、氯基、溴基、碘基。作为C1～C6的烷基，具体而言，可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、正己基等。作为C1～C6的烷氧基，具体而言，可举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、异丁氧基、叔丁氧基、正戊氧基、正己氧基等。作为C1～C6的烷基硫基，具体而言，可举出甲基硫基、乙基硫基、正丙基硫基、异丙基硫基、正丁基硫基、仲丁基硫基、异丁基硫基、叔丁基硫基、正戊基硫基、正己基硫基等。作为C6～C10的芳基，具体而言，可举出苯基、萘基等。作为C6～C10的芳基氧基，具体而言，可举出苯氧基、萘氧基等。X表示氧原子或-NR-。R表示氢原子或C1～C6的烷基，作为C1～C6的烷基，可举出与作为“可以具有取代基的”中的“取代基”而例举的C1～C6的烷基同样的基团。式中，Y表示可聚合的官能团。作为可聚合的官能团，可举出丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基氧基羰基、丙-1-烯-2-基氧基羰基、烯丙基氧基羰基、乙烯基、烯丙基、缩水甘油基。本专利技术中使用的式(I)表示的单体中，优选可举出丙烯酸三苯甲酯、甲基丙烯酸三苯甲酯。〔聚合物(I)〕对于本专利技术中使用的聚合物(I)而言，只要是将式(I)表示的单体聚合而得到的聚合物，就可以没有特别限制地使用。可以是将1种单体聚合而得到的聚合物，也可以是将2种以上单体聚合而得到的聚合物。特别优选为将式(I)表示的1种单体聚合而得到的均聚物。聚合反应没有特别限制，可以是合成聚丙烯酸酯的已知的方法，可举出例如自由基聚合、阴离子聚合等。使用的聚合物(I)的分子量没有限制，只要在可向基材上涂布的范围内即可，可举出例如10,000～100,000的范围内的数均分子量的聚合物。〔其他成分〕(有机溶剂)可在本专利技术的涂层剂中含有有机溶剂。作为可使用的代表性的有机溶剂，可举出醚系、酯系、脂肪族烃系、芳香族烃系、酮系、有机卤化物系等。作为醚系的有机溶剂，可举出乙醚、二丙基醚、二丁基醚、二戊基醚；作为酯系的有机溶剂，可举出乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、乙酸戊酯、乙酸庚酯、丁酸乙酯、异戊酸异戊酯；作为脂肪族系烃系的有机溶剂，可举出正己烷、正庚烷、环己烷；作为芳香族系的有机溶剂，可举出甲苯、二甲苯；作为酮系的有机溶剂，可举出甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮；作为有机卤化物系的有机溶剂，可举出三氯乙烷、三氯乙烯；等等。此外，也可使用丙二醇单甲基醚、丙二醇单乙基醚等比较不活性的有机溶剂。其中，考虑到本专利技术在自然环境下的开放体系中使用的情况较多，具有挥发性的乙酸丙酯、乙酸丁酯、乙酸异戊酯、乙酸庚酯、丁酸乙酯、异戊酸异戊酯等酯系的有机溶剂是优选的。(有机硅烷化合物的缩合物)为了层合有机无机复合膜，可在本专利技术的涂层剂中含有有机硅烷化合物的缩合物。由此，能够形成与基材的粘接性良好的涂膜。可利用已知的硅醇缩合方法将式(A)表示的有机硅烷化合物制造成有机硅烷化合物的缩合物。R4Si(R3)3(A)式中，R4表示可以被环氧基、缩水甘油基氧基或(甲基)丙烯酰氧基取代的C1～C30的烷基、C2～C8的链烯基、或C6～C10的芳基，R3表示羟基或水解性基团。作为R4中的C1～C30的烷基，可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、2-甲基丁基、2,2-二甲基丙基、正己基、异己基、正庚基、正辛基本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.涂层剂，其含有仅由来自式(I)表示的单体的重复单元形成的聚合物，[化学式1]

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.12.21 JP 2015-2482241.涂层剂，其含有仅由来自式(I)表示的单体的重复单元形成的聚合物，[化学式1]式中，Ar表示可以具有取代基的C6～C10的芳基，此处Ar可以相同也可以不同，X表示氧原子或-NR-，R表示氢原子或C1～C6的烷基，Y表示可聚合的官能团。2.涂层剂，其含有具有来自式(I)表示的单体的重复单元的均...

【专利技术属性】
技术研发人员：山手太轨，
申请(专利权)人：日本曹达株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP