一种UV减粘膜及其制备方法技术

技术编号:18280849 阅读:189 留言:0更新日期:2018-06-23 21:12
本发明专利技术涉及保护膜技术领域,尤其是涉及一种UV减粘膜及其制备方法。所述UV减粘膜,包括依次贴合的基材层、UV减粘层和离型膜层,其中,所述UV减粘层是由所述UV减粘组合物涂布于基材层表面得到的,所述UV减粘组合物中包括抗静电剂;所述基材层的表面电阻率≤1011Ω/□。所述UV减粘膜的制备方法,将UV减粘组合物涂布于基材层表面,预烘后在UV减粘组合物上贴合离型膜层,熟化,得到所述UV减粘膜。所述UV减粘膜在UV照射前具有优异的粘合力,在UV照射后粘合力大幅下降易于剥离,并且与具有抗静电作用的基材协同使用,具有优异的防静电作用。

A UV submucous membrane and its preparation method

The invention relates to the technical field of protective films, in particular to a UV reducing mucosa and a preparation method thereof. The UV submucosa, including the sequentially fitted substrate layer, the UV adhesive layer and the off type film, is obtained by coating the UV adhesive layer on the substrate surface, and the UV adhesive composition includes an antistatic agent; the surface resistivity of the substrate layer is less than 1011 OMEGA / *. The preparation method of the UV mucous membrane is coated on the surface of the substrate layer by using the UV adhesive composition, and is prebaked on the UV adhesion composition to fit the isolated membrane layer, and is cooked to obtain the UV mucous membrane. The UV mucous membrane has excellent adhesive force before UV irradiation. The adhesive force decreases greatly after UV irradiation and is easily stripped, and is used in synergy with the antistatic substrate, and has excellent antistatic effect.

