一种单层双面互电容式触控功能片及其制备方法技术

技术编号:18367107 阅读:51 留言:0更新日期:2018-07-05 08:01
本发明专利技术公开了一种单层双面互电容式触控功能片,包括:基底膜,所述基底膜包括第一表面和第二表面;设置于第一表面的第一导电层,所述第一导电层由图案化的第一导电膜及设在所述第一导电膜边缘的第一导线构成,所述第一导线用于连接第一导电膜与电容感应芯片;设置于第一导电层表面的第一光学胶层;设置于第二表面的第二导电层,所述第二导电层由图案化的第二导电膜及设在所述第二导电膜缘的第二导线构成,所述第二导线用于连接第二导电膜与电容感应芯片;设置于第二导电层表面的第二光学胶层。

Single layer double-sided mutual capacitance touch function film and preparation method thereof

The present invention discloses a single layer, double-sided, mutual capacitive touch function piece, including: the basement membrane, which includes the first surface and the second surface; the first conductive layer is arranged on the first surface, the first conductive layer is composed of the first conductive film of the patterned and the first wire at the edge of the first conductive film. The first wire is used to connect the first conductive film and the capacitance induction chip; the first optical layer set on the surface of the first conductive layer; the second conductive layer on the second surface, the second conductive layer composed of the patterned second conductive film and the second guide line at the second conductive membrane edge, and the second wires are used for connection. Second conductive film and capacitance induction chip; second optical coating on the surface of second conductive layer.

