光阻预烘烤冷却系统技术方案

本发明专利技术提供一种光阻预烘烤冷却系统，通过在预烘烤装置的加热腔体一侧设置水蒸气发生装置，并在加热腔体上设置进气口，能够利用水蒸气软化沉积于加热腔体的上盖板上的颗粒物，使所述颗粒物易于去除，有效提高上盖板的清洁度，避免在后续其它基板的预烘烤制程中沉积于上盖板上的颗粒物掉落至其它基板上影响产品性能，提升光阻预烘烤制程的生产良率；另外，通过在传递装置的箱体底部设置抽风机，能够利用抽风机的抽风作用将扩散至所述箱体内的溶剂与光阻升华物有效去除，提高箱体内壁的清洁度，避免所述溶剂与光阻升华物在箱体内壁沉积形成颗粒物，防止颗粒物在基板的传递过程中掉落于基板上，提高生产良率。

【技术实现步骤摘要】
光阻预烘烤冷却系统
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种光阻预烘烤冷却系统。
技术介绍
随着显示技术的发展，液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄、无辐射等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括壳体、设于壳体内的液晶显示面板及设于壳体内的背光模组(Backlightmodule)。传统的液晶显示面板是由一片薄膜晶体管阵列基板(ThinFilmTransistorArraySubstrate，TFTArraySubstrate)与一片彩色滤光片基板(ColorFilterSubstrate，CFSubstrate)贴合而成，并在TFT基板与CF基板之间灌入液晶，其工作原理是通过在像素电极与公共电极之间施加驱动电压，利用像素电极与公共电极之间形成的电场来控制液晶层内的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。所述TFT基板与CF基板的生产制程均涉及光刻制程，其中，有机光阻层的光刻制程通常包括涂布光阻、真空干燥、预烘烤、冷却、曝光、显影制程，无机材料层的光刻制程通常包括涂布光阻、真空干燥、预烘烤、冷却、曝光、显影、蚀刻、剥离光阻制程。具体的，在基板上涂布光阻之后，通过真空干燥(VCD)设备抽出光阻(PR)中的部分溶剂(Solvent)，再经过预烘烤设备对光阻进行干燥和固化，去除经真空干燥环节后光阻中残留的溶剂，以增强光阻与基板的粘着性，从而达到更好的显影效果。在实际生产中，涂布光阻与真空干燥制程通常为一个生产单元，预烘烤与冷却制程为一个生产单元，如图1至图3所示，现有一种光阻预烘烤冷却系统600，用于在一个生产单元中执行光阻的预烘烤与冷却制程，所述光阻预烘烤冷却系统600包括：传递装置100、设于所述传递装置100周围的预烘烤装置200与冷却装置300；所述预烘烤装置200用于对基板500上的光阻510进行烘烤；所述传递装置100包括箱体1010、设于箱体1010上的多个窗口111、设于箱体1010内的机器人1100；所述传递装置100能够在所述预烘烤装置200、冷却装置300以及与所述光阻预烘烤冷却系统600相邻的真空干燥装置400之间执行基板500的传递；所述冷却装置300用于对烘烤后的基板500进行冷却；所述预烘烤装置200包括至少一个加热腔体2010，所述加热腔体2010包括相对设置的底板2110与上盖板2120、连接底板2110与上盖板2120的侧壁2130。在光阻510的预烘烤制程中，光阻510中的溶剂以及部分光阻材料容易从光阻510中挥发出来，当需要处理设备异常或者对设备进行维修保养时，所述预烘烤装置200的加热腔体2010会进行降温，此时挥发的溶剂与光阻升华物容易沉积于所述加热腔体2010的上盖板2120与开口2410处形成颗粒物，在后续其它基板500的烘烤制程中，所述颗粒物有可能掉落或者熔化滴至其它基板500上，导致其它基板500的产品质量受到影响。尤其在制作彩色滤光片基板中的平坦层时，从光阻510中挥发的光阻升华物在75℃～80℃即会附着于所述预烘烤装置200的加热腔体2010的上盖板2120上，在处理设备异常或者对设备进行维修保养时，所述预烘烤装置200的加热腔体2010的温度降至35℃左右，此时从光阻510中挥发的溶剂也会随着加热腔体2010的冷却附着在上盖板2120上或开口2410处，与光阻升华物一起形成颗粒物，从而对生产制程造成不良影响。另外，由于所述传递装置100的箱体1010具有多个窗口111且窗口111面积较大，因此在所述预烘烤装置200的加热腔体2010打开以进出基板500时，所述加热腔体2010中的溶剂与光阻升华物还会从所述加热腔体2010中扩散至所述传递装置100的箱体1010中，并沉积于所述箱体1010的内壁上形成颗粒物，在后续其它基板500的传递过程中，所述颗粒物有可能掉落至其它基板500上，导致其它基板500的产品质量受到影响。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种光阻预烘烤冷却系统，能够有效提高预烘烤装置的加热腔体的上盖板内表面以及传递装置的箱体内壁的清洁度，提高光阻预烘烤制程的生产良率。为实现上述目的，本专利技术提供一种光阻预烘烤冷却系统，包括：传递装置、设于所述传递装置周围的预烘烤装置与冷却装置；所述预烘烤装置包括至少一个烘烤单元，所述烘烤单元包括加热腔体及设于所述加热腔体一侧的热风发生装置与水蒸气发生装置；所述加热腔体包括相对设置的底板与上盖板、连接底板与上盖板的侧壁，所述侧壁上设有进风口、进气口及排气口；所述进气口设于所述进风口靠近上盖板一侧，所述排气口与所述进风口和进气口相对设置；所述热风发生装置靠近所述进风口设置，所述水蒸气发生装置靠近所述进气口设置。所述热风发生装置产生的热风的温度为大于或等于120℃。所述烘烤单元还包括与所述加热腔体的排气口相连的颗粒物截留装置以及与所述颗粒物截留装置的出口相连的排气管道。所述加热腔体具有至少一个开口。所述加热腔体的底板上设有承载装置，所述承载装置包括用于承载基板的载板与设于所述载板下方的加热器。所述预烘烤装置包括两个或者两个以上的烘烤单元，所述两个或者两个以上的烘烤单元层叠设置。所述传递装置包括箱体、设于箱体上的至少一个窗口、设于箱体内的机器人，所述机器人具有能够进出所述窗口的机械手臂。所述箱体的底部设有至少一台抽风机。所述箱体的底部设有围绕机器人周边均匀分布的四台抽风机。所述传递装置的箱体上共设有三个窗口，所述三个窗口分别对应与所述光阻预烘烤冷却系统相邻的真空干燥装置、预烘烤装置、冷却装置。本专利技术的有益效果：本专利技术的光阻预烘烤冷却系统通过在预烘烤装置的加热腔体一侧设置水蒸气发生装置，并在加热腔体上设置进气口，能够利用水蒸气软化沉积于加热腔体的上盖板上的颗粒物，使所述颗粒物易于去除，有效提高上盖板的清洁度，避免在后续其它基板的预烘烤制程中沉积于上盖板上的颗粒物掉落至其它基板上影响产品性能，提升光阻预烘烤制程的生产良率；另外，通过在传递装置的箱体底部设置抽风机，能够利用抽风机的抽风作用将扩散至所述箱体内的溶剂与光阻升华物有效去除，提高箱体内壁的清洁度，避免所述溶剂与光阻升华物在箱体内壁沉积形成颗粒物，防止颗粒物在基板的传递过程中掉落于基板上，提高生产良率。附图说明为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制。附图中，图1为现有的光阻预烘烤冷却系统的俯视示意图；图2为现有的光阻预烘烤冷却系统的预烘烤装置的加热腔体的正视示意图；图3为现有的光阻预烘烤冷却系统的传递装置的剖视示意图；图4为本专利技术的光阻预烘烤冷却系统的俯视示意图；图5为本专利技术的光阻预烘烤冷却系统的预烘烤装置的结构示意图；图6为本专利技术的光阻预烘烤冷却系统的预烘烤装置中的一个烘烤单元的剖视示意图；图7为本专利技术的光阻预烘烤冷却系统的预烘烤装置中的一个烘烤单元的正视示意图；图8为本专利技术的光阻预烘烤冷却系统的传递装置的俯视示意图；图9为本专利技术的光阻预烘烤冷却系本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光阻预烘烤冷却系统(60)，其特征在于，包括：传递装置(10)、设于所述传递装置(10)周围的预烘烤装置(20)与冷却装置(30)；所述预烘烤装置(20)包括至少一个烘烤单元(21)，所述烘烤单元(21)包括加热腔体(201)及设于所述加热腔体(201)一侧的热风发生装置(202)与水蒸气发生装置(203)；所述加热腔体(201)包括相对设置的底板(211)与上盖板(212)、连接底板(211)与上盖板(212)的侧壁(213)，所述侧壁(213)上设有进风口(231)、进气口(232)及排气口(233)；所述进气口(232)设于所述进风口(231)靠近上盖板(212)一侧，所述排气口(233)与所述进风口(231)和进气口(232)相对设置；所述热风发生装置(202)靠近所述进风口(231)设置，所述水蒸气发生装置(203)靠近所述进气口(232)设置。

【技术特征摘要】
1.一种光阻预烘烤冷却系统(60)，其特征在于，包括：传递装置(10)、设于所述传递装置(10)周围的预烘烤装置(20)与冷却装置(30)；所述预烘烤装置(20)包括至少一个烘烤单元(21)，所述烘烤单元(21)包括加热腔体(201)及设于所述加热腔体(201)一侧的热风发生装置(202)与水蒸气发生装置(203)；所述加热腔体(201)包括相对设置的底板(211)与上盖板(212)、连接底板(211)与上盖板(212)的侧壁(213)，所述侧壁(213)上设有进风口(231)、进气口(232)及排气口(233)；所述进气口(232)设于所述进风口(231)靠近上盖板(212)一侧，所述排气口(233)与所述进风口(231)和进气口(232)相对设置；所述热风发生装置(202)靠近所述进风口(231)设置，所述水蒸气发生装置(203)靠近所述进气口(232)设置。2.如权利要求1所述的光阻预烘烤冷却系统(60)，其特征在于，所述热风发生装置(202)产生的热风的温度为大于或等于120℃。3.如权利要求1所述的光阻预烘烤冷却系统(60)，其特征在于，所述烘烤单元(21)还包括与所述加热腔体(201)的排气口(233)相连的颗粒物截留装置(260)以及与所述颗粒物截留装置(260)的出口相连的排气管道(250)。4.如权利要求1所述的光阻预烘烤冷却系统(60)，其特征在于，所述加热腔体(201...

【专利技术属性】
技术研发人员：谌腾，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42