【技术实现步骤摘要】
一种UV减粘膜及其制备方法
本专利技术涉及保护膜
,尤其是涉及一种UV减粘膜及其制备方法。
技术介绍
在半导体制作过程中,进行半导体晶圆切割、打磨时,为降低硅薄层缺陷密度,常常使用晶圆切割减粘保护膜。减粘保护膜是指在使用时粘合力强,而在后期剥离过程中,粘合力减弱以便剥离。目前市场上的减粘保护膜多为UV减粘保护膜,是指在UV照射前具有高度粘合力,贴附性好,在UV照射后粘合力明显下降,易于剥离。国内市场上用于晶圆切割和捡取工艺等保护的UV减粘胶多以日本、中国台湾为主,国内UV减粘胶也有几家在研发推广,但性能尚未完全稳定。并且,UV减粘保护膜的基材在使用过程中由于摩擦作用很容易产生静电,在用于静电要求较高的电子零件领域的使用受到限制,比如容易吸附灰尘,然后转移到贴合的产品表面,或者静电电压过高,导致零件产生不良等。有鉴于此,特提出本专利技术。
技术实现思路
本专利技术的第一目的在于提供一种UV减粘膜,所述UV减粘膜在UV照射前具有优异的粘合力,在UV照射后粘合力大幅下降易于剥离,并且具有优异的防静电作用。本专利技术的另一目的在于提供一种所述UV减粘膜的制备方法,所述制备方法操作工艺简单,可重复性好。为了实现本专利技术的上述目的,特采用以下技术方案:一种UV减粘膜,包括依次贴合的基材层UV减粘层和离型膜层,其中,所述UV减粘层是由所述UV减粘组合物构成,所述UV减粘组合物中包括抗静电剂;所述基材层的表面电阻率≤1011Ω/□。本专利技术采用了具有抗静电作用的基材层和UV减粘层,双层协同作用,增强了所述UV减粘层的抗静电性能,并且所述UV减粘膜在UV照射前具有优异的粘合力,在UV照射后粘合力大幅下降易于剥离。优选的,所述基材层包括抗静电PET薄膜、抗静电PO薄膜、抗静电PVC薄膜中的任一种。更优选的,所述基材层的厚度为50-150μm,优选75-125μm,更优选为100μm。优选的,所述UV减粘层的厚度为10-30μm,优选为15-25μm,更优选为20μm。优选的,所述离型膜层为PET离型膜层,更优选的,所述离型膜层的离型力为10-100gf,进一步优选的,所述离型膜层的厚度为20-50μm。优选的,所述UV减粘组合物,主要由按重量百分比计的如下原料制成:丙烯酸酯压敏胶树脂20%-50%、多官能度低聚物和/或多官能度单体1%-30%、交联剂0.3%-2%、抗静电剂0.1%-5%、分散剂0-2%、流平剂0.2%-2%、光引发剂0.5%-5%和溶剂25%-60%。本专利技术通过上述原料制备得到的UV减粘组合物,具有优异的粘合力,UV照射前具有高粘合力,剥离力高,UV照射后具有低粘合力,UV剥离力低,抗静电效果好。所述多官能度低聚物和/或多官能度单体经UV照射后自身产生交联反应,交联反应后产生较大体积收缩使所述UV减粘组合物与被粘合物体表面之间产生褶皱,褶皱大的位置产生微孔,使UV减粘组合物与被粘合物体表面之间接触面积减小,从而实现减粘作用。丙烯酸酯压敏胶树脂,在较小的作用力下,即可形成牢固的粘合力,无需借助其他手段,便可与被粘物紧密粘接。优选的,所述抗静电剂包括有机抗静电剂、无机填料型抗静电剂和复合型抗静电剂中的一种或多种。更优选包括GW-2008抗静电剂、GW-2006抗静电剂和GW-3000C抗静电剂中的一种或多种。前述抗静电剂为深圳市汇高金标科技有限公司的。优选的,所述无机填料型抗静电剂包括纳米石墨粉、纳米石墨烯、碳纳米管和纳米银线中的一种或多种。优选的,所述纳米石墨粉的粒径为50-100nm。优选的,所述纳米石墨烯粒径为5-20nm。优选的,所述纳米银线线径为20-80nm。优选的,所述碳纳米管的直径为5-30nm,长度为1-30μm。优选的,所述丙烯酸酯压敏胶树脂为溶剂型丙烯酸酯压敏胶粘剂。更优选的,所述丙烯酸酯压敏胶树脂的分子量为10万-200万。进一步优选的,所述溶剂型丙烯酸酯压敏胶粘剂的固含量为20%-60%,粘度为200cps-20000cps。优选的,所述多官能度低聚物包括脂肪族聚氨酯丙烯酸酯低聚物和环氧丙烯酸酯低聚物中的一种或两种。优选的,所述多官能度单体包括季戊四醇四丙烯酸酯、双季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯、丙烯酰胺、二甲基丙烯酸-1,6-己二醇酯、二丙烯酸-1,6-己二醇酯、二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸三甘醇酯、二丙烯酸三丙二醇酯、二丙烯酸对新戊二醇酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基戊烷三甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷季戊四醇三丙烯酸酯、丙氧化新戊二醇二丙烯酸酯、乙氧化1,6-己二醇二丙烯酸酯和三(2-丙烯酰氧乙基)异氰脲酸酯中的一种或多种。优选的,所述交联剂包括异氰酸酯类交联剂、胺类交联剂、氮丙啶类交联剂中的一种或多种,优选为异氰酸酯类交联剂。优选的,所述异氰酸酯类交联剂包括异佛尔酮二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、二环己基甲烷二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯和四甲基苯二亚甲基二异氰酸酯中的一种或多种。更优选的,所述交联剂为六亚甲基二异氰酸酯,优选为N3390(拜耳公司)交联剂。优选的,所述胺类交联剂包括二亚乙基三胺、三亚乙基四胺和六次甲基四胺中的一种或多种。优选的,所述分散剂包括BYK-170、BYK-164、BYK-180、BYK-182、Lencolo1104和Lencolo1105中的一种或多种。所述BYK-170、BYK-164、BYK-180、BYK-182为德国毕克公司的,所述Lencolo1104和Lencolo1105为东莞市叁漆化工原料有限公司的。优选的,所述流平剂包括Lencolo3001、Lencolo3003、BYK-333、BYK-306、BYK-390、BYK-354和BYK-380中的一种或多种。所述Lencolo3001、Lencolo3003为东莞市叁漆化工原料有限公司的,所述BYK-333、BYK-306、BYK-390、BYK-354和BYK-380为德国毕克公司的。优选的,所述光引发剂包括2-异丙基硫杂蒽酮(ITX)、1-羟基环己基苯基甲酮(184)、2-羟基-甲基苯基丙、安息香双甲醚(651)、二甲苯酮(BP)、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮(907)、2,4,6-(三甲基苯甲酰基)-二苯基氧化膦(TPO)、烷-1-酮(1173)、DR-575中的一种或多种,优选为2,4,6-(三甲基苯甲酰基)-二苯基氧化膦(TPO)。优选的,所述溶剂包括丙酮、环己酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丁酮、甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、异丁醇、正丁醇、甲基异丁酮、异佛尔酮、甲苯、二甲苯、丙二醇甲醚、二丙二醇甲醚中的一种或多种,优选为丁酮。所述UV减粘组合物的方法不唯一,可将上述原料按比例混合搅拌均匀,即得UV减粘组合物。优选搅拌时间为1-5h,更优选为2h。本专利技术还提供了一种所述UV减粘膜的制备方法,包括如下步骤:将UV减粘组合物涂布于基材层表面,预烘后在UV减粘组合物上贴合离型膜层,熟化,得到所述UV减粘膜。优选的,所述预烘包括在100±10℃条件下烘1-5min,优选为在100℃条件下烘2min。优本文档来自技高网...
一种UV减粘膜及其制备方法

【技术保护点】
1.一种UV减粘膜,其特征在于,包括依次贴合的基材层、UV减粘层和离型膜层,其中,所述UV减粘层是由所述UV减粘组合物构成,所述UV减粘组合物中包括抗静电剂;所述基材层的表面电阻率≤1011Ω/□;优选的,所述基材层包括抗静电PET薄膜、抗静电PO薄膜、抗静电PVC薄膜中的任一种。

【技术特征摘要】
1.一种UV减粘膜,其特征在于,包括依次贴合的基材层、UV减粘层和离型膜层,其中,所述UV减粘层是由所述UV减粘组合物构成,所述UV减粘组合物中包括抗静电剂;所述基材层的表面电阻率≤1011Ω/□;优选的,所述基材层包括抗静电PET薄膜、抗静电PO薄膜、抗静电PVC薄膜中的任一种。2.根据权利要求1所述的UV减粘膜,其特征在于,所述基材层的厚度为50-150μm;优选的,所述基材层的厚度为75-125μm;优选的,所述基材层的厚度为100μm;优选的,所述UV减粘层的厚度为10-30μm;优选的,所述UV减粘层的厚度为15-25μm;优选的,所述UV减粘层的厚度为20μm;优选的,所述离型膜层为PET离型膜层,更优选的,所述离型膜层的离型力为10-100gf,进一步优选的,所述离型膜层的厚度为20-50μm。3.根据权利要求1或2所述的UV减粘膜,其特征在于,所述UV减粘组合物主要由按重量百分比计的如下原料制成:丙烯酸酯压敏胶树脂20%-50%、多官能度低聚物和/或多官能度单体1%-30%、交联剂0.3%-2%、抗静电剂0.1%-5%、分散剂0-2%、流平剂0.2%-2%、光引发剂0.5%-5%和溶剂25%-60%。4.根据权利要求3所述的UV减粘膜,其特征在于,所述抗静电剂包括有机抗静电剂、无机填料型抗静电剂和复合型抗静电剂中的一种或多种;优选的,所述无机填料型抗静电剂包括纳米石墨粉、纳米石墨烯、碳纳米管和纳米银线中的一种或多种;更优选的,所述纳米石墨粉的粒径为50-100nm;更优选的,所述纳米石墨烯粒径为5-20nm;更优选的,所述纳米银线线径为20-80nm;更优选的,所述碳纳米管的直径为5-30nm,长度为1-30μm。5.根据权利要求3所述的UV减粘膜,其特征在于,所述丙烯酸酯压敏胶树脂为溶剂型丙烯酸酯压敏胶粘剂;优选的,所述丙烯酸酯压敏胶树脂的分子量为10万-200万;优选的,所述溶剂型丙烯酸酯压敏胶粘剂的固含量为20%-60%,粘度为200cps-20000cps。6.根据权利要求3所述的UV减粘膜,其特征在于,所述多官能度低聚物包括脂肪族聚氨酯丙烯酸酯低聚物和环氧丙烯酸酯低聚物中的一种或两种;优选的,所述多官能度单体包括季戊四醇四丙烯酸酯、双季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三...

【专利技术属性】
技术研发人员:闫勇陈伟
申请(专利权)人:苏州城邦达力材料科技有限公司
类型:发明
国别省市:江苏,32

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