一种硅片脱胶清洗设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种硅片脱胶清洗设备，包括底座，底座的上表面一侧设有超声波发生器开关、加热器开关和电动伸缩杆开关，底座的上表面左侧设有超声波发生器，超声波发生器的输入端与超声波发生器开关的输出端电连接，底座的上表面设有清洗箱，清洗箱的内部底端均匀分布有换能器，换能器与超声波发生器电连接，换能器的上表面设有隔板，隔板的上部为清洗槽，清洗槽的内部两端均设有加热器，加热器的输入端与加热器开关的输出端电连接，底座的上表面后侧设有支撑板，支撑板的水平板的下表面设有电动伸缩杆。本硅片脱胶清洗设备，操作简单，硅片能够分开放置，而且超声清洗和热水脱胶同时进行，提高了硅片的脱胶清洗效率。

A kind of silicon degumming cleaning equipment

The utility model discloses a silicon strip degumming cleaning equipment, including a base, an ultrasonic generator switch, a heater switch and an electric expansion rod switch on one side of the upper surface of the base, and an ultrasonic generator on the left side of the upper surface of the base, and the input end of the ultrasonic generator is connected with the output end of the ultrasonic generator switch. Then, the upper surface of the base is equipped with a cleaning box. The inner bottom of the cleaning box is evenly distributed with a transducer. The transducer is electrically connected with the ultrasonic generator. The upper surface of the transducer is equipped with a partition. The upper part of the separator is a cleaning slot. The inner ends of the cleaning tank are equipped with a heater, the input end of the heater and the output end of the heater switch. The rear surface of the upper surface of the base is provided with a supporting plate, and the lower surface of the horizontal plate of the supporting plate is provided with an electric telescopic rod. The silicon strip degumming cleaning equipment is easy to operate, the silicon chip can be placed separately, and the ultrasonic cleaning and hot water degumming are carried out simultaneously, and the efficiency of the degumming and cleaning of the silicon wafer is improved.

