掩模盒制造技术

技术编号:18195177 阅读:24 留言:0更新日期:2018-06-13 02:41
根据一个实施方式的掩模盒包括:插槽形成部,用于装载掩模;上部框架,用于盖住上述插槽形成部的上部;下部框架,设置于上述插槽形成部的下部;侧面框架,沿着上下方向延伸并连接于上述上部框架与上述下部框架之间,用于支撑上述插槽形成部;以及衬垫,与上述插槽形成部的上部面相结合,并与上述掩模相接触,由强度高于上述插槽形成部的材料形成。

Mask box

A mask box based on an implementation includes a slot forming section for loading a mask; the upper frame is used to cover the upper part of the above slot forming part; the lower frame is set at the lower part of the above slots forming part; the side frame extends along the upper and lower directions and connects the upper upper frame to the above lower frame. It is used to support the above slots forming part; and the liner is combined with the upper face of the slots forming part and is contacted with the mask, and the material is formed by the strength higher than the groove forming part.

【技术实现步骤摘要】
掩模盒
本专利技术涉及掩模盒。
技术介绍
作为平板显示元件中的一种的有机电致发光显示器(OLED,OrganicLightEmittingDisplay)为通过有机物的自发光来实现彩色图像的超轻薄型显示设备,其结构简单且光效率高,因此,作为下一代有前途的显示设备备受关注。为了实现全彩(fullcolor),有机电致发光显示器需对发光层进行图案化,在此情况下,可采用诸如利用精细金属掩模(FMM,FineMetalMask,以下称为“掩模”)的直接图案化方式、采用激光感热成像(LITI,LaserInducedThermalImaging)工艺的方式、利用滤色器(colorfilter)的方式等。当采用掩模方式来制造大型OLED时,可采用在腔室内水平配置基板和经图案化(patterning)的掩模后进行蒸镀的所谓水平式向上蒸镀工艺。根据水平式向上蒸镀工艺,在使相对于腔室等的底面水平配置的基板和掩模相互对准后接合,在水平状态下向大型基板蒸镀有机物。为了在腔室内对基板和掩模进行蒸镀,需向腔室内部供给掩模,此时,掩模在装载于盒(cassette)内的状态下以盒状态供给。在作为现有文献的韩国公开专利公报第10-2013-0078373号中公开了“盒操作装置及包括它的盒供给系统”。在上述现有文献中所公开的盒为用于装载多个掩模的一种框架,在一个盒中配置多张掩模。此外,上述盒中设置有支撑每个掩模的多个插槽形成部。另一方面,在以往的盒中,当将掩模装载于插槽形成部时,在插槽形成部中因与掩模的摩擦而产生的微粒(particle)会附着于掩模,这将导致在掩模图案化过程中出现次品。此外,在将掩模装载于盒之前,需要进行利用水清洗盒的工序,在以往的盒中,清洗后残留在盒表面的水会与掩模相接触,这将导致在掩模图案化过程中出现次品。
技术实现思路
本专利技术的目的在于,提供如下的掩模盒:可通过在插槽形成部设置衬垫,来解决在将掩模装载于插槽形成部时在插槽形成部中产生微粒的问题。此外,本专利技术的目的在于,提供如下的掩模盒:显著减少在图案化过程中所产生的次品率。此外,本专利技术的目的在于,提供如下的掩模盒:通过在盒中形成有排水水路,使清洗盒后所残留的水分顺畅地排出,从而可防止在掩模图案化的过程中因水分而产生的次品。根据一个实施方式的掩模盒包括:插槽形成部,掩模装载于上述插槽形成部;上部框架,用于盖住上述插槽形成部的上部;下部框架,设置于上述插槽形成部的下部;侧面框架,向上下方向延伸并连接于上述上部框架与上述下部框架之间,用于支撑上述插槽形成部;以及衬垫,与上述插槽形成部的上部面相结合,并与上述掩模相接触,由强度高于上述插槽形成部的材料形成,上述插槽形成部包括:本体部,配置于上述掩模的两侧下部;延伸部,从上述本体部的两侧端部朝向内侧向水平方向延伸;以及挡止部,在上述插槽形成部的两侧端部朝向上侧突出,用于防止上述掩模的移动,上述衬垫包括:前方衬垫及后方衬垫,分别设置于上述插槽形成部的前方和后方;以及中间衬垫,设置于上述插槽形成部的中间,在上述衬垫的底面部设置有用于与上述插槽形成部相结合的连接部件,上述连接部件压入于上述衬垫的底面部与上述衬垫相结合,上述衬垫的上部面维持平面状态。附图说明图1为根据本专利技术一个实施例的掩模盒的立体图。图2为图1的掩模盒的仰视立体图。图3为图1的掩模盒的左侧视图。图4为在图1的掩模盒中装载有掩模的状态的主视图。图5为图1的插槽形成部的立体图。图6为图5的第一衬垫的立体图。图7为图5的第一衬垫的仰视立体图。图8为图5的第二衬垫的立体图。图9为在图1的掩模盒中除去了上部框架的状态的俯视图。图10为示出在图1的掩模盒中除去了上部框架及插槽形成部的状态的图。图11为图1的上部框架的俯视图。图12为图1的上部框架的仰视图。图13为沿着图11的I-I'切开的剖视图。具体实施方式以下,通过例示性的附图来对本专利技术的若干实施例进行详细说明。需注意的是,在对各个附图中的结构要素赋予附图标记的过程中,即使出现在不同附图,但对相同的结构要素尽可能赋予相同的附图标记。此外,在对本专利技术的实施例进行说明的过程中,若判断对于相关的公知结构或功能的具体说明妨碍对于本专利技术实施例的理解,则省略其详细说明。此外,在对本专利技术实施例的结构要素进行说明的过程中,可使用第一、第二、A、B、(a)、(b)等的术语。这些术语用于将该结构要素区别于其它结构要素,但相应结构要素的本质或顺序等不被上述术语限定。在记载有一个结构要素与另一个结构要素“相连接”、“相结合”或“相联接”的情况下,不仅可以理解成该结构要素与该另一个结构要素直接连接或联接,也可以理解成各结构要素之间“连接”、“结合”或“联接”有其他结构要素。图1为本专利技术一个实施例的掩模盒的立体图,图2为图1的掩模盒的仰视立体图,图3为图1的掩模盒的侧视图,图4为在图1的掩模盒中装载有掩模的状态的主视图。参照图1至图4,本专利技术一个实施例的掩模盒10包括用于支撑掩模组件2的多个插槽形成部101、102。掩模组件2包括掩模及用于支撑上述掩模的掩模框架。上述多个插槽形成部101、102包括:第一插槽形成部101,用于支撑上述掩模组件2的一侧;以及第二插槽形成部102,用于支撑上述掩模组件2的另一侧。即,上述第一插槽形成部101和上述第二插槽形成部102作为一组(set,套)支撑一个上述掩模组件2。上述第一插槽形成部101和上述第二插槽形成部102呈相互对称的形状,能够以相同的高度设置,从而水平支撑上述掩模组件2。如图所示,上述第一插槽形成部101和上述第二插槽形成部102可分别设置有多个。由此,上述掩模盒10可支撑多个掩模组件2。此外,多个第一插槽形成部101和多个第二插槽形成部102可分别沿着上下方向隔开配置。因此,各掩模组件2能够以隔开的方式装载。上述掩模盒10还可包括多个侧面框架201、202。具体地,上述多个侧面框架201、202包括:第一侧面框架201,用于固定上述第一插槽形成部101;以及第二侧面框架202,用于固定上述第二插槽形成部102。上述第一侧面框架201和上述第二侧面框架202可呈朝向上侧延伸的形状,上述第一侧面框架201可与多个第一插槽形成部101相结合,上述第二侧面框架202可与多个第二插槽形成部102相结合。如图3所示,上述第一侧面框架201可设置有多个(附图标记201、203、205、207、209)。但是,上述第一侧面框架201、203、205、207、209的数量可根据设计适当地变化。此外,虽未图示,与上述第一侧面框架201相同地,上述第二侧面框架202也可设置有多个。进而,上述第二侧面框架202可与上述第一侧面框架201对称。这样,多个第一插槽形成部101与多个第一侧面框架201结合为呈格子状,多个第二插槽形成部102与多个第二侧面框架202结合为呈格子状。上述掩模盒10还可包括上部框架300,上述上部框架300用于盖住上述多个插槽形成部101、102的上部。上述上部框架300可与上述第一侧面框架201及上述第二侧面框架202的上端相结合。上述上部框架300通过盖住装载于上述多个插槽形成部101、102的掩模组件2的上部来防止水等异物落于上述掩模组件2。上述掩模盒10还可包括下部框架400,上述下部本文档来自技高网
...
掩模盒

