用于压印微米或纳米结构的压印设备制造技术

本发明专利技术涉及一种用于制造防伪元件的设备，其中，防伪元件布置在薄膜幅面的正面和背面上并且由漆层中的、尺寸在微米或纳米范围内的压印结构组成。按照本发明专利技术，所述设备沿薄膜幅面的输送方向具有以下装置：用于提供薄膜幅面的装置；用于将能借助紫外线硬化的第一漆层施加在薄膜幅面的背面上的第一印刷机构；用于将尺寸在微米或纳米范围内的第一结构压印在第一漆层中的第一压印机构；用于将能借助紫外线硬化的第二漆层施加在薄膜幅面的正面上的第二印刷机构；用于将尺寸在微米或纳米范围内的第二结构压印在第二漆层中的第二压印机构。按照本发明专利技术，薄膜幅面从下方或斜下方导入第一印刷机构、从上方或斜上方导入第一压印机构、同样从上方或斜上方导入第二印刷机构并且又从下方或斜下方导入第二压印机构。作为对其的备选，薄膜幅面从上方或斜上方导入第一印刷机构、从下方或斜下方导入第一压印机构、同样从下方或斜下方导入第二印刷机构并且又从上方或斜上方导入第二压印机构。

Embossing equipment for imprinting micron or nanostructures

The invention relates to a device for the manufacture of an anti-counterfeit element, in which an anti-counterfeit element is arranged on the front and back of the film amplitude and is composed of a embossing structure in a lacquer layer with a size in a micron or nanoscale range. According to the invention, the device has the following device along the transmission direction of the film amplitude: a device for providing the film amplitude; the first printing mechanism applied to the back of the film amplitude by the first coating that can be hardened with the aid of ultraviolet light; for imprinting the first structure in the micron or nanoscale range to the first paint. The first imprint mechanism in the layer; a second printing mechanism used to apply the second coating hardened with ultraviolet light on the front of the film amplitude; for the second imprint mechanism of the second structure in the micron or nano scale in the second lacquer layer. According to the invention, the film amplitude is introduced into the first printing mechanism from below or below, and the first press mechanism is imported from above or above, and the second printing mechanism is introduced from above or above, and the second press mechanism is introduced from below or below. As an alternative to it, the film amplitude is introduced into the first printing mechanism from above or above, and the first imprint mechanism is introduced from below or below, and the second printing mechanism is introduced from below or below, and the second press mechanism is introduced from above or above.