【技术实现步骤摘要】
一种硅片脱胶清洗设备
本技术涉及硅片加工
，具体为一种硅片脱胶清洗设备。
技术介绍
硅片表面的清洁度是影响硅片合格率和电池转换效率的关键因素。为获得洁净度较高的硅片，往往硅片在经过线切割后需要脱胶清洗和精细清洗两个部分。现有的硅片脱胶清洗设备使用麻烦，操作过程繁琐，如冲洗、超声清洗、热水脱胶等，需要分步进行，才能完成清洗工作，效率大大降低，而且清洗不彻底，影响硅片的质量。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是克服现有的缺陷，提供一种硅片脱胶清洗设备，使用便利，硅片能够分开放置，而且超声清洗和热水脱胶同时进行，提高了硅片的脱胶清洗效率，可以有效解决
技术介绍
中的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种硅片脱胶清洗设备，包括底座，所述底座的上表面一侧设有超声波发生器开关、加热器开关和电动伸缩杆开关，超声波发生器开关的输入端、加热器开关的输入端和电动伸缩杆开关的输入端均与外部电源的输出端电连接，所述底座的上表面左侧设有超声波发生器，超声波发生器的输入端与超声波发生器开关的输出端电连接，所述底座的上表面设有清洗箱，清洗箱的内部底端均匀分布有换能器，换能器与超声波发生器电连接，换能器的上表面设有隔板，隔板的上部为清洗槽，清洗槽的内部两端均设有加热器，加热器的输入端与加热器开关的输出端电连接，所述底座的上表面后侧设有支撑板，支撑板为L形，支撑板的水平板的下表面设有电动伸缩杆，电动伸缩杆的数量为两个且等间距设置，电动伸缩杆的输入端与电动伸缩杆开关的输出端电连接，电动伸缩杆通过活动杆与硅片架连接。作为本技术的一种优选技术方案，所述底座的下表面四角均设有支撑腿，支撑腿之间设有支撑杆。作为本技术的一种优选技术方案，所述硅片架包括框体，框体位于清洗槽的正上方，框体的侧表面均匀分布有硅片插槽。作为本技术的一种优选技术方案，所述清洗箱的外表面左侧上部设有进水管，进水管的中部设有进水阀门。作为本技术的一种优选技术方案，所述清洗箱的外表面右侧设有出水管，出水管伸入到清洗槽的内部底端，出水管的中部设有出水阀门。与现有技术相比，本技术的有益效果是：本硅片脱胶清洗设备，操作简单，通过电动伸缩杆工作，活动杆带动硅片架移动，通过加热器工作，加热器加热热水，使硅片上的胶体脱离，硅片分隔放入硅片插槽内，能够充分与热水接触，通过超声波发生器和换能器工作，产生超声波，脱离硅片上附着的杂物，同时进行超声清洗和热水脱胶，提高了硅片的脱胶清洗效率。附图说明图1为本技术结构示意图；图2为本技术内部结构示意图。图中：1电动伸缩杆、2活动杆、3进水阀门、4进水管、5超声波发生器、6底座、7支撑腿、8清洗箱、9超声波发生器开关、10加热器开关、11电动伸缩杆开关、12支撑杆、13出水管、14出水阀门、15硅片架、16支撑板、17隔板、18换能器、19加热器、20清洗槽、21框体、22硅片插槽。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1-2，本技术提供一种技术方案：一种硅片脱胶清洗设备，包括底座6，底座6的下表面四角均设有支撑腿7，支撑腿7之间设有支撑杆12，支撑底座6保持稳定，底座6的上表面一侧设有超声波发生器开关9、加热器开关10和电动伸缩杆开关11，超声波发生器开关9的输入端、加热器开关10的输入端和电动伸缩杆开关11的输入端均与外部电源的输出端电连接，方便操作，底座6的上表面左侧设有超声波发生器5，超声波发生器5的输入端与超声波发生器开关9的输出端电连接，底座6的上表面设有清洗箱8，清洗箱8的外表面左侧上部设有进水管4，进水管4的中部设有进水阀门3，用于控制进水，清洗箱8的内部底端均匀分布有换能器18，换能器18与超声波发生器5电连接，通过超声波发生器5和换能器18工作，产生超声波，换能器18的上表面设有隔板17，隔板17的上部为清洗槽20，清洗箱8的外表面右侧设有出水管13，出水管13伸入到清洗槽20的内部底端，出水管13的中部设有出水阀门14，用于排出清洗槽20的水，清洗槽20的内部两端均设有加热器19，加热器19的输入端与加热器开关10的输出端电连接，通过加热器19工作，加热器19加热热水，底座6的上表面后侧设有支撑板16，支撑板16为L形，支撑板16的水平板的下表面设有电动伸缩杆1，电动伸缩杆1的数量为两个且等间距设置，电动伸缩杆1的输入端与电动伸缩杆开关11的输出端电连接，电动伸缩杆1通过活动杆2与硅片架15连接，通过电动伸缩杆1工作，活动杆2带动硅片架15移动，进入清洗槽20或从清洗槽20内拉出，硅片架15包括框体21，框体21位于清洗槽20的正上方，框体21的侧表面均匀分布有硅片插槽22，硅片分隔放入硅片插槽22内，能够充分与热水接触。在使用时：将硅片分别插入硅片插槽22内，打开进水阀门，水从进水管4进入清洗槽20内，接通外部电源，启动电动伸缩杆开关11，电动伸缩杆1工作、电动伸缩杆1通过活动杆2带动硅片架15进入清洗槽20内，启动加热器开关10，加热器19工作，对水进行加热，启动超声波发生器开关9，超声波发生器5和换能器18工作，产生超声波脱离硅片上的杂物，脱胶清洗完成后，电动伸缩杆1通过活动杆2从清洗槽20内拉出硅片架15，待硅片冷却后取出硅片。本技术操作简单，加热器19加热热水，使硅片上的胶体脱离，硅片分隔放入硅片插槽22内，能够充分与热水接触，超声波发生器5和换能器18工作产生超声波，脱离硅片上附着的杂物，同时进行超声清洗和热水脱胶，提高了硅片的脱胶清洗效率。尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅片脱胶清洗设备，包括底座(6)，其特征在于：所述底座(6)的上表面一侧设有超声波发生器开关(9)、加热器开关(10)和电动伸缩杆开关(11)，超声波发生器开关(9)的输入端、加热器开关(10)的输入端和电动伸缩杆开关(11)的输入端均与外部电源的输出端电连接，所述底座(6)的上表面左侧设有超声波发生器(5)，超声波发生器(5)的输入端与超声波发生器开关(9)的输出端电连接，所述底座(6)的上表面设有清洗箱(8)，清洗箱(8)的内部底端均匀分布有换能器(18)，换能器(18)与超声波发生器(5)电连接，换能器(18)的上表面设有隔板(17)，隔板(17)的上部为清洗槽(20)，清洗槽(20)的内部两端均设有加热器(19)，加热器(19)的输入端与加热器开关(10)的输出端电连接，所述底座(6)的上表面后侧设有支撑板(16)，支撑板(16)为L形，支撑板(16)的水平板的下表面设有电动伸缩杆(1)，电动伸缩杆(1)的数量为两个且等间距设置，电动伸缩杆(1)的输入端与电动伸缩杆开关(11)的输出端电连接，电动伸缩杆(1)通过活动杆(2)与硅片架(15)连接。

【技术特征摘要】
1.一种硅片脱胶清洗设备，包括底座(6)，其特征在于：所述底座(6)的上表面一侧设有超声波发生器开关(9)、加热器开关(10)和电动伸缩杆开关(11)，超声波发生器开关(9)的输入端、加热器开关(10)的输入端和电动伸缩杆开关(11)的输入端均与外部电源的输出端电连接，所述底座(6)的上表面左侧设有超声波发生器(5)，超声波发生器(5)的输入端与超声波发生器开关(9)的输出端电连接，所述底座(6)的上表面设有清洗箱(8)，清洗箱(8)的内部底端均匀分布有换能器(18)，换能器(18)与超声波发生器(5)电连接，换能器(18)的上表面设有隔板(17)，隔板(17)的上部为清洗槽(20)，清洗槽(20)的内部两端均设有加热器(19)，加热器(19)的输入端与加热器开关(10)的输出端电连接，所述底座(6)的上表面后侧设有支撑板(16)，支撑板(16)为L形，支撑板(16)的水平板的下表面设有电动伸缩杆(1)，电...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈忠海，
申请(专利权)人：苏州德瑞姆超声科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32