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一种钨热电子发射材料及其应用制造技术

技术编号:18459894 阅读:13 留言:0更新日期:2018-07-18 13:08
本发明专利技术公开了一种钨热电子发射材料及其应用。该钨热电子发射材料由钨、铜和氮化硼制成,所述钨、铜和氮化硼的重量份之比为50‑60:10‑20:9‑13。本发明专利技术提供的钨热电子发射材料性能优异,可以用于制备电子发射材料。

A tungsten thermal electron emission material and its application

The invention discloses a tungsten hot electron emission material and its application. The tungsten hot electron emission material is made of tungsten, copper and boron nitride, and the weight ratio of tungsten, copper and boron nitride is 50 60:10 20:9 13. The tungsten hot electron emission material provided by the invention has excellent performance and can be used for preparing electron emission materials.

【技术实现步骤摘要】
一种钨热电子发射材料及其应用
本专利技术属于电子领域,具体涉及一种钨热电子发射材料及其应用。
技术介绍
热电子发射是通过加热的方式使固体内部电子的动能增加,以致有一部分电子的动能大到足以克服表面势垒而逸出体外,形成电子发射。最初的热阴极材料是纯金属阴极,后来出现了原子膜阴极,再后来发展到氧化物阴极。氧化物阴极由于其高发射率而得到广泛应用,但随着科学技术的发展,氧化物阴极由于自身的缺陷而不再满足科技发展的需要,这就迫使人们开始寻求发射效率更高、工作温度更低、稳定性更好、寿命更长的热阴极材料。许多其他类型的热阴极材料如储备式阴极和稀土金属氧化物阴极得到了发展和应用。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种钨热电子发射材料及其应用。本专利技术通过下面技术方案实现:一种钨热电子发射材料,由钨、铜和氮化硼制成。优选地,所述钨、铜和氮化硼的重量份之比为50-60:10-20:9-13。优选地,所述钨、铜和氮化硼的重量份之比为55:15:11。上述钨热电子发射材料用于制备电子发射材料的用途。本专利技术技术效果:本专利技术提供的钨热电子发射材料性能优异,可以用于制备电子发射材料。具体实施方式下面结合实施例具体介绍本专利技术的实质性内容。实施例1一种钨热电子发射材料,由钨、铜和氮化硼制成。所述钨、铜和氮化硼的重量份之比为55:15:11。实施例2一种钨热电子发射材料,由钨、铜和氮化硼制成。所述钨、铜和氮化硼的重量份之比为50:10:9。实施例3一种钨热电子发射材料,由钨、铜和氮化硼制成。所述钨、铜和氮化硼的重量份之比为60:20:13。实施例4一种钨热电子发射材料,由钨、铜和氮化硼制成。所述钨、铜和氮化硼的重量份之比为50:10:11。实施例5一种钨热电子发射材料,由钨、铜和氮化硼制成。所述钨、铜和氮化硼的重量份之比为60:20:11。本专利技术提供的钨热电子发射材料性能优异,可以用于制备电子发射材料。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种钨热电子发射材料,其特征在于:由钨、铜和氮化硼制成。

【技术特征摘要】
1.一种钨热电子发射材料,其特征在于:由钨、铜和氮化硼制成。2.根据权利要求1所述的钨热电子发射材料,其特征在于:所述钨、铜和氮化硼的重量份之比为50-60:10-20:9-1...

【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人
申请(专利权)人:虞庆煌
类型:发明
国别省市:江苏,32

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