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于压印微米或纳米结构的压印设备本专利技术涉及一种用于制造防伪元件的设备，其中，防伪元件布置在薄膜幅面的正面和背面上并且由漆层中的、尺寸在微米或纳米范围内的压印结构组成。用于制造有价文件衬底的设备由WO2013/075811A2已知，其中，所述设备沿衬底的输送方向具有用于提供衬底尤其是纸衬底的装置、用于将第一薄膜元素施加在第一衬底侧上的第一薄膜施加装置和用于将第二薄膜元素施加在第二衬底侧上的第二薄膜施加装置。在这种设备中，第一薄膜施加装置和第二薄膜施加装置布置为，使得第一薄膜元素和第二薄膜元素在衬底不翻转的情况下施加在衬底的对置侧上。然而，施加薄膜元素不等同于将漆层施加在形式为薄膜幅面的衬底的侧面上并且接着引入尺寸在微米或纳米范围内的压印结构。漆层的施加和接下来压印结构的引入需要不同的技术器件和不同的技术途径。因此，本专利技术所要解决的技术问题在于，这样对按照本专利技术所述类型的方法进行扩展设计，从而克服现有技术的缺点。该技术问题按本专利技术通过独立权利要求的特征解决。本专利技术的扩展设计是从属权利要求的主题。按照本专利技术的第一方面，设备沿薄膜幅面的输送方向具有以下装置：·用于提供薄膜幅面的装置，·用于将能借助紫外线硬化的第一漆层施加在薄膜幅面的背面上的第一印刷机构，其中，薄膜幅面从下方或者至少从斜下方导入第一印刷机构，这种印刷机构例如是苯胺印刷机构(Flexodruckwerk)，·用于将尺寸在微米或纳米范围内的第一结构压印在第一漆层中的第一压印机构，其中，薄膜幅面从上方或者至少从斜上方导入第一压印机构，·用于将能借助紫外线硬化的第二漆层施加在薄膜幅面的正面上的第二印刷机构，其中，薄膜幅面从上方或者至少从斜上方导入第二印刷机构，这种印刷机构例如是苯胺印刷机构，·用于将尺寸在微米或纳米范围内的第二结构压印在第二漆层中的第二压印机构，其中，薄膜幅面从下方或者至少从斜下方导入第二压印机构。按照本专利技术的备选的第二方面，所述设备沿薄膜幅面的输送方向具有以下装置：·用于提供薄膜幅面的装置，·用于将能借助紫外线硬化的第一漆层施加在薄膜幅面的背面上的第一印刷机构，其中，薄膜幅面从上方或者至少从斜上方导入第一印刷机构，这种印刷机构例如是苯胺印刷机构，·用于将尺寸在微米或纳米范围内的第一结构压印在第一漆层中的第一压印机构，其中，薄膜幅面从下方或者至少从斜下方导入第一压印机构，·用于将能借助紫外线硬化的第二漆层施加在薄膜幅面的正面上的第二印刷机构，其中，薄膜幅面从下方或者至少从斜下方导入第二印刷机构，这种印刷机构例如是苯胺印刷机构，·用于将尺寸在微米或纳米范围内的第二结构压印在第二漆层中的第二压印机构，其中，薄膜幅面从上方或者至少从斜上方导入第二压印机构。在此，本专利技术的第一方面与第二方面的不同只在于，薄膜幅面导入印刷机构或者压印机构的方向分别是相反的。在本专利技术的第一方面中，薄膜幅面从下方或斜下方导入第一印刷机构、从上方或斜上方导入第一压印机构、同样从上方或斜上方导入第二印刷机构并且又从下方或斜下方导入第二压印机构，而在第二方面中，薄膜幅面从上方或斜上方导入第一印刷机构、从下方或斜下方导入第一压印机构、同样从下方或斜下方导入第二印刷机构并且又从上方或斜上方导入第二压印机构。在相应的两个压印机构中，薄膜幅面沿输送方向首先以尚未硬化的漆层所处的一侧通过配合圆筒(Presseur)压在压印圆筒上，待压印的在微米或纳米范围内的结构处于所述压印圆筒的表面上。在此，微米或纳米范围内的结构在漆层中成型。接着，通过紫外线源的紫外线使漆层硬化。从上方按照本专利技术意味着薄膜幅面竖直地或者至少几乎竖直地从上方或者说沿重力方向或者接近重力方向地输送至压印机构的压印圆筒或者印刷机构的印刷圆筒。至少从斜上方按照本专利技术意味着薄膜幅面以在大于水平至几乎竖直的范围内的角从上方输送至压印圆筒或者印刷圆筒，其中，薄膜幅面尤其不是水平地输送至压印圆筒或者印刷圆筒。从下方按照本专利技术在此相应地意味着薄膜幅面竖直地或者至少几乎竖直地从下方或者说与重力方向相反地或者几乎与重力方向相反地输送至压印机构的压印圆筒或者印刷机构的印刷圆筒。至少从斜下方按照本专利技术意味着薄膜幅面以在大于水平至几乎竖直的范围内的角从下方输送至压印圆筒或者印刷圆筒，其中，薄膜幅面尤其不是水平地输送至压印圆筒或者印刷圆筒。术语薄膜幅面的“正面”或者“背面”是相对术语，它们也可以称为“一”侧和“对置”侧并且形成薄膜幅面的整个表面的大部分。这些术语明确地不包括薄膜幅面的侧边面，所述侧边面在薄膜幅面的厚度中(其在卡体中只有约一毫米或者在钞票中只有一毫米的一部分)小到可忽略并且通常不配设或者不能配设防伪元件或者涂层。按照本专利技术，薄膜幅面从上方或者至少从斜上方导引至第一或第二压印圆筒。在此惊讶地业已证明，尚未硬化的漆层的沿输送方向直接积聚在漆层接触压印圆筒并且在该处形成所谓的“漆楔”的位置之前的那部分漆导致压印圆筒表面上的较大的润湿面积。此外，按照本专利技术的设备的漆楔不是不均匀地分布，并且其几何形状和分布不是随机的。由此在压印微米或纳米范围内的结构之前、之中和之后均在薄膜幅面上形成具有可预知和均匀的厚度和较大宽度的漆层，以及所述漆层在薄膜幅面上具有可预知并且恒定的位置。这特别有利地实现了具有恒定和可预知的性能的最终产物并且产生较少的废品，也就是产生较少的错误压印的或者不符合规定地压印的最终产物，例如在钞票之中或之上出现具有衍射或者镜面状结构的防伪线或者防伪条。在按照本专利技术的方法中，压印圆筒表面上的较大润湿面积的原因在于，除了薄膜幅面的运动方向，重力还将漆层导向薄膜幅面接触压印圆筒的位置。与之不同，在现有技术的方法中，重力使漆层远离压印圆筒。漆楔的其它优点在于，通过压印圆筒表面上的较大润湿面积提高了用于使空气从压印圆筒表面上的压印结构中漏出的时间，因此漆层可以在薄膜幅面速度较高和压印漆层中的气泡数量保持不变的情况下被压印或者作为对此的备选，在薄膜幅面速度相同但压印漆层中的气泡数量降低的情况下被压印。这种尺寸在微米或纳米范围内的结构尤其用于提高对有价文件的防伪保护，所述有价文件尤其是钞票、股票、债券、证书、优惠券、支票、高档入场券，但也可以是其它有伪造风险的纸，如护照和其它身份文件，以及卡，例如信用卡或者借记卡，并且也可以是产品保护元素，如标签、印章、包装和类似元素。尺寸在微米或纳米范围内的结构例如是衍射结构、微型镜、无光泽结构或者蛾眼结构。按照一种优选实施形式规定，第一印刷机构、第一压印机构、第二印刷机构和第二压印机构布置为，使得在薄膜幅面不翻转的情况下将尺寸在微米或纳米范围内的压印结构引入到第一漆层和第二漆层中。因此，薄膜幅面特别有利地不必导引通过翻转设备，在所述翻转设备中薄膜幅面沿输送方向这样旋转180°，使得薄膜幅面的当前的正面和当前的背面交换。通过取消翻转或者翻转设备形成的特殊优点在于，薄膜幅面的导引明显更安静地进行，因此薄膜幅面不进行在薄膜幅面的平面中或者在垂直于薄膜幅面表面的方向上的振动或者随机运动，或者在很大程度上避免了这种振动或者随机运动。因此，在尺寸在微米或纳米范围内的第一结构在薄膜幅面背侧所处的第一漆层中的压印与尺寸在微米或纳米范围内的第二结构在薄膜幅面正面所处的第二漆层中的压印之间实现了特别好的适配或者本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于制造防伪元件的设备，其中，防伪元件布置在薄膜幅面的正面和背面上并且由漆层中的、尺寸在微米或纳米范围内的压印结构组成，其中，所述设备沿薄膜幅面的输送方向具有以下装置：·用于提供薄膜幅面的装置，·用于将能借助紫外线硬化的第一漆层施加在薄膜幅面的背面上的第一印刷机构，其中，薄膜幅面从下方或者至少从斜下方导入第一印刷机构，·用于将尺寸在微米或纳米范围内的第一结构压印在第一漆层中的第一压印机构，其中，薄膜幅面从上方或者至少从斜上方导入第一压印机构，·用于将能借助紫外线硬化的第二漆层施加在薄膜幅面的正面上的第二印刷机构，其中，薄膜幅面从上方或者至少从斜上方导入第二印刷机构，·用于将尺寸在微米或纳米范围内的第二结构压印在第二漆层中的第二压印机构，其中，薄膜幅面从下方或者至少从斜下方导入第二压印机构。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.11.27 DE 102015015378.11.一种用于制造防伪元件的设备，其中，防伪元件布置在薄膜幅面的正面和背面上并且由漆层中的、尺寸在微米或纳米范围内的压印结构组成，其中，所述设备沿薄膜幅面的输送方向具有以下装置：·用于提供薄膜幅面的装置，·用于将能借助紫外线硬化的第一漆层施加在薄膜幅面的背面上的第一印刷机构，其中，薄膜幅面从下方或者至少从斜下方导入第一印刷机构，·用于将尺寸在微米或纳米范围内的第一结构压印在第一漆层中的第一压印机构，其中，薄膜幅面从上方或者至少从斜上方导入第一压印机构，·用于将能借助紫外线硬化的第二漆层施加在薄膜幅面的正面上的第二印刷机构，其中，薄膜幅面从上方或者至少从斜上方导入第二印刷机构，·用于将尺寸在微米或纳米范围内的第二结构压印在第二漆层中的第二压印机构，其中，薄膜幅面从下方或者至少从斜下方导入第二压印机构。2.一种用于制造防伪元件的设备，其中，防伪元件布置在薄膜幅面的正面和背面上并且由漆层中的、尺寸在微米或纳米范围内的压印结构组成，其中，所述设备沿薄膜幅面的输送方向具有以下装置：·用于提供薄膜幅面的装置，·用于将能借助紫外线硬化的第一漆层施加在薄膜幅面的背面上的第一印刷机构，其中，薄膜幅面从上方或者至少从斜上方导入第一印刷机构，·用于将尺寸在微米或纳米范围内的第一结构压印在第一漆层中的第一压印机构，其中，薄膜幅面从下方或者至少从斜下方导入第一压印机构，·用于...

【专利技术属性】
技术研发人员：A劳赫，F西弗斯，G基弗绍尔，B塞斯，C富瑟，A普雷特施，M拉姆，M海姆，W霍夫米勒，H扎施卡，
申请(专利权)人：捷德货币技术有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE