树脂组合物制造技术

本发明专利技术的课题是提供热固性的树脂组合物。作为解决方法是一种树脂组合物，其含有(A)成分、(B)成分和溶剂，上述(B)成分的含量基于上述树脂组合物之中的除上述溶剂以外的全部成分计算的含量为0.1质量％～5.0质量％。(A)成分：具有下述式(1)所示的结构单元和下述式(2)所示的结构单元的自交联性共聚物(B)成分：下述式(3)所示的化合物(式中，R0各自独立地表示氢原子或甲基，X表示‑O‑基或‑NH‑基，R1表示单键或亚烷基，R2表示烷基，a表示1～5的整数，b表示0～4的整数，R3表示具有醚键和/或酯键的2价有机基团，R5表示烷基，f表示1～5的整数，g表示0～4的整数，R6表示单键或亚烷基，Y表示单键或酯键，A表示可以包含至少1个杂原子的1价～4价的有机基团或表示杂原子，h表示1～4的整数。)

Resin composition

The subject of the invention is to provide thermosetting resin composition. As a solution, a resin composition contains (A) components, (B) components and solvents, and the content of the (B) component is based on the content of 0.1 mass% to 5 mass% of all components except the above solvent. (A) component: the self crosslinking copolymer (B) component of the structural unit indicated by the following formula (1) and the structure unit shown in the following formula (2): the compound shown in the following formula (3), the R0 individually represents the hydrogen atom or methyl, the X represents the O or NH base, the R1 expresses the single or the subalkyl, R2 represents alkyl, a represents 1~5. An integer, B represents an integer of 0~4, R3 represents a 2 valence organic group with an ether bond and / or ester bond, R5 is an alkyl group, f represents an integer of 1~5, G represents an integer of 0~4, R6 represents a single or a subalkyl, and Y expresses a single or ester bond, A indicates a 1 to 4 valence organic group or a hetero atom that contains at least 1 hetero atoms, H The integer that represents 1~4. )

