制造液晶显示面板的方法技术

技术编号:18255592 阅读:31 留言:0更新日期:2018-06-20 07:41
本发明专利技术提供了一种制造液晶显示面板的方法,所述方法包括以下步骤:提供滤色器基底;在滤色器基底上设置包括光阻材料和导电材料的平坦化层,并使导电材料在光阻材料中沉积;对导电材料已沉积的平坦化层进行蚀刻,以形成具有支撑图案的平坦化层;在平坦化层上设置取向层;在取向层上设置液晶层;在液晶层上设置阵列基底,从而形成液晶显示面板,其中,所述导电材料包括碳纳米管、石墨烯、导电高分子、纳米级导电金属线、导电金属颗粒中的至少一种。

The method of making liquid crystal display panel

The present invention provides a method for producing a liquid crystal display panel. The method comprises the following steps: providing a color filter substrate, setting a flat layer including a photoresist material and a conductive material on the color filter substrate, and depositing the conductive material in the photoresist material; etched on the planarization layer deposited by the conductive material, A flat layer with a supporting pattern is formed, an orientation layer is set on the planarization layer, a liquid crystal layer is set on the orientation layer, an array substrate is set on the liquid crystal layer, and the liquid crystal display panel is formed, in which the conductive material includes carbon nanotubes, graphene, conductive polymer, nanometer conducting metal wire and conducting metal. At least one of the particles.

【技术实现步骤摘要】
制造液晶显示面板的方法
本专利技术涉及显示
,更具体地,一种制造液晶显示面板的方法。
技术介绍
目前随着薄膜晶体管液晶显示装置(TFT-LCD)技术越趋成熟,显示效果有了明显大幅度提高,因此能够呈现出较高的视觉效果。根据液晶的取向而不同地设置电极的液晶显示技术包括高垂直取向(HVA)技术、平面转换(IPS)技术和聚合物稳定的垂直排列(PSVA)等。对于上述技术,液晶所处的层的平坦化程度对液晶影响较大,因此会影响取向过程,进而影响液晶显示装置的最终显示效果。因此,急需开发新材料以及新技术解决这一难题。图1示意性地示出了现有技术的液晶显示面板的分解视图。如图1中所示,根据现有技术的液晶显示面板100可以包括滤色器基底10、阵列基底20以及位于滤色器基底10和阵列基底20之间的液晶层30。在滤色器基底10中,由于在1位置处存在栅极线且在2位置处存在数据线,因此,在1位置和2位置处存在凸起结构。此外,在形成滤色器膜之后,滤色器膜的相应位置也存在凸起的结构,这会导致具有凸起结构的1位置和2位置与边缘无凸起的位置存在层差,使得液晶30将在这两个位置处存在取向的差异,进而引起凸起的边缘位置漏光、色偏等问题。同时,由于滤色器膜的透光率不同,为提高色域,需要提供具有不同厚度的滤色器膜(例如,蓝色滤色器膜的厚度高于红色滤色器膜和绿色滤色器膜的厚度,而这样也会导致不同的滤色器膜之间存在层差。以上两者对液晶取向影响较大,进而对显示装置的光学表现影响较大。现有技术中,为解决上述技术问题,普遍采用在滤色器基底10上设置平坦化层的手段。图2示出了根据现有技术的其上具有平坦化层滤色器基底。虽然图2中示出的其上设置有平坦化层40的滤色器基底10能够提高液晶30的取向效果,并最终降低因液晶30偏转异常而造成的漏光,但液晶显示面板的制程上多出了一道平坦化层40的制备工艺,因而增加了成本负担,不利于规模化生产。
技术实现思路
本专利技术构思的示例性实施例提供了一种制造液晶显示面板的方法以克服
技术介绍
中描述的现有技术的不足。在本专利技术构思的示例性实施例中,制造液晶显示面板的方法包括以下步骤:提供滤色器基底;在滤色器基底上设置包括光阻材料和导电材料的平坦化层,并使导电材料在光阻材料中沉积;对导电材料已沉积的平坦化层进行图案化,以形成具有支撑图案的平坦化层;在平坦化层上设置取向层;在取向层上设置液晶层;在液晶层上设置阵列基底,从而形成液晶显示面板,其中,所述导电材料包括碳纳米管、石墨烯、导电高分子、纳米级导电金属线、导电金属颗粒中的至少一种。根据本专利技术构思的示例性实施例,所述导电材料可以具有1nm-100nm的尺寸。根据本专利技术构思的示例性实施例,设置平坦化层的步骤可以包括:在光阻材料中混入导电材料,所述导电材料按质量百分比计占光阻材料的0.05%-20%;使导电材料分散在光阻材料中。根据本专利技术构思的示例性实施例,设置平坦化层的步骤还可以包括:采用搅拌和/或超声的方法促进导电材料在光阻材料中的分散。根据本专利技术构思的示例性实施例,设置平坦化层的步骤还可以包括:在将导电材料混入到光阻材料中之前,可以对导电材料进行改性,从而可以促进导电材料在光阻材料中的分散。根据本专利技术构思的示例性实施例,导电材料可以包括碳纳米管,其中,对导电材料进行改性可以包括对碳纳米管的表面进行改性,从而可以使碳纳米管具有促进在光阻材料中分散的基团。根据本专利技术构思的示例性实施例,在设置平坦化层的步骤中,所述平坦化层可以具有0.5μm-5μm的厚度。根据本专利技术构思的示例性实施例,设置所述平坦化层的方法可以包括旋转涂覆、喷墨打印和挂涂中的一种。根据本专利技术构思的示例性实施例,对平坦化层进行图案化的步骤可以包括:在已沉积的平坦化层上设置光掩模,对覆盖有光掩模的平坦化层进行曝光和显影。根据本专利技术构思的示例性实施例,光掩模可以包括半色调掩模或灰色调掩模。通过上面对本专利技术构思的部分描述,本专利技术构思通过在用作平坦化层的光阻材料中加入导电材料,从而可以一次性制备平坦化层及导电电极,因此可以同时实现基底的平坦化及共电极的制备。附图说明图1示意性地示出了现有技术的液晶显示面板的分解视图;图2示意性地示出了现有技术的其上设置有平坦化层的滤色器基底的示意图;图3-图9示意性地示出了根据本专利技术构思的示例性实施例的制造液晶显示面板的方法,其中,图8是沿图7的线A-A’截取的剖视图。具体实施方式提供以下具体实施方式,以帮助读者获得对在此描述的方法、设备和/或系统的全面理解。然而,在理解了本申请的公开内容后,在此所描述的方法、设备和/或系统的各种改变、变型及等同物将是显而易见的。例如,在此描述的操作顺序仅仅是示例,且不限于在此所阐述的示例,而是除了必须按照特定顺序发生的操作外,可在理解了本申请的公开内容后做出将是显而易见的改变。此外,为了增加清楚性和简洁性,可省略本领域中已知的特征的描述。在此描述的特征可按照不同的形式实施,并且将不被解释为局限于在此描述的示例。更确切地说,已经提供在此描述的示例,仅仅为了示出在理解了本申请的公开内容后将是显而易见的实现在此描述的方法、设备和/或系统的许多可行方式中的一些可行方式。在整个说明书中,当元件(诸如层、区域或基底)被描述为“在”另一元件“上”、“连接到”另一元件或“结合到”另一元件时,其可直接“在”另一元件“上”、“连接到”另一元件或“结合到”另一元件,或者可存在介于他们之间的一个或更多个其他元件。相比之下,当元件被描述为“直接在”另一元件“上”、“直接连接到”另一元件或“直接结合到”另一元件时,可不存在介于他们之间的其他元件。如在此使用的术语“和/或”包括相关所列项中的任意一个和任意两个或更多个的任意组合。虽然诸如“第一”、“第二”和“第三”的术语可在此用于描述各种构件、组件、区域、层或部分,但是这些构件、组件、区域、层或部分不受这些术语限制。更确切地说,这些术语仅用于将一个构件、组件、区域、层或部分与另一构件、组件、区域、层或部分区分开。因此,在不脱离示例的教导的情况下,在此描述的示例中涉及到的第一构件、组件、区域、层或部分还可被称为第二构件、组件、区域、层或部分。为了方便描述,在此可使用诸如“在……之上”、“上方”、“在……之下”以及“下方”的空间相对术语来描述如附图中所示的一个元件与另一元件的关系。这样的空间相对术语意在除了包含附图中描绘的方位之外还包含装置在使用或操作中的不同方位。例如,如果附图中的装置被翻转,则被描述为相对于另一元件位于“之上”或“上方”的元件随后将相对于另一元件位于“之下”或“下方”。因此,术语“在……之上”根据装置的空间方位包括“在……之上”和“在……之下”两种方位。装置还可以以其他的方式被定位(例如,旋转90度或处于其他方位),并将对在此使用的空间相对术语做出相应的解释。在此使用的术语仅是为了描述各种示例,而不被用来限制本公开。除非上下文另外清楚地指明,否则单数形式也意在包含复数形式。术语“包含”、“包括”以及“具有”列举存在所陈述的特征、数量、操作、构件、元件和/或他们的组合,但不排除存在或添加一个或更多个其他特征、数量、操作、构件、元件和/或他们的组合。由于制造技术和/或公差,可发生附图中所示出的形状的变化。因此,在此描述的示例并不本文档来自技高网
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制造液晶显示面板的方法

【技术保护点】
1.一种制造液晶显示面板的方法,所述方法包括以下步骤:提供滤色器基底;在滤色器基底上设置包括光阻材料和导电材料的平坦化层,并使导电材料在光阻材料中沉积;对导电材料已沉积的平坦化层进行图案化,以形成具有支撑图案的平坦化层;在平坦化层上设置取向层;在取向层上设置液晶层;在液晶层上设置阵列基底,从而形成液晶显示面板,其中,所述导电材料包括碳纳米管、石墨烯、导电高分子、纳米级导电金属线、导电金属颗粒中的至少一种。

【技术特征摘要】
1.一种制造液晶显示面板的方法,所述方法包括以下步骤:提供滤色器基底;在滤色器基底上设置包括光阻材料和导电材料的平坦化层,并使导电材料在光阻材料中沉积;对导电材料已沉积的平坦化层进行图案化,以形成具有支撑图案的平坦化层;在平坦化层上设置取向层;在取向层上设置液晶层;在液晶层上设置阵列基底,从而形成液晶显示面板,其中,所述导电材料包括碳纳米管、石墨烯、导电高分子、纳米级导电金属线、导电金属颗粒中的至少一种。2.如权利要求1所述的方法,其中,所述导电材料具有1nm-100nm的尺寸。3.如权利要求1或2所述的方法,其中,设置平坦化层的步骤包括:在光阻材料中混入导电材料,所述导电材料按质量百分比计占光阻材料的0.05%-20%;使导电材料分散在光阻材料中。4.如权利要求3所述的方法,其中,设置平坦化层的步骤还包括:采用搅拌和/或超声的方法...

【专利技术属性】
技术研发人员:王海军
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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