【技术保护点】
一种掩模盒,其特征在于,包括:插槽形成部,掩模装载于上述插槽形成部;上部框架,盖住上述插槽形成部的上部;下部框架,设置于上述插槽形成部的下部;侧面框架,向上下方向延伸并连接于上述上部框架与上述下部框架之间,并支撑上述插槽形成部;以及衬垫,与上述插槽形成部的上部面相结合,并与上述掩模相接触,由强度高于上述插槽形成部的材料形成,上述插槽形成部包括:本体部,配置于上述掩模的两侧下部;延伸部,从上述本体部的两侧端部朝向内侧向水平方向延伸;以及挡止部,在上述插槽形成部的两侧端部朝向上侧突出,用于防止上述掩模的移动,上述衬垫包括:前方衬垫及后方衬垫,分别设置于上述插槽形成部的前方和后方;以及中间衬垫,设置于上述插槽形成部的中间,在上述衬垫的底面部设置有用于与上述插槽形成部相结合的连接部件,上述连接部件压入于上述衬垫的底面部而与上述衬垫相结合,从而上述衬垫的上部面维持平面状态。

【技术特征摘要】
2016.12.06 KR 10-2016-01653961.一种掩模盒,其特征在于,包括:插槽形成部,掩模装载于上述插槽形成部;上部框架,盖住上述插槽形成部的上部;下部框架,设置于上述插槽形成部的下部;侧面框架,向上下方向延伸并连接于上述上部框架与上述下部框架之间,并支撑上述插槽形成部;以及衬垫,与上述插槽形成部的上部面相结合,并与上述掩模相接触,由强度高于上述插槽形成部的材料形成,上述插槽形成部包括:本体部,配置于上述掩模的两侧下部;延伸部,从上述本体部的两侧端部朝向内侧向水平方向延伸;以及挡止部,在上述插槽形成部的两侧端部朝向上侧突出,用于防止上述掩模的移动,上述衬垫包括:前方衬垫及后方衬垫,分别设置于上述插槽形成部的前方和后方;以及中间衬垫,设置于上述插槽形成部的中间,在上述衬垫的底面部设置有用于与上述插槽形成部相结合的连接部件,上述连接部件压入于上述衬垫的底面部而与上述衬垫相结合,从而上述衬垫的上部面维持平面状态。2.根据权利要求1所述的掩模盒,其特征在于,上述衬垫由不锈钢材料形成。3.根据权利要求1所述的掩模盒,其特征在于,在上述衬垫形成有类金刚石碳涂敷层。4.根据权利要求1所述的掩模盒,其特征在于,上述衬垫的至少一部分呈与上述掩模的边缘部分的形状相对应的形状。5.根据权利要求1所述的掩模盒,其特征在于,在上述下部框架设...

【专利技术属性】
技术研发人员:梁落云
申请(专利权)人:成进半导体技术有限公司
类型:发明
国别省市:韩国,KR

相关技术
    暂无相关专利
网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1