【技术实现步骤摘要】
一种单层双面互电容式触控功能片及其制备方法
本专利技术涉及一种互电容触摸屏功能片及其制备方法,用于手机触摸屏等,属于触摸屏研究领域。
技术介绍
投射电容屏可分为自电容屏和互电容屏两种类型。在玻璃表面用ITO(一种透明的导电材料)制作成横向与纵向电极阵列,这些横向和纵向的电极分别与地构成电容,这个电容就是通常所说的自电容,也就是电极对地的电容。当手指触摸到电容屏时,手指的电容将会叠加到屏体电容上,使屏体电容量增加。在触摸检测时,自电容屏依次分别检测横向与纵向电极阵列,根据触摸前后电容的变化,分别确定横向坐标和纵向坐标,然后组合成平面的触摸坐标。自电容的扫描方式,相当于把触摸屏上的触摸点分别投影到X轴和Y轴方向,然后分别在X轴和Y轴方向计算出坐标,最后组合成触摸点的坐标。如果是单点触摸,则在X轴和Y轴方向的投影都是唯一的,组合出的坐标也是唯一的;如果在触摸屏上有两点触摸并且这两点不在同一X方向或者同一Y方向,则在X和Y方向分别有两个投影,则组合出4个坐标。显然,只有两个坐标是真实的,另外两个就是俗称的”鬼点”。因此,自电容屏无法实现真正的多点触摸。互电容屏也是在玻璃表面用ITO制作横向电极与纵向电极,它与自电容屏的区别在于,两组电极交叉的地方将会形成电容,也即这两组电极分别构成了电容的两极。当手指触摸到电容屏时,影响了触摸点附近两个电极之间的耦合,从而改变了这两个电极之间的电容量。检测互电容大小时,横向的电极依次发出激励信号,纵向的所有电极同时接收信号,这样可以得到所有横向和纵向电极交汇点的电容值大小,即整个触摸屏的二维平面的电容大小。根据触摸屏二维电容变化量数据,可以计算出每一个触摸点的坐标。因此,屏上即使有多个触摸点,也能计算出每个触摸点的真实坐标。因而现今高端手机为实现更好的触摸体验效果,主要使用互电容式触摸屏。全贴合概念的提出主要是由于早期的电容屏触摸屏与显示面板的贴合主要为框贴结构,即触摸屏与显示面板之间实际仍存在0.5mm左右的空气间隔,由于电容式触摸的原理所限,此部分空气层(相当于绝缘不导电层),会影响触摸效果,同时由于空气折射的效果,透过触摸屏观看显示面板上的图像显示,会产生反光问题,尤其是在太阳光照射的情况下,很难看清显示面板图案,因而目前市场主流高端旗舰手机均会采用全贴合方式消除掉空气间隔层,通过光学胶将电容触摸屏与显示面板进行粘连,呈现更好的触摸显示效果。互电容触摸屏功能片主要有三种主流制作方案:一、单层双面ITO结构PET,正反两面ITO都需加工;由于ITO的不耐弯折性,以及PET膜材很薄,且正反面ITO需要经过两次单独的加工,工序繁杂,因而ITO折伤不良很高,尤其是在加工一面ITO时,需要二次复杂的图案化加工,另一面(即背面ITO)容易断裂,良品率低;同时由于有两层ITO,成品使用过程中很容易由于弯折导致功能不良二、单层单面ITO结构PET加金属搭桥;由于金属搭桥工艺精度要求高,在PET上制作困难且不耐弯折,同时金属搭桥结构边缘划线体验效果差,而且做成成品时可看到里面的金属亮点三、使用双层单面ITO结构PET,PET与PET之间需用OCA粘连;由于使用双层PET,整体厚度偏厚,以目前最薄的50微米厚度的单面ITO结构PET为例,使用双层PET,中间贴合一层50微米OCA,整体厚度达到150微米,是前两种方案厚度的3倍。传统电容式触控传感器因为采用的是传统材料ITO,无法实现较好的柔性,同样,由于ITO的固有性质,制作透明导电电极时很难做到超薄。但是随着柔性电子和可穿戴行业的蓬勃发展,超薄超柔的电容式触控传感器的需求越来越大,现有方案一般是基于ITO,通过非常复杂的工艺,可以制备出有轻度柔性的超薄电容式触控传感器,但是其成本十分昂贵,良率也较低,无法满足市场的需求。
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对现有技术的不足,提供了一种超薄、柔性、耐弯折特性强的单层双面互电容式触控功能片,进一步地,可适配全贴合显示面板的需求;本专利技术的另一目的是提供上述单层双面互电容式触控功能片的制备方法,该方法制作工艺简单,成本低。本专利技术的目的通过以下技术方案来具体实现:一种单层双面互电容式触控功能片,包括:基底膜,所述基底膜包括第一表面和第二表面;设置于第一表面的第一导电层,所述第一导电层由图案化的第一导电膜及设在所述第一导电膜边缘的第一导线构成,所述第一导线用于连接第一导电膜与电容感应芯片;设置于第一导电层表面的第一光学胶层;设置于第二表面的第二导电层,所述第二导电层由图案化的第二导电膜及设在所述第二导电膜缘的第二导线构成,所述第二导线用于连接第二导电膜与电容感应芯片;设置于第二导电层表面的第二光学胶层。优选地,所述第一导电膜采用由CVD法制备的单层石墨烯薄膜或多层石墨烯叠合膜。一般采用不超过5层,单层石墨烯薄膜最佳。单层石墨烯薄膜足以满足作为互电容触控传感器功能片导电层的灵敏度,且使用单层石墨烯薄膜只需转移一层石墨烯薄膜,减少了转移次数,降低成本,同时,单层石墨烯薄膜的柔性很强,与基底膜的黏附性强。优选地,所述第二导电膜采用ITO薄膜。优选地,所述第一导线和所述第二导线均采用金属线,如银浆、铜线、钼铝钼线等,由金属薄层图案化而成。优选地,所述第一导线与第一导电膜连接的一端搭接于第一导电膜的边缘,位于第一导电膜与基底膜之间,或者位于第一导电膜与第一光学胶层之间。优选地,所述第二导线与第二导电膜连接的一端搭接于第二导电膜的边缘,位于第二导电膜与第二光学胶层之间。优选地,所述基底膜为PET膜材。优选地,所述基底膜的厚度为1-1000μm,例如:1μm、100μm、200μm、300μm、400μm、500μm、600μm、700μm、800μm、900μm、1000μm,等;进一步优选厚度为25-150μm,例如:25μm、30μm、40μm、50μm、60μm、70μm、80μm、90μm、100μm、110μm、120μm、130μm、140μm、150μm,等。优选地,所述第一光学胶层和所述第二光学胶层为无色透明的光学胶,优选OCA光学胶。优选地,所述第一光学胶层和所述第二光学胶层的厚度均为1-1000μm,例如:1μm、100μm、200μm、300μm、400μm、500μm、600μm、700μm、800μm、900μm、1000μm,等;进一步优选为10-150μm,例如:10μm、20μm、30μm、40μm、50μm、60μm、70μm、80μm、90μm、100μm、110μm、120μm、130μm、140μm、150μm,等。一种单层双面互电容式触控功能片的制备方法,利用基底膜,所述基底膜包括第一表面和第二表面,具体步骤包括:1)第二导电层的制作S1:在基底膜的第二表面上涂布一层ITO导电层;S2:在ITO表面制作一层金属薄层,将ITO层和金属薄层图案化,形成ITO感应图案和相应的导线,作为第二导电层;S3:在第二导电层表面制作一层保护胶;2)第一导电层的制作所述包括四种制作工艺路线:路线一:先在基底膜的第一表面转移一层或连续转移多层的石墨烯薄膜作为第一导电膜,再在石墨烯薄膜上设置一层金属薄层,依次对所述金属薄层和所述第一导电膜进行图案化处理,形成石墨烯感应图案和导线,第一导电本文档来自技高网
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一种单层双面互电容式触控功能片及其制备方法

【技术保护点】
1.一种单层双面互电容式触控功能片,其特征在于:包括:基底膜,所述基底膜包括第一表面和第二表面;设置于第一表面的第一导电层,所述第一导电层由图案化的第一导电膜及设在所述第一导电膜边缘的第一导线构成,所述第一导线用于连接第一导电膜与电容感应芯片;设置于第一导电层表面的第一光学胶层;设置于第二表面的第二导电层,所述第二导电层由图案化的第二导电膜及设在所述第二导电膜缘的第二导线构成,所述第二导线用于连接第二导电膜与电容感应芯片;设置于第二导电层表面的第二光学胶层。

【技术特征摘要】
1.一种单层双面互电容式触控功能片,其特征在于:包括:基底膜,所述基底膜包括第一表面和第二表面;设置于第一表面的第一导电层,所述第一导电层由图案化的第一导电膜及设在所述第一导电膜边缘的第一导线构成,所述第一导线用于连接第一导电膜与电容感应芯片;设置于第一导电层表面的第一光学胶层;设置于第二表面的第二导电层,所述第二导电层由图案化的第二导电膜及设在所述第二导电膜缘的第二导线构成,所述第二导线用于连接第二导电膜与电容感应芯片;设置于第二导电层表面的第二光学胶层。2.根据权利要求1所述的单层双面互电容式触控功能片,其特征在于:所述第一导电膜采用由CVD法制备的单层石墨烯薄膜或多层石墨烯叠合膜,优选单层石墨烯薄膜。3.根据权利要求1所述的单层双面互电容式触控功能片,其特征在于:所述第二导电膜采用ITO薄膜。4.根据权利要求1所述的单层双面互电容式触控功能片,其特征在于:所述第一导线和所述第二导线均采用金属线,如银浆、铜线、钼铝钼线等,由金属薄层图案化而成;优选地,所述第一导线与第一导电膜连接的一端搭接于第一导电膜的边缘,位于第一导电膜与基底膜之间,或者位于第一导电膜与第一光学胶层之间;优选地,所述第二导线与第二导电膜连接的一端搭接于第二导电膜的边缘,位于第二导电膜与第二光学胶层之间。5.根据权利要求1所述的单层双面互电容式触控功能片,其特征在于:所述基底膜为PET膜材,优选厚度为1-1000μm,进一步优选厚度为25-150μm。6.根据权利要求1所述的单层双面互电容式触控功能片,其特征在于:所述第一光学胶层和所述第二光学胶层为无色透明的光学胶,优选OCA光学胶。7.根据权利要求1所述的单层双面互电容式触控功能片,其特征在于:所述第一光学胶层和所述第二光学胶层的厚度均为1-1000μm,优选为10-150μm。8.一种单层双面互电容式触控功能片的制备方法,其特征在于:利用基底膜,所述基底膜包括第一表面...

【专利技术属性】
技术研发人员:袁凯刘海滨谭化兵
申请(专利权)人:无锡格菲电子薄膜科技有限公司
类型:发明
国别省市:江苏,32

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