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】树脂组合物
本专利技术涉及树脂组合物、以及由该树脂组合物形成的固化膜、保护膜、平坦化膜及微透镜。本专利技术的树脂组合物是不含有醌重氮化合物等感光剂的组合物，本专利技术的树脂组合物所包含的自交联性共聚物在不伴随交联剂的情况下共聚物彼此热交联，形成固化膜。
技术介绍
在液晶显示器、CCD/CMOS图像传感器等电子器件的制造工序中，进行曝露于溶剂或酸或碱溶液等化学试液的处理、溅射、干蚀刻、焊料回流等曝露于高温的处理。为了防止通过这样的处理而使元件劣化或损伤，进行将对这样的处理具有耐性的固化膜作为保护膜而形成在元件上的操作。对这样的保护膜要求耐化学品性、高透明性、耐热性、耐湿性等。进而，为了制造具备高可靠性的上述电子器件，也对上述固化膜要求长期的耐热性和耐湿性。在滤色器那样形成了的凹凸的表面上形成上述固化膜的情况下，从确保之后接下来的工序中的工艺裕量、确保器件特性的均匀性等观点考虑，需要平坦化性高的固化膜。此外，也进行由这样的固化膜制作微透镜的操作。作为CCD/CMOS图像传感器用微透镜的制作方法之一，已知回蚀法(专利文献1和专利文献2)。即，在形成于滤色器上的微透镜用树脂层上形成抗蚀剂图案，通过热处理将该抗蚀剂图案重新熔融而形成透镜图案。以将该抗蚀剂图案重新熔融而形成的透镜图案为蚀刻掩模，将下层的微透镜用树脂层回蚀，将透镜图案形状转印于微透镜用树脂层，从而制作微透镜。例如，专利文献3～专利文献5中公开了用于微透镜形成的树脂组合物。然而，都是感光性(放射线敏感性)树脂组合物，不可以说是适合于通过上述回蚀法而形成微透镜的材料。专利文献6中公开了用于微透镜形成的非感光性树脂组合物。然而，由该非感光性树脂组合物形成的膜的耐湿性不清楚。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平1-10666号公报专利文献2：日本特开平6-112459号公报专利文献3：日本特开2006-251464号公报专利文献4：日本特开2007-033518号公报专利文献5：日本特开2007-171572号公报专利文献6：国际公开WO2014/065100号
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术是鉴于上述情况而提出的，其目的是提供能够形成具有优异的耐化学品性、耐热性、耐湿性、透明性和平坦化性的固化膜的树脂组合物。此外，本专利技术的其它目的是提供具有优异的耐化学品性、耐热性、耐湿性和透明性的微透镜。用于解决课题的方法本专利技术人等为了解决上述课题而进行了深入研究，结果完成了本专利技术。即，本专利技术是一种树脂组合物，是包含下述(A)成分、下述(B)成分和溶剂的树脂组合物，上述(B)成分的含量基于上述树脂组合物之中的除上述溶剂以外的全部成分计算的含量为0.1质量％～5.0质量％。(A)成分：具有下述式(1)所示的结构单元和下述式(2)所示的结构单元的自交联性共聚物(B)成分：下述式(3)所示的化合物(式中，R0各自独立地表示氢原子或甲基，X表示-O-基或-NH-基，R1表示单键或碳原子数1～6的直链状或支链状的亚烷基，R2表示碳原子数1～6的直链状或支链状的烷基，a表示1～5的整数，b表示0～4的整数，并且a和b满足1≤a+b≤5，在b表示2、3或4的情况下、R2可以彼此不同，R3表示下述式(I)、式(II)或式(III)所示的2价有机基团，在R3表示下述式(I)所示的2价有机基团的情况下，该式(I)中的羰基与上述式(2)所示的结构单元的主链结合，R4表示具有环氧基的有机基团，R5表示碳原子数1～6的直链状或支链状烷基，f表示1～5的整数，g表示0～4的整数，并且f和g满足1≤f+g≤5，在g表示2、3或4的情况下、R5可以彼此不同，R6表示单键或碳原子数1～6的直链状或支链状的亚烷基，Y表示单键或酯键，A表示可以包含至少1个杂原子的1价、2价、3价或4价的有机基团或表示杂原子，h表示1～4的整数。)(式中，c表示0～3的整数，d表示1～3的整数，e各自独立地表示2～6的整数。)在上述式(3)所示的化合物中，在A表示包含至少1个杂原子的1价、2价、3价或4价的有机基团或表示杂原子的情况下，作为该杂原子，可举出例如氮原子、氧原子和硫原子。此外，作为上述1价、2价、3价或4价的有机基团，可举出例如，碳原子数1～20的直链状或支链状的烃基、芳香族烃基、杂环基。而且，在Y表示酯键的情况下，该酯键表示-C(＝O)O-。上述式(3)由例如下述式(3a)～式(3e)表示。(式中，A和h与上述式(3)的定义含义相同。)上述式(2)所示的结构单元为例如下述式(2-1)或式(2-2)所示的结构单元。(式中，R0各自独立地表示氢原子或甲基，R3表示上述式(I)、式(II)或式(III)所示的2价有机基团。)上述(A)成分的自交联性共聚物可以进一步具有下述式(4)所示的结构单元。(式中，R0各自独立地表示氢原子或甲基，Y表示苯基、联苯基或萘基，该苯基、该联苯基和该萘基的氢原子的一部分或全部可以被碳原子数1～10的烷基、碳原子数1～10的烷氧基、氰基或卤素取代。)本专利技术的树脂组合物作为例如保护膜用树脂组合物、平坦化膜用树脂组合物和微透镜用树脂组合物是有用的。此外，本专利技术是一种固化膜的制作方法，其包含下述工序：将上述树脂组合物涂布在基材上的工序；在80℃～300℃的温度下进行0.3分钟～60分钟烘烤的工序。进而，本专利技术是一种微透镜的制作方法，其包含下述工序：在通过上述方法制作的固化膜上形成抗蚀剂图案的工序；通过加热处理将上述抗蚀剂图案重新熔融而形成透镜图案的工序；以上述透镜图案为掩模将上述固化膜回蚀，将该透镜图案的形状向该固化膜转印的工序。专利技术效果由本专利技术的树脂组合物形成的固化膜具有优异的耐化学品性、耐热性、耐湿性、透明性和平坦化性。由此，由本专利技术的树脂组合物形成的固化膜在其形成工序、或配线等周边装置的形成工序中，在进行暴露于溶剂或酸或碱溶液等化学试液的处理、溅射、干蚀刻、焊料回流等暴露于高温的处理的情况下，能够显著减少元件劣化或损伤的可能性。进而，在使用由本专利技术的树脂组合物形成的固化膜的情况下，能够制造具备高可靠性的电子器件。此外，在由本专利技术的树脂组合物形成保护膜、平坦化膜或微透镜，在其上涂布抗蚀剂、或进行电极/配线形成工序的情况下，也能够显著减少与抗蚀剂的混合、由化学试液引起的保护膜、平坦化膜或微透镜的变形和剥离这样的问题。因此，本专利技术的树脂组合物作为形成保护膜、平坦化膜和微透镜的材料是适合的。具体实施方式本专利技术是含有自交联性共聚物、上述式(3)所示的化合物和溶剂的树脂组合物。以下说明各成分的详细内容。本专利技术的树脂组合物之中的除溶剂以外的全部成分(以下，也称为固体成分)通常基于树脂组合物的总质量为1质量％～50质量％。＜(A)成分＞本专利技术的树脂组合物所包含的(A)成分为自交联性共聚物，具有上述式(1)所示的结构单元和式(2)所示的结构单元。作为形成上述式(1)所示的结构单元的化合物(单体)的具体例，可举出(甲基)丙烯酸2-羟基苯酯、(甲基)丙烯酸3-羟基苯酯、(甲基)丙烯酸4-羟基苯酯、(甲基)丙烯酸4-羟基苄酯、(甲基)丙烯酸4-羟基苯乙酯、(甲基)丙烯酸3,5-二甲基-4-羟基苯基酯、(甲基)丙烯酸3,5-二甲基-4-羟基苄基酯、(甲基)丙烯酸3,5-二甲基-4-羟基苯乙基酯、N-(2本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种树脂组合物，含有下述(A)成分、下述(B)成分和溶剂，所述(B)成分的含量基于所述树脂组合物中的除所述溶剂以外的全部成分计算的含量为0.1质量％～5.0质量％，(A)成分：具有下述式(1)所示的结构单元和下述式(2)所示的结构单元的自交联性共聚物，(B)成分：下述式(3)所示的化合物，

