一种镁合金制品高光处理方法技术

本发明专利技术公开了一种镁合金制品高光处理方法，包括以下步骤S1、制备镁合金素材工件；S2、使用数控机床对镁合金素材工件进行切割高光全角边的加工得到高光镁合金；S3、准备单晶硅，再将高光镁合金表面清洗、烘干，并在镀膜机中预热，再对高光氧化镁和单晶硅去氧化处理，然后将去氧化处理后的单晶硅溅射到去氧化处理后的高光镁合金表面，得镀氧化硅镁合金；S4、在镀氧化硅镁合金表面均匀喷涂AF防指纹胶料，再烘干，冷却，清洗即得处理后的镁合金制品。本发明专利技术提出的处理方法，操作简单，有效避免高光镁合金表面氧化腐蚀的现象发生，处理后的镁合金仍保持高光泽的金属质感，且具有耐磨、防水、防油的功效，拓展镁合金在高端领域的运用。

A high light treatment method for magnesium alloy products

The invention discloses a high light treatment method for magnesium alloy products, including the following steps S1 and preparation of magnesium alloy material workpiece; S2, machining high light magnesium alloy by cutting high light full angle edge of magnesium alloy material workpiece using numerical control machine tools; S3, preparation of monocrystalline silicon, and then cleaning and drying the surface of Gao Guang magnesium alloy, and plating on the surface of magnesium alloy. The membrane machine preheated, then the high light Magnesium Oxide and monocrystalline silicon deoxidize, and then the monocrystalline silicon after the oxidation treatment was spattered to the surface of the high light magnesium alloy after the oxidation treatment, and the magnesium alloy was plated. S4, the AF anti fingerprint gel was evenly sprayed on the surface of the silicon magnesium alloy, and then dried, cooled, and cleaned. Magnesium alloy products. The processing method proposed by the invention has simple operation and effectively avoids the phenomenon of oxidation corrosion on the surface of high light magnesium alloy. The treated magnesium alloy still maintains a high gloss metal texture, and has the effect of wearproof, waterproof and oil proof, and expands the application of magnesium alloy in the high end field.

【技术实现步骤摘要】
一种镁合金制品高光处理方法
本专利技术涉及金属加工
，尤其涉及一种镁合金制品高光处理方法。
技术介绍
镁合金因密度小，比强度高，比弹性模量大，散热好，消震性好，承受冲击能力强等优势被广泛应用在航空、航天、运输、化工、电子等部门。但由于镁的化学活性强，在空气中易氧化，在高温条件下可以发生燃烧等原因，给镁合金的应用造成阻碍。而且为了提高镁合金的质感在镁合金表面进行高光处理，会加快镁合金氧化的速度，使镁合金表面极易氧化腐蚀，降低镁合金表面的光泽度，致使镁合金在高端产品上的应用严重受限。基于现有技术存在的不足，本专利技术提出一种镁合金制品高光处理方法。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种镁合金制品高光处理方法。一种镁合金制品高光处理方法，包括以下步骤：S1、素材成型：以镁合金为原料，根据镁合金的性质以及成品的形状、性能对镁合金进行压铸、冲压、锻造、熔模铸造、消失模铸造、数据机床加工板材中的单个或多个组合制备得到镁合金素材工件；S2、切割高光边：使用数控机床对步骤S1中得到的镁合金素材工件进行切割高光全角边的加工，得到高光镁合金；S3、镀氧化硅薄膜：准备单晶硅，备用，再将步骤S2得到的高光镁合金表面进行清洗、烘干，再放入镀膜机中，然后对镀膜机内的高光镁合金进行预热，再对高光氧化镁和单晶硅分别进行去氧化处理，然后以去氧化处理后的单晶硅为靶材对去氧化处理后的高光镁合金表面进行溅射，同时通入氧气，溅射结束即得镀氧化硅镁合金；S4、涂覆指纹层：在镀氧化硅镁合金表面均匀喷涂AF防指纹胶料，再进行烘干，冷却至室温，超声波清洗，即得处理后的镁合金制品。优选的，所述步骤S2中CNC对镁合金素材工件切割全交边时，CNC刀具使用钻石高光刀，切割时转速为8～10万r/min。优选的，所述步骤S3中清洗的具体操作为：先用18MΩ的去离子水对高光镁合金表面进行冲洗1～2次，然后将高光镁合金浸泡在乙醇溶液中，并于超声仪中超声10～20min，取出再用浸泡乙醇的鹿皮巾对高光镁合金表面进行擦洗，再转移至丙酮溶液中密封浸泡3～8min，在通风处中取出，并用18MΩ的去离子水再次冲洗1～2次，即完成清洗操作。优选的，所述步骤S3中预热的温度为103～108℃，预热的时间为25～35min。优选的，所述步骤S3中高光镁合金去氧化处理的具体操作为：先向镀膜机内通入惰性气体10～30min，再使用惰性气体对高光镁合金表面溅射5～10min，然后再恢复到通入惰性气体都的状态，所述步骤S3中单晶硅的去氧化处理的具体操作为：直接使用惰性气体对单晶硅表面溅射15～20min。优选的，所述步骤S3中氧气的通入量为75～77sccm，所述惰性气体的通入量为150～154。优选的，所述步骤S4中AF防指纹胶料由硅烷偶联剂、全氟己基乙基丙烯酸酯和聚四氟乙烯复配而成，所述硅烷偶联剂、全氟己基乙基丙烯酸酯和聚四氟乙烯的质量比为2～4：1～3：1。优选的，所述镁合金素材工件的长度为0.1-2m，宽度为0.1-1m。优选的，所述镁合金素材工件的长度为1m，宽度为0.5m。优选的，所述镁合金素材工件为矩形结构。与现有技术相比，本专利技术技术方案的有益效果为：本专利技术提出的处理方法，操作简单，有效避免高光镁合金表面氧化腐蚀的现象发生，处理后的镁合金仍保持高光泽的金属质感，且具有耐磨、防水、防油的功效，拓展镁合金在高端领域的运用；根据不同的镁合金原料的性质采取不同的成型方式，以提高该方法的适用范围，在高光镁合金表面依次进行溅射氧化硅薄膜和涂覆指纹层的处理，以提高高光镁合金表面的抗氧化能力，保护高光镁合金表面不受氧化腐蚀，保证高光镁合金表面的金属质感，而且在溅射氧化硅薄膜时，先对高光镁合金进行清洗、预热、去氧化处理，可以提高氧化硅薄膜与高光镁合金的附着力，延长制品的使用寿命，而且由硅烷偶联剂、全氟己基乙基丙烯酸酯和聚四氟乙烯复合而成的AF防指纹胶料还能够提高高光镁合金的耐磨、防水、防油的能力，提高高光镁合金的稳定性，进一步延长高光镁合金的使用寿命。具体实施方式下面结合具体实施例对本专利技术作进一步解说。实施例一本专利技术提出的一种镁合金制品高光处理方法，包括以下步骤：S1、素材成型：以镁合金为原料，根据镁合金的性质以及成品的形状、性能对镁合金进行压铸、冲压、锻造、熔模铸造、消失模铸造、数据机床加工板材中的单个或多个组合制备得到镁合金素材工件；S2、切割高光边：使用数控机床对步骤S1中得到的镁合金素材工件进行切割高光全角边的加工，CNC刀具使用钻石高光刀，切割时转速为10万r/min，加工完成得到高光镁合金；S3、镀氧化硅薄膜：准备单晶硅，备用，再将步骤S2得到的高光镁合金表面先用18MΩ的去离子水对高光镁合金表面进行冲洗2次，然后将高光镁合金浸泡在乙醇溶液中，并于超声仪中超声18min，取出再用浸泡乙醇的鹿皮巾对高光镁合金表面进行擦洗，再转移至丙酮溶液中密封浸泡5min，在通风处中取出，并用18MΩ的去离子水再次冲洗2次，再烘干后放入镀膜机中，然后对镀膜机内的高光镁合金进行预热，预热的温度为105℃，预热的时间为35min，再对高光氧化镁和单晶硅分别进行去氧化处理，然后以去氧化处理后的单晶硅为靶材对去氧化处理后的高光镁合金表面进行溅射，同时以77sccm通入氧气，溅射结束即得镀氧化硅镁合金；S4、涂覆指纹层：在镀氧化硅镁合金表面均匀喷涂由硅烷偶联剂、全氟己基乙基丙烯酸酯和聚四氟乙烯复配而成的AF防指纹胶料，所述硅烷偶联剂、全氟己基乙基丙烯酸酯和聚四氟乙烯的质量比为3：3：1，再进行烘干，冷却至室温，超声波清洗，即得处理后的镁合金制品。所述镁合金素材工件的长度为0.1-2m，宽度为0.1-1m。所述镁合金素材工件为矩形结构。实施例二本专利技术提出的一种镁合金制品高光处理方法，包括以下步骤：S1、素材成型：以镁合金为原料，根据镁合金的性质以及成品的形状、性能对镁合金进行压铸、冲压、锻造、熔模铸造、消失模铸造、数据机床加工板材中的单个或多个组合制备得到镁合金素材工件；S2、切割高光边：使用数控机床对步骤S1中得到的镁合金素材工件进行切割高光全角边的加工，CNC刀具使用钻石高光刀，切割时转速为9万r/min，加工完成得到高光镁合金；S3、镀氧化硅薄膜：准备单晶硅，备用，再将步骤S2得到的高光镁合金表面先用18MΩ的去离子水对高光镁合金表面进行冲洗2次，然后将高光镁合金浸泡在乙醇溶液中，并于超声仪中超声15min，取出再用浸泡乙醇的鹿皮巾对高光镁合金表面进行擦洗，再转移至丙酮溶液中密封浸泡5min，在通风处中取出，并用18MΩ的去离子水再次冲洗1次，再烘干后放入镀膜机中，然后对镀膜机内的高光镁合金进行预热，预热的温度为105℃，预热的时间为30min，再对高光氧化镁和单晶硅分别进行去氧化处理，然后以去氧化处理后的单晶硅为靶材对去氧化处理后的高光镁合金表面进行溅射，同时以76sccm通入氧气，溅射结束即得镀氧化硅镁合金；S4、涂覆指纹层：在镀氧化硅镁合金表面均匀喷涂由硅烷偶联剂、全氟己基乙基丙烯酸酯和聚四氟乙烯复配而成的AF防指纹胶料，所述硅烷偶联剂、全氟己基乙基丙烯酸酯和聚四氟乙烯的质量比为3：2：1，再进行烘干，冷却至室温，超声波清洗，即得处理后的镁合金制品。所述镁本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镁合金制品高光处理方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、素材成型：以镁合金为原料，根据镁合金的性质以及成品的形状、性能对镁合金进行压铸、冲压、锻造、熔模铸造、消失模铸造、数据机床加工板材中的单个或多个组合制备得到镁合金素材工件；S2、切割高光边：使用数控机床对步骤S1中得到的镁合金素材工件进行切割高光全角边的加工，得到高光镁合金；S3、镀氧化硅薄膜：准备单晶硅，备用，再将步骤S2得到的高光镁合金表面进行清洗、烘干，再放入镀膜机中，然后对镀膜机内的高光镁合金进行预热，再对高光氧化镁和单晶硅分别进行去氧化处理，然后以去氧化处理后的单晶硅为靶材对去氧化处理后的高光镁合金表面进行溅射，同时通入氧气，溅射结束即得镀氧化硅镁合金；S4、涂覆指纹层：在镀氧化硅镁合金表面均匀喷涂AF防指纹胶料，再进行烘干，冷却至室温，超声波清洗，即得处理后的镁合金制品。

【技术特征摘要】
1.一种镁合金制品高光处理方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、素材成型：以镁合金为原料，根据镁合金的性质以及成品的形状、性能对镁合金进行压铸、冲压、锻造、熔模铸造、消失模铸造、数据机床加工板材中的单个或多个组合制备得到镁合金素材工件；S2、切割高光边：使用数控机床对步骤S1中得到的镁合金素材工件进行切割高光全角边的加工，得到高光镁合金；S3、镀氧化硅薄膜：准备单晶硅，备用，再将步骤S2得到的高光镁合金表面进行清洗、烘干，再放入镀膜机中，然后对镀膜机内的高光镁合金进行预热，再对高光氧化镁和单晶硅分别进行去氧化处理，然后以去氧化处理后的单晶硅为靶材对去氧化处理后的高光镁合金表面进行溅射，同时通入氧气，溅射结束即得镀氧化硅镁合金；S4、涂覆指纹层：在镀氧化硅镁合金表面均匀喷涂AF防指纹胶料，再进行烘干，冷却至室温，超声波清洗，即得处理后的镁合金制品。2.根据权利要求1所述的一种镁合金制品高光处理方法，其特征在于，所述步骤S2中CNC对镁合金素材工件切割全交边时，CNC刀具使用钻石高光刀，切割时转速为8～10万r/min。3.根据权利要求1所述的一种镁合金制品高光处理方法，其特征在于，所述步骤S3中清洗的具体操作为：先用18MΩ的去离子水对高光镁合金表面进行冲洗1～2次，然后将高光镁合金浸泡在乙醇溶液中，并于超声仪中超声10～20min，取出再用浸泡乙醇的鹿皮巾对高光镁合金表面进行擦洗，再转移至丙酮溶液中密封浸泡3～8min，在通风...

【专利技术属性】
技术研发人员：洪东葵，罗学贤，
申请(专利权)人：东莞市锐准精密金属有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44