The invention provides a chip wiring method, including: obtaining congestion areas on the chip by layout and wiring of the chip, obtaining multiple standard units in the congestion area, adjusting the location of the multiple standard units according to the location of the congestion area on the chip, and can eliminate the congestion of the wiring while eliminating the congestion. In order to improve the wiring efficiency of the chip.
【技术实现步骤摘要】
芯片布线方法
本专利技术涉及集成电路设计
,特别涉及一种芯片布线方法。
技术介绍
在集成电路物理设计中,布线资源的充分利用可以减小芯片的面积,从而大大降低芯片的成本,提高此产品在市场的竞争力。目前,各种布局布线工具发展的越来越完备,不但提高了芯片设计速度,在布线资源的利用率上也有很大的提高。但布局布线工具通常是以全局芯片为考虑,难免有些小点考虑不周,在实际的布局布线过程中就会出现一些局部拥塞,例如,靠近宏单元(block)的引脚(pin)的区域和靠近block边角的区域等。此时就需要人为的手动干预来解决以上问题,造成芯片的布线效率低且易出现拥塞。
技术实现思路
本专利技术实施例的目的在于提供一种芯片布线方法,以解决芯片的布线效率低且易出现拥塞的问题。为了达到上述目的,本专利技术的实施例提供了一种芯片布线方法,包括:通过对芯片进行布局布线获得芯片上布线拥塞的拥塞区域;获取拥塞区域中的多个标准单元;根据拥塞区域在芯片上的位置,对多个标准单元的位置进行调整。其中,根据拥塞区域在芯片上的位置,对多个标准单元的位置进行调整的步骤,包括:根据拥塞区域在芯片上的位置,确定各标准单元的坐标;根据各标准单元的坐标,对各标准单元的位置进行调整。其中,根据拥塞区域在芯片上的位置,确定各标准单元的坐标的步骤,包括:若拥塞区域位于芯片上靠近第一block的多个引脚的位置,则获取第一block的多个引脚的横坐标,并获取第一block靠近拥塞区域的边界的纵坐标;将获得的多个横坐标依次作为多个标准单元的横坐标;其中,多个横坐标与多个标准单元一一对应;以第一block靠近拥塞区域的边界的 ...
【技术保护点】
1.一种芯片布线方法,其特征在于,包括:通过对芯片进行布局布线获得所述芯片上布线拥塞的拥塞区域;获取所述拥塞区域中的多个标准单元;根据所述拥塞区域在所述芯片上的位置,对所述多个标准单元的位置进行调整。
【技术特征摘要】
1.一种芯片布线方法,其特征在于,包括:通过对芯片进行布局布线获得所述芯片上布线拥塞的拥塞区域;获取所述拥塞区域中的多个标准单元;根据所述拥塞区域在所述芯片上的位置,对所述多个标准单元的位置进行调整。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述拥塞区域在所述芯片上的位置,对所述多个标准单元的位置进行调整的步骤,包括:根据所述拥塞区域在所述芯片上的位置,确定各标准单元的坐标;根据各标准单元的坐标,对各标准单元的位置进行调整。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据所述拥塞区域在所述芯片上的位置,确定各标准单元的坐标的步骤,包括:若所述拥塞区域位于所述芯片上靠近第一block的多个引脚的位置,则获取第一block的多个引脚的横坐标,并获取所述第一block靠近所述拥塞区域的边界的纵坐标;将获得的多个横坐标依次作为所述多个标准单元的横坐标;其中,所述多个横坐标与所述多个标准单元一一对应;以所述第一block靠近所述拥塞区域的边界的纵坐标为起点,按照第一预定步长朝远离所述第一block的方向移位,得到所述多个标准单元的纵坐标;其中,按照多个标准单元的横坐标从左至右的顺序,将每次移位后的纵坐标作为一标准单元的纵坐标。4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,在所述按照多个标准单元的横坐标从左至右的顺序,将每次移位后的纵坐标作为一标准单元的纵坐标的步骤之后,所述方法还包括:获取所述芯片上能用于纵向走线的金属层数,以及所述多个引脚中每相邻两个引脚之间的间距;若所述拥塞区域位于所述第一block的下方,则通过公式调整所述标准单元的纵坐标;其中表示第n个标准单元调整后的纵坐标,所述多个标准单元按照横坐标从左至右的顺序排序,表示所述第一block靠近所述拥塞区域的边界的纵坐标,表示所述芯片上能用于纵向走线的金属层数,表示所述多个引脚中每相邻两个引脚之间的间距与金属...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴传禄,徐庆光,杨国庆,刘祥远,刘浩,陈强,徐欢,杨柳江,秦鹏举,
申请(专利权)人:湖南融创微电子有限公司,
类型:发明
国别省市:湖南,43
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