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.12.21 JP 2015-2489261.一种树脂组合物，含有下述(A)成分、下述(B)成分和溶剂，所述(B)成分的含量基于所述树脂组合物中的除所述溶剂以外的全部成分计算的含量为0.1质量％～5.0质量％，(A)成分：具有下述式(1)所示的结构单元和下述式(2)所示的结构单元的自交联性共聚物，(B)成分：下述式(3)所示的化合物，式中，R0各自独立地表示氢原子或甲基，X表示-O-基或-NH-基，R1表示单键或碳原子数1～6的直链状或支链状的亚烷基，R2表示碳原子数1～6的直链状或支链状的烷基，a表示1～5的整数，b表示0～4的整数，并且a与b满足1≤a+b≤5，在b表示2、3或4的情况下、R2可以彼此不同，R3表示下述式(I)、式(II)或式(III)所示的2价有机基团，在R3表示下述式(I)所示的2价有机基团的情况下，该式(I)中的羰基与所述式(2)所示的结构单元的主链结合，R4表示具有环氧基的有机基团，R5表示碳原子数1～6的直链状或支链状烷基，f表示1～5的整数，g表示0～4的整数，并且f和g满足1≤f+g≤5，在g表示2、3或4的情况下、R5可以彼此不同，R6表示单键或碳原子数1～6的直链状或支链状的亚烷基，Y表示单键或酯键，A表示可以包含至少1个杂原子的1价、2价、3价或4价的有机基团或表示杂原子，h表示1～4的整数；式中，c表示0～3的整数，d表示1～3的整数，e各自独立地表示2～6的整数。2.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：安达勋，坂口崇洋，菅原由纪，
申请(专利权)人：日产化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP