一种阀杆低泄露填料密封结构制造技术

技术编号:18397355 阅读:34 留言:0更新日期:2018-07-08 18:49
本实用新型专利技术涉及一种阀杆低泄露填料密封结构,包括杆体、套装在所述杆体上的盘根、设置在所述盘根上的填充密封件、设置在所述填充密封件前段的填料压套和设置在所述填料压套前端的压盖;所述填充密封件为多层密封结构,其包括:第一密封单元,所述第一密封单元套设在所述杆体上且位于所述盘根的一侧,其为柔性设置;第二密封单元,所述第二密封单元套设在所述杆体上且位于所述第一密封单元的下方,其为柔性设置;以及隔环,所述隔环设置在所述第一密封单元与所述第二密封单元之间,其为硬性设置;本实用新型专利技术解决了其密封性无法满足ISO 15848及TA‑LAFT标准要求的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
一种阀杆低泄露填料密封结构
本技术涉及阀杆
,尤其涉及一种阀杆低泄露填料密封结构。
技术介绍
全球工业化的发展对环境的影响日益显现,而工业温室气体和污染物的排放是环境污染和温室气体排放的主要来源。阀门作为介质输送的重要控制元件,其泄漏作为泄漏源头之一,经阀门发生的逸散性泄漏占总泄漏量的51%以上,国内外已实施了控制挥发性气体排放的相关标准或规范,如美国环境保护属的《METHOD21》、ISO15848、德国TA-LUFT、GB/T24681等,均对阀门的逸散性泄漏要求做了明确的标准。我国近年来对阀门逸散性泄漏要求越来越重视,对石化行业,特别是对易燃易爆、有毒等特殊介质的管道,对阀门逸散性泄漏已是强制性要求,但国内极少有阀门厂家能够达到ISO15848或TA-LUFT标准的要求,随着石化工业的发展和对使用产品需求结构的变化,阀门逸散性低泄漏结构的的研发势在必行。专利号为CN205173689U的专利文献公开了一种低泄漏球阀,包括:阀体、端盖、阀杆、球体、阀座和压盖,由于采用了新的阀杆三重密封结构;阀杆下部密封、阀杆中下部密封、阀杆中上部密封以及阀体与端盖处的端盖密封结构,从而具有以下优点:针对现有球阀中存在的易发生的外漏的问题,加强了阀杆处的密封和阀体与端盖处的密封,防止介质从阀杆处及阀体与端盖处发生泄漏,特别是在温度和压力变化时,避免了球阀发生外漏的危险,保证了球阀的安全性和可靠性,延长了球阀的使用寿命。但是,在实际使用过程中,专利技术人发现其密封性无法满足ISO15848及TA-LAFT标准要求的问题。
技术实现思路
本技术的目的是针对现有技术的不足之处,通过通过设置填充密封件采用泄漏模压成型组合式增强柔性石墨密封环,上下两端采用高碳纤维盘根环,次端密封环a采用30°高密封石墨自密封环,中间密封环b采用45°高密度菱形石墨环,从而解决了其密封性无法满足ISO15848及TA-LAFT标准要求的技术问题,进而实现了使填料在预紧的同时具有很好的自补偿力、提高阀杆的密封性的效果。针对以上技术问题,采用技术方案如下:一种阀杆低泄露填料密封结构,包括杆体、套装在所述杆体上的盘根、设置在所述盘根上的填充密封件、设置在所述填充密封件前段的填料压套和设置在所述填料压套前端的压盖;所述填充密封件为多层密封结构,其包括:第一密封单元,所述第一密封单元套设在所述杆体上且位于所述盘根的一侧,其为柔性设置;第二密封单元,所述第二密封单元套设在所述杆体上且位于所述第一密封单元的下方,其为柔性设置;以及隔环,所述隔环设置在所述第一密封单元与所述第二密封单元之间,其为硬性设置。作为一种优选,所述第一密封单元包括:密封环a,所述密封环a设置在所述盘根一侧且其一端朝外方向呈斜角a,所述斜角a角度为α;以及密封环b,所述密封环b设置在所述密封环b下侧,其靠近密封环a一侧呈斜角b,所述斜角b角度为β且并排设置两组;作为一种优选,所述第二密封单元包括:密封环c,所述密封环c匹配设置在所述隔环下侧,其一端朝外方向呈斜角c,所述斜角c角度为γ且并排设置两组;以及密封环d,所述密封环d设置在所述密封环c下侧且其靠近密封环c朝内一侧呈斜角d,所述斜角d角度为ε。作为一种优选,所述斜角a的角度α和斜角d的角度ε均为60°,所述斜角b的角度β和斜角c角度γ均为45°。作为一种优选,所述阀杆填料的有效密封长度为L1,阀杆直径为L2,所述L1≥1.25L2。作为一种优选,所述所述盘根设置两组且分别设置在密封环a和密封环d的外侧。作为一种优选,所述压盖通过螺栓固定安装在阀体上。作为一种优选,所述压盖采用分体式万向节结构且其螺栓处设有补偿碟簧。作为一种优选,所述压盖和填料压套接触面采用万向节结构。作为一种优选,所述填充密封件设置在所述杆体的前端两侧且在所述杆体的后端两侧设置若干盘根。作为又一种优选,所述所述隔环与上下设置的密封环b配合设置,其倾斜角度相同。本技术的有益效果:(1)本技术中通过设置填充密封件采用泄漏模压成型组合式增强柔性石墨密封环,上下两端采用高碳纤维盘根环,次端密封环a、密封环d采用30°高密封石墨自密封环,中间密封环b、密封环c采用45°高密度菱形石墨环,使填料在预紧的同时具有很好的自补偿力;填料可滤去氯化物小于100ppm,采用双层密封结构,两组填料中间设置隔环,提高阀杆的密封性;(2)本技术中通过设置填充密封件的有效密封长度不低于杆体直径的1.25倍,填料预紧时,采用专用工装对每一圈填料进行预紧,确保每圈填料密封的有效性;(3)本技术中为了避免填充密封件受力不均匀,隔环上部分受长期抱紧力,导致磨损甚至报废,通过设置隔环为高密度菱形石墨环,即刚性材料,进而使得填充密封件受力均匀,提高部件使用寿命,从而实现双层密封;(4)本技术中通过设置压盖采用分体式结构且其螺栓处设有补偿碟簧,其目的在当填料发生微量磨损时,补偿碟簧能够自行补偿再预紧,提高使用寿命;(5)本技术中通过设置压盖采用分体式,压盖和填料压套接触面采用万向节结构,防止预紧填料时由于受力不均造成压盖和填料压套咬伤杆体;(6)本技术中通过设置阀杆精加工完成后,采用数控磨床精密研磨,使表面光洁度至少达到Ra0.4,填料函内孔采用滚压工艺,内表面光洁度至少达到Ra0.4,最大限度的提高填料密封的可靠性;(7)本技术中通过设置阀体和其阀体部件间的密封采用榫槽面的连接方式,保证密封有效性的同时最大限度的减少密封垫片受介质的影响。综上所述,该设备具有低泄漏,密封性好的优点,尤其适用于阀杆
附图说明为了更清楚的说明本技术实施例的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域的普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他附图。图1为实施例一的剖视示意图。图2为填充密封件的结构示意图。图3为低泄露阀杆填料密封结构B处的放大示意图。图4为低泄露阀杆填料密封结构A处的放大示意图。图5为杆体与填充密封件的部分剖视示意图。图6为密封环a的结构示意图。图7为密封环b的结构示意图。图8为密封环c的结构示意图。图9为密封环d的结构示意图。具体实施方式下面结合附图对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地说明。实施例一如图1、图2、图6、图7、图8、图9所示,一种阀杆低泄露填料密封结构,包括杆体1、套装在所述杆体1上的盘根31、设置在所述盘根31上的填充密封件3、设置在所述填充密封件3前段的填料压套4和设置在所述填料压套4前端的压盖5;所述填充密封件3采用双层密封结构,其包括:第一密封单元50,所述第一密封单元50套设在所述杆体1上且位于所述盘根31的一侧,其为柔性设置;第二密封单元60,所述第二密封单元60套设在所述杆体1上且位于所述第一密封单元50的下方,其为柔性设置;以及隔环34,所述隔环34设置在所述第一密封单元50与所述第二密封单元60之间,其为硬性设置。进一步,如图2所示,所述第一密封单元50包括:密封环a32,所述密封环a32设置在所述盘根31一侧且其一端朝外方向呈斜角a10,所述斜角a10角度为α;以及密封环b33,所述密封环本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种阀杆低泄露填料密封结构,包括杆体(1)、套装在所述杆体(1)上的盘根(31)、设置在所述盘根(31)上的填充密封件(3)、设置在所述填充密封件(3)前段的填料压套(4)和设置在所述填料压套(4)前端的压盖(5);其特征在于,所述填充密封件(3)为多层密封结构,其包括:第一密封单元(50),所述第一密封单元(50)套设在所述杆体(1)上且位于所述盘根(31)的一侧,其为柔性设置;第二密封单元(60),所述第二密封单元(60)套设在所述杆体(1)上且位于所述第一密封单元(50)的下方,其为柔性设置;以及隔环(34),所述隔环(34)设置在所述第一密封单元(50)与所述第二密封单元(60)之间,其为硬性设置。

【技术特征摘要】
1.一种阀杆低泄露填料密封结构,包括杆体(1)、套装在所述杆体(1)上的盘根(31)、设置在所述盘根(31)上的填充密封件(3)、设置在所述填充密封件(3)前段的填料压套(4)和设置在所述填料压套(4)前端的压盖(5);其特征在于,所述填充密封件(3)为多层密封结构,其包括:第一密封单元(50),所述第一密封单元(50)套设在所述杆体(1)上且位于所述盘根(31)的一侧,其为柔性设置;第二密封单元(60),所述第二密封单元(60)套设在所述杆体(1)上且位于所述第一密封单元(50)的下方,其为柔性设置;以及隔环(34),所述隔环(34)设置在所述第一密封单元(50)与所述第二密封单元(60)之间,其为硬性设置。2.根据权利要求1所述的一种阀杆低泄露填料密封结构,其特征在于,所述第一密封单元(50)包括:密封环a(32),所述密封环a(32)设置在所述盘根(31)一侧且其一端朝外方向呈斜角a(10),所述斜角a(10)角度为α;以及密封环b(33),所述密封环b(33)设置在所述密封环b(33)下侧,其靠近密封环a(32)一侧呈斜角b(20),所述斜角b(20)角度为β且并排设置两组。3.根据权利要求2所述的一种阀杆低泄露填料密封结构,其特征在于,所述第二密封单元(60)包括:密封环c(35),所述密封环c(35)匹配设置在所述隔环(34)下侧,其一端朝外方向呈斜角c(30),所述斜角...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨月富白勇张晖洪卫罗来杰
申请(专利权)人:浙江中德自控科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:浙江,33

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