抗蚀剂剥离液组合物制造技术

本发明专利技术涉及一种抗蚀剂剥离液组合物，其包含氨基磺酸盐化合物，从而彩色抗蚀剂剥离效果优异，即使长时间保存时，剥离效果也不会降低。

Anticorrosive compound

The invention relates to an anticorrosive stripping liquid composition, which includes a sulfonate compound, and thus the effect of stripping is excellent, and the peeling effect will not be reduced even for a long time.

【技术实现步骤摘要】
抗蚀剂剥离液组合物
本专利技术涉及一种抗蚀剂剥离液组合物。
技术介绍
滤色器(colorfilter)可通过安装于互补金属氧化物半导体(complementarymetaloxidesemiconductor，CMOS)或电荷耦合元件(chargecoupleddevice，CCD)等图像传感器的彩色摄影装置内来用于实际获得彩色图像，除此之外，广泛用于摄影元件、等离子体显示器面板(PDP)、液晶显示装置(LCD)、场发射显示器(FED)和发光显示器(LED)等中，其应用范围正在迅速扩大。特别是，近年来，LCD被普及，因此认为在再现LCD的色彩方面滤色器是最重要的部件之一。滤色器基板由红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)图案和起到用于阻断各像素之间的漏光并提高对比的作用的黑矩阵、以及对液晶盒施加电压的共用电极构成。这样的滤色器是通过将根据用途选择的黑矩阵材料涂布于玻璃基板上、形成黑色掩模图案后、利用光刻工序形成RGB光致抗蚀剂图案而制造。在利用如上所述的方法制造滤色器的情况下，制造工序中会不可避免地发生不良滤色器，这样的不良滤色器基板的彩色抗蚀剂一旦固化，仅通过将错误的部分去除而进行修理是几乎不可能的，因此为了再利用基板，要求对于能够完全去除固化在基板上的彩色抗蚀剂、且保存性优异的抗蚀剂剥离液组合物的研究。在这方面，韩国注册专利第1328097号中记载了一种TFT-LCD用彩色抗蚀剂剥离液组合物，其通过以特定含量包含氢氧化物化合物、具有极性的硫化合物、亚烷基二醇醚、亚烷基二醇二烷基醚、水溶性胺化合物和水，从而能够去除彩色抗蚀剂。此外，韩国注册专利第1333779号中记载了一种TFT-LCD用彩色抗蚀剂剥离液组合物，其通过包含氢氧化物化合物、亚烷基二醇醚或亚烷基二醇、羟胺、烷氧基烷基胺和水，从而能够去除彩色抗蚀剂。然而，上述彩色抗蚀剂剥离液组合物存在如下问题：固化的彩色抗蚀剂去除效果不充分，并且完全没有认识到抗蚀剂剥离液组合物的保存性。现有技术文献专利文献韩国注册专利第1328097号(2013.11.05)韩国注册专利第1333779号(2013.11.21)
技术实现思路
所要解决的课题本专利技术的目的在于，提供一种抗蚀剂剥离液组合物，其对于附着在基板上的彩色抗蚀剂的剥离效果优异，即使长时间保存时，剥离效果也不会降低。解决课题的方法用于达成上述目的的本专利技术的抗蚀剂剥离液组合物的特征在于，包含氨基磺酸盐化合物。专利技术效果本专利技术的抗蚀剂剥离液组合物通过包含氨基磺酸盐化合物，从而具有如下优点：抗蚀剂剥离效果优异，即使长时间保存时，剥离效果也不会降低。具体实施方式本专利技术中，当指出某一构件位于另一构件“上”时，其不仅包括某一构件与另一构件接触的情况，还包括两构件之间存在其他构件的情况。本专利技术中，当指出某一部分“包含”某一构成要素时，意味着只要没有特别相反的记载，则可以进一步包含其他构成要素，而不是将其他构成要素排除。以下，详细说明本专利技术的优选实施方式。根据本专利技术的一个方式的抗蚀剂剥离液组合物通过包含氨基磺酸盐化合物，从而具有如下优点：提高抗蚀剂剥离液组合物的剥离效果，即使长时间保存上述抗蚀剂剥离液组合物的情况下，上述剥离效果也不会降低。具体而言，为了彩色抗蚀剂的剥离，上述氨基磺酸盐化合物不仅起到渗透于高分子链而将链解开的作用，而且具有渗透于下部膜质与有机高分子的界面而使彩色抗蚀剂剥离更加容易的优点，并且具有即使长时间保存包含该氨基磺酸盐化合物的抗蚀剂剥离液组合物的情况下，剥离效果也不会降低的优点。上述氨基磺酸盐化合物的种类没有特别限制，具体可以举出氨基磺酸铵、氨基磺酸钾、氨基磺酸钠、氨基磺酸胍、氨基磺酸的胺盐等，它们可以各自单独或将两种以上混合使用。根据本专利技术的一实施方式，相对于包含上述氨基磺酸盐化合物的抗蚀剂剥离液组合物整体100重量％，上述氨基磺酸盐化合物的含量可以为0.1～10重量％，优选为0.1～5重量％。在上述氨基磺酸盐化合物的含量低于上述范围的情况下，抗蚀剂剥离时间增加，可能发生抗蚀剂剥离液组合物的抗蚀剂剥离效果随着时间经过而降低的问题，在超过上述范围的情况下，可能产生析出，并且可能发生相对于抗蚀剂剥离液组合物含量增加，抗蚀剂剥离效果的提高甚微而不经济的问题。根据本专利技术的一实施方式的抗蚀剂剥离液组合物可以进一步包含选自由氢氧化物化合物、极性溶剂、下述化学式1的烷氧基烷基胺化合物、亚烷基二醇烷基醚化合物、水和添加剂组成的组中的一种以上。根据本专利技术的一实施方式的抗蚀剂剥离液组合物可以进一步包含氢氧化物化合物。上述氢氧化物化合物能够渗透于高分子基体而破坏存在于分子内或分子间的结合。通过这样的作用，在残留于基板的抗蚀剂内结构脆弱的部分形成空间，使抗蚀剂改变为无定形的高分子凝胶(gel)块状态，从而能够使位于基板的一面上的抗蚀剂的去除变得更加容易。上述氢氧化物化合物具体可以举出有机氢氧化物化合物、无机氢氧化物化合物，根据本专利技术的一实施方式的抗蚀剂剥离液组合物可以同时包含上述有机氢氧化物化合物和无机氢氧化物化合物。在上述抗蚀剂剥离液组合物同时包含上述有机氢氧化物化合物和无机氢氧化物化合物的情况下，具有能够提高对于有机系绝缘膜的剥离力的优点。根据本专利技术的一实施方式的抗蚀剂剥离液组合物可以包含碳原子数1～4的烷基氢氧化铵作为上述有机氢氧化物化合物，该情况下，具有进一步提高彩色抗蚀剂剥离效果的优点。上述碳原子数1～4烷基氢氧化铵化合物具体可以举出四甲基氢氧化铵(Tetramethylammoniumhydroxide)、四乙基氢氧化铵(Tetraethylammoniumhydroxide)、四丙基氢氧化铵(Tetrapropylammoniumhydroxide)。上述无机氢氧化物化合物具体可以举出无机碱金属氢氧化物、氢氧化铵等，它们可以各自单独或将两种以上一同使用。此时，能够使用对残留金属存在影响的无机系碱金属氢氧化物的理由是，因为在滤色器工序中残留金属的存在不会造成大影响。上述无机碱金属氢氧化物更具体可以举出氢氧化锂(Lithiumhydroxide)、氢氧化钠(Sodiumhydroxide)、氢氧化钾(Potassiumhydroxide)等，但并不限于此。在包含无机碱金属氢氧化物作为上述无机氢氧化物化合物的情况下，其含量优选为0.01～10重量％，更优选为0.01～5重量％。在上述无机碱金属氢氧化物的含量低于上述范围的情况下，抗蚀剂剥离效果可能降低，在超过上述范围的情况下，构成下部阵列基板的金属膜质可能被腐蚀，在抗蚀剂剥离液组合物内可能产生析出现象。关于本专利技术的抗蚀剂剥离液组合物中所含的全部氢氧化物化合物的含量，相对于包含其的抗蚀剂剥离液组合物整体100重量％，可以为1～20重量％，具体可以为1～10重量％。在上述氢氧化物化合物的含量低于上述范围的情况下，对于构成抗蚀剂的高分子成分的渗透能力可能降低而抗蚀剂剥离效果下降，在超过上述范围的情况下，所包含的其他成分的含量相对减少，可能产生抗蚀剂剥离时间变长的问题。根据本专利技术的一实施方式的抗蚀剂剥离液组合物可以进一步包含极性溶剂。上述极性溶剂可以发挥使凝胶化的抗蚀剂高分子溶解的作用。上述极性溶剂具体可以举出N-甲基吡咯烷酮(NMP)、N-乙基吡咯烷酮等吡咯烷酮化合本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，包含氨基磺酸盐化合物。

【技术特征摘要】
2017.01.03 KR 10-2017-00008351.一种抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，包含氨基磺酸盐化合物。2.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，相对于包含所述氨基磺酸盐化合物的抗蚀剂剥离液组合物整体100重量％，所述氨基磺酸盐化合物的含量为0.1～10重量％。3.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，所述抗蚀剂剥离液组合物进一步包含选自由氢氧化物化合物、极性溶剂、下述化学式1的烷氧基烷基胺化合物、亚烷基二醇烷基醚化合物、水和添加剂组成...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔庆默，金佑逸，洪宪杓，
申请(专利权)人：东友